Effect of Tantalum on Ferroelectric $SrBi_2Ta_2O_9$ Thin Films Deposited on $Pt/SiO_2/Si$ by a Modified rf Magnetron Sputtering Technique
(Modified rf magnetron sputtering에 의해 $Pt/SiO_2/Si$ 기판위에 제조된 강유전체 $SrBi_2Ta_2O_9$ 박막의 특성 및 전기적 성질에 미치는 Tantalum의 영향)
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- Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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- 1997.10a
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- pp.138-138
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- 1997