Microstructural characterization of Ni-yttria-stabilized zirconia (YSZ) anodes using secondary electron images has been limited by a lack of contrast between Ni and YSZ phases. This paper reports a sample preparation method for obtaining secondary electron images that allow the detection of Ni, YSZ, and pore phases together. Ni-YSZ anode samples were obtained by reducing NiO-YSZ samples prepared by using the mixed oxide method. Colloidal silica polishing and electrolytic etching were performed on the Ni-YSZ samples. The morphological change of the sample surface after each polishing process is examined.
The magnetic polishing is the useful method to finish using magnetic power of magnet. That method is one of precision polishing techniques and has an aim of the clean technology using for the pure of gas and inside of the clean pipe. The magnetic abrasive polishing method is not so common for machine that it is not spreaded widely. There are rarely researcher in this field because of non-effectiveness of magnetic abrasive. Therefore, in this paper deals with development of the magnetic abrasive using Sr-Ferrite. In this development, abrasive grain GC used to resin bond fabricated low temperature. And Sr-Ferrite of magnetic abrasive powder fabricated that Sr-Ferrite was crused into 200 mesh. The XRD analysis result show that only GC abrasive and Sr-Ferrite crystal peaks detected which explains resin bond was not any more chemical reaction. From SEM analysis it is found that GC abrasive and Sr-Ferrite were strong bonding with each other by bond. The magnetic polishing is performed by polishing the surface of pipe by attracting magnetic abrasives with magnetic fields. This can be widely applied for finishing machinery fabrications such as various pipes and for other safety processes. In this paper, we could have investigated in to the changes of the movement of magnetic abrasive grain. In reference to this result, we could have made the experiment which is set under the condition of the magnetic flux density, polishing velocity according to the form of magnetic brush.
This paper suggests the selective ultra precision polishing techniques for micro die and mold parts using magnetic-assisted machining. Fabrication of magnetic abrasive particle and their polishing performance are key technology at ultra precision polishing process of micro parts. Conventional magnetic abrasives have disadvantages. which are missing of abrasive particle and inequality between magnetic particle and abrasive particle. So, bonded magnetic abrasive particles are fabricated by several method. For example, plasma melting and direct bonding. Ferrite and carbonyl iron powder are used as magnetic particle where silicon carbide and Al$_2$O$_3$ are abrasive particle. Developed particles are analyzed using measurement device such as SEM. Possibility of magnetic abrasive and polishing performance of this magnetic abrasive particles also have been investigated. After polishing, surface roughness of workpiece is reduced from 2.927 $\mu\textrm{m}$ Rmax to 0.453 $\mu\textrm{m}$ Rmax.
Recently, the technology for internal polishing is needed for ultra-clean machining for the prevention of corrosion and pollution of parts is the area of high technology industries such as semiconductor, electronics, telecommunication optics, aerospace, and motors. In this study, an internal polishing system using the magnetic force was developed for the production of ultra-clean tubes with averaged surface roughness ranging from 0.2㎛ to 0.05㎛ or less, and magnetic abrasives composed of WC/Co powder were developed, After finding the optimal condition on each, machining characteristics using newly developed abrasive were analyzed. Form the results obtained by experimental design method, the optimal polishing condition was analyzed and, thhereafter internal polishing was done.
A monitoring system for magnetic abrasive polishing process is necessary to ensure the polishing products the high quality and integrity. Acoustic emission (AE) signal is known to reflect the material removal phenomena in other machining processes. In a case of the magnetic abrasive polishing of non-magnetic materials, application of AE method is very difficult because of lower machining force on the surface of workpiece and the level of AE signal is extremely lower. In this study, AE sensor-based monitoring system is applied to the magnetic abrasive polishing. The relation between the level of the AE RMS and the surface roughness during the magnetic abrasive polishing of magnesium alloy steel is investigated.
The magnetic abrasive polishing (MAP) process is used to achieve the nano-meter grade polishing results on flat or complicated surface. In previous study, polishing the stainless steel plate which is a non-magneto-material was tried. To polish non-magneto-materials using the MAP process was very difficult because the process was fundamentally possible by the help of a magnetic force. Therefore, it had lower efficiency than magneto-materials such as SM45C. In this study, optimization for tool geometry of the MAP was performed to improve the magnetic force between tool and workpiece. Moreover, a permanent magnet was installed below the non-magneto-material to improve the magnetic force. And then the design of experiments was carried out to evaluate the effect of the MAP parameters on the polishing results.
