In this work, we developed silver nanowires and a silicon based Schottky junction and demonstrated ultrafast broadband photosensing behavior. The current device had a response speed that was ultrafast, with a rising time of 36 ㎲ and a falling time of 382 ㎲, and it had a high level of repeatability across a broad spectrum of wavelengths (λ = 365 to 940 nm). Furthermore, it exhibited excellent responsivity of 60 mA/W and a significant detectivity of 3.5 × 1012 Jones at a λ = 940 nm with an intensity of 0.2 mW cm-2 under zero bias operating voltage, which reflects a boost of 50 %, by using the AC PV effect. This excellent broadband performance was caused by the photon-induced alternative photocurrent effect, which changed the way the optoelectronics work. This innovative approach will open a second door to the potential design of a broadband ultrafast device for use in cutting-edge optoelectronics.
Mamun, Abdulla Hel Al;Son, Seung-Bae;Hahn, Jae-Ryang
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제32권1호
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pp.281-285
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2011
We investigated the effects of tunneling current on scanning tunneling microscopy (STM) images of 1-octanethiol (OT) and 1-decanethiol (DT) self-assembled monolayers (SAMs). At a low tunneling current, the domain boundaries and ordered alkanethiol molecules were clearly resolved. As the tunneling current was increased at a constant bias voltage, however, the STM images showed disordered structures of the OT and DT SAMs. As the tunneling current was reduced back to low values, the ordered structures of the alkanethiol molecules reappeared. The reversibility of the process suggests that the sulfur head groups did not rearrange under any of the tunneling current conditions. On the basis of our observations, which are inconsistent with the standard model for STM imaging of molecules on metal surfaces, we consider the STM imaging mechanism in terms of a two-region tunneling junction model.
벤젠과 암모니아가 혼합된 합성 개스의 r.f. 글로우 방전을 이용하여 질소함유 다이 아몬드성 카본필름을 합성하였다. 합성개스내의 암모니아 개스 분율을 0에서 0.79까지 변화 시키고 바이아스 음전압은 100V에서 900V까지 변화시키면서 합성된 필름의 조성과 구조, 그리고 잔류응력 및 경도등 기계적 특성을 조사하였다. 합성개스내의 암모니아 분율이 0.79 까지 증가함에 따라 필름의 압축 잔류응력이 1.7GPa에서 1.0GPa로 감소하였으며, 필름의 경 도도 2750Kgf/$\textrm{mm}^2$에서 1700Kgf/$\textrm{mm}^2$로 감소하였다. 질소를 함유한 필름에서는 탄소와 삼 중결합을 하는 질소가 관찰되었으며, 이러한 질소는 수소와 함께 inter-link의 양을 감소시 키는 역할을 한다. 따라서, 암모니아의 첨가에 따라 발생하는 필름내의 수소함량 변화와 질 소의 결합형태를 조사하므로써, 필름의 기계적 특성이 $sp^2$ cluster의 3차원적 inter-link에 크 게 의존하고 있음을 보여줄 수 있었다. 한편, 바이아스 전압의 증가에 따른 기계적 특성의 변화는 질소를 함유하지 않은 경우와 정성적으로 같은 거동을 보이고 있었다.
Chun, Hui-Gon;Oskomov, Konstantin V.;Sochugov, Nikolay S.;Lee, Jing-Hyuk;You, Yong-Zoo;Cho, Tong-Yul
반도체디스플레이기술학회지
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제2권1호
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pp.1-5
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2003
Plasma generator based on non-self-sustained low-pressure arc discharge has been examined as a tool for deposition of highly-adhesive hydrogenated amorphous diamond-like carbon(DLC) films. Since the discharge is stable in wide range of gas pressures and currents, this plasma source makes possible to realize both plasma-immersion ion implantation(PIII) and plasma-immersion ion deposition(PIID) in a unified vacuum cycle. The plasma parameters were measured as functions of discharge current. Discharge and substrate bias voltage parameters have been determined for the PIII and PIID modes. For PIID it has been demonstrated that hard and well-adherent DLC coating are produced at 200-500 eV energies per deposited carbon atom. The growth rates of DLC films in this case are about 200-300 nm/h. It was also shown that short(∼60$\mu\textrm{s}$) high-voltage(> 1kV) substrate bias pulses are the most favorable for achieving high hardness and good adhesion of DLC, as well as for reducing of residual intrinsic stress are.
