Development parameter measurement and profile analysis of electron beam resist for lithography simulation (리소그라피 모의실험을 위한 전자빔용 감광막의 현상 변수 측정과 프로파일 분석)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics A
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- v.33A no.7
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- pp.198-204
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- 1996