Effect of Tantalum on Ferroelectric $SrBi_2Ta_2O_9$ Thin Films Deposited on $Pt/SiO_2/Si$ by a Modified rf Magnetron Sputtering Technique

Modified rf magnetron sputtering에 의해 $Pt/SiO_2/Si$ 기판위에 제조된 강유전체 $SrBi_2Ta_2O_9$ 박막의 특성 및 전기적 성질에 미치는 Tantalum의 영향

  • 양철훈 (충남대학교 공과대학 재료공학과) ;
  • 윤순길 (충남대학교 공과대학 재료공학과)
  • Published : 1997.10.01