In general, metallic bio-materials is more widely used in solid tissue like bone or tooth than flexible tissue such as skin or muscle. Especially, Cobalt Chrome Molybdenum(Co-Cr-Mo), which is used in tooth surgery, has a great corrosion resistance. Because this bio-material is non-toxic in human body, and has a bio-compatibility that the vital reaction is not occurred with tissue in body. However the chemical reaction is occurred by fatal matter that deteriorate the property of material surface in conventional polishing, and it can affect to fatal disease in human body or decrease the material properties such as hardness, yield strength or bio-compatibility. This surface in poor condition can cause development of corrosion or bacteria. In this study, MR fluid polishing is used to minimize the scratch, pit or surface flaws generated in conventional polishing. Surface roughness is measured according to the polishing condition to obtain fine surface condition.
Chemical-mechanical polishing (CMP) process is a semiconductor process that planarizes a wafer surface using mechanical friction between a polishing pad and a substrate surface during a specific chemical reaction. During the CMP process, polishing pad conditioning is applied to prevent the rapid degradation of the polishing quality caused by polishing pad glazing through repeated material removal processes. However, during the conditioning process, uneven wear on the polishing pad is inevitable because the disk on which diamond particles are electrodeposited is used. Therefore, the abrasion of the polishing pad should be considered not only for the variables during the conditioning process but also when designing the CMP conditioning system. In this study, three design variables of the conditioning system were analyzed, and the effect on the pad wear profile during conditioning was investigated. The three design variables considered in this study were the length of the conditioner arm, diameter of the conditioner disk, and distance between centers. The Taguchi method was used for the experimental design. The effect of the three design variables on pad wear and uniformity was assessed, and new variables used in conditioning system design were proposed.
This study has focused on transparency recovering of the polycarbonate by polishing its surface for recycling. The polycarbonate has many properties such as excellent mechanical strength, electrical insulating, superior heat resistance to other plastic material and especially good transparency. It has been used as barrier for the traffic noise at the roadside and the greenhouse for the palm house. But the polycarbonate has changed slightly as time goes by 10 years because of exposure to the strong sunlight and oxidization in the atmosphere, as result has lost its transparency. Magnetic assisted polishing has been utilized as an effective polishing method to recover the transparency of polycarbonate. The polycarbonate which has been used for 10 years was adopted as the sample. The first surface roughness of the sample was 1$1.23{\mu}mRa$, $7.5{\mu}mRz(DIN)$ respectively. In the experimental results, it showed that the surface roughness of the polished sample improved $0.013{\mu}mRa$, $0.08{\mu}mRz(DIN)$ from the first surface roughness respectively. The surface roughness get almost back again by magnetic assisted polishing. These results also showed that the magnetic assisted polishing was efficient machining method to reuse the polycarbonate material.
To evaluate the marginal leakage in Class V cavity this study has been undertaken to compare the sandwich technique with the conventional method, and find out the effect of lining material, lining method, and polishing time on sandwich technique. Ninty extracted teeth were divided into eight test groups and a control group, and were prepared with a buccal Class V cavity. Four test groups were lined with Dentin Cement whereas the other four test groups were lined with Vitrabond. Half of the either group were lined 0.5mm short of the carvosurface margin and the rest were lined completely to the carvosurface margin. The four subgroups were further divided into specimens which were polished immediately and 24 hours after resin filling. The polished specimens were immersed in $37^{\circ}C$, 0.5% methylene blue solution for 24 hous after thermocycling at $5^{\circ}C$ and $55^{\circ}C$, 200 times and buccolingually sectioned. The sectioned specimens were examined dye penetration under the light microscope. The following results were obtained, 1. At the enamel margin, the conventional method showed a lower microleakage than the sandwich technique. The difference between the control and Vitrabond group was statistically significant(P<0.05), but no difference between the control and Dentin Cement group, and between the lining materials was observed. 2. At the dentinal margin, the sandwich technique showed a significant lower amount of microleakage (P<0.05), but there was no significant difference between the lining materials. 3. Regardless of the lining material, lining method, and polishing time used, values of microleakage were significantly higher at the dentinal margin compared to the enamel margin(P<0.05). 4. In specimens till the cavosurface margin, microleakage at the dentinal margin was less with the light-cured base than with the chemically-cured base, but there was no siginificantly difference between the lining materials regarding the lining method and polishing time. 5. The lining material, lining method, and polishing time did not affect the amount of micro leakage in the sandwich technique(P<0.05).
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[게시일 2004년 10월 1일]
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