고밀도 $CF_{4}/Ar$ 플라즈마에서 $YMnO_3$ 박막의 식각 매카니즘
(Etching Mechanism of $YMnO_3$ Thin Films in High Density $CF_{4}/Ar$ Plasma)
-
- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
- /
- 한국전기전자재료학회 2001년도 춘계학술대회 논문집 반도체재료
- /
- pp.12-16
- /
- 2001