rf PECVB법을 이용하여 붕규산 유리 기판 위에 diamond like carbon(DLC) 박막을 증착하였다. 메탄(CH$_4$)-수소(H$_2$) 혼합 가스를 전구체 가스로 사용하였다. DLC 박막의 형상, 구조 및 광학적 특성은 SEM, 라만 및 UV 스펙트럼으로 분석하였다. 증착 속도는 혼합 가스의 수소 농도에 따라 증가하다가, 혼합 가스 유량이 25 sccm 이상에서는 일정하게 되었다. UV스펙트럼으로 계산한 박막의 optical band gap은 증착 시간과 DC serf bias의 증가에 따라 감소하는 경향을 나타냈으나, 수소함량에 의해서는 거의 영향이 없었다. 박막의 투과율에 가장 큰 영향을 미치는 인자는, 특히 자외선 영역과 가시광선 영역에서, bias 전압이었다.
Device miniaturization and high integrated circuit design is of major interest for the development of electronic devices. Various studies have been conducted to develop new material and processing technique[1]. Negative Differential Resistance(NDR) is the defining behavior in several electronic components, including the Esaki diode and most notably, resonant tunneling diodes(RTD)[2]. We made a comparison of electrical properties between 4,4-Di(ethynylphenyl)-2'-nitro-1-(thioacetyl)benzene and 4-[2,5-dimethoxy-4-(p henylethynyl)phenyl]ethynylphenylethanethioate, which have been well known as a conducting molecule having possible application to molecular level NDR devices. As a result, we measured current-voltage curves using Scanning Tunneling microscopy(STM), I-V curves also showed several current peaks between negative and positive bias region.
Thin films of diamond-like carbon(DLC) can be successfully deposited by using a magnetron plasma chemical vapor deposition (CVD) method with an rf(13.56 MHz) plasma of $C_dH_8$. Plasma characteristics are analyzed as a function of the magnetic field. As the magnetic field increases, both electron temperature ($T_e$) and density ($n_e$)increase, but the negative dc self-bias voltage (-$V_{ab}$) decreases, irrespective of gas pressures in the range of 1~7 mTorr. High deposition rates have been obtained even at low gas pressures, which may be attributed to the increased mean free path of electrons in the magentron plasma. Effects of rf power and additive gas on the structural properties of DLC films aer also examined by using various technique namely, TED(transmissio electron diffraction) microanalysis, FTIR, and Raman spectroscopies.
The effects of the magnetic field and gas pressure on the etching characteristics were investigated in the axial magnetic field enhanced RIE system. This system has many advantages compared with the conventional RIE system ; the capability of operating at low pressure, low self-bias voltage, high electron density and high etch rate in the low pressure, but also has disadvantages such as the nonconformity of plasma density which intensifies as the magnitude of magnetic field increases. To overcome this problem we made some grooved anode and tried to find the optimal pressure and B-field strength.
Silver nanowire random networks are promising candidates for replacing indium tin oxide (ITO) as transparent and conductive electrodes. They can also be used as transparent heating films with self-cleaning and defogging properties. By virtue of the Joule heating effect, silver nanowire random networks can be heated when voltage bias is applied; however, they are unsuitable for long-term use. In this work, we study the Joule heating of silver nanowire random networks embedded in polymers. Silver nanowire random networks embedded in polymers exhibit breakdown under the application of electric current. Their surface morphological changes indicate that nanoparticle formation may be the main cause of this electrical breakdown. Numerical analyses are used to investigate the temperatures of the silver nanowire and substrate.
The magnetized helical resonator plasma etcher has been built. Electron density and temperature were measured as functions of rf source power, axial magnetic field, and pressure. The results show electron density increases as the magnetic field increases and reached $2\times1012cm^{-3}$,/TEX>. The oxide etch rate and selectivity to polysilicon were investigated as the above mentioned conditions and self-bias voltage. We can obtain the much improved oxide etch selectivity to polysilicon (60 : 1) by applying the external axial weak magnetic field in magnetized helical resonator plasma etcher.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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