• 제목/요약/키워드: photo-polymer

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축전 결합형 $O_2$ 플라즈마를 이용한 아크릴과 폴리카보네이트의 식각 공정 비교

  • 박주홍;이성현;노호섭;최경훈;조관식;이제원
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2009년도 춘계학술발표대회
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    • pp.39.1-39.1
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    • 2009
  • 본 실험은 연성과 광 투명도가 뛰어난 아크릴 (PMMA) 과 폴리카보네이트 (Polycabonate) 기판의 축전 결합형 플라즈마 (CCP) 건식 식각 연구에 관한 것이다. 특히 식각 반응기 내부의 압력 변화에 따른 두 기판의 건식 식각 특성 분석에 초점을 맞추었다. 실험에 사용된 기판은 두께 1mm의 아크릴 (PMMA) 과 폴리카보네이트 (Polycabonate)를 $1.5\times1.5\;cm^2$로 절단하여 Photo-lithography 공정을 통하여 감광제 (Photo-resist)로 패턴하였다. 식각 반응기 내부에 패턴 된 아크릴(PMMA) 과 폴리카보네이트 (Polycabonate)를 넣은 후 반응기 내부 진공 상태로 만들었다. 그 후 5 sccm $O_2$ 가스를 유량조절기 (Mass flow controller)를 통하여 식각 반응기 내부로 유입하여 실험을 하였다. 이때 식각 공정 변수는 식각 반응기 내부 압력과 샘플 척 파워이다. 특성평가 항목은 식각 후 기판 (Substrate)의 식각율 (Etch rate), 식각 선택비 (Selectivity) 그리고 기판 표면 거칠기 (RMS roughness)이다. 실험 결과는 표면 단차 분석기(Surface profiler)를 이용하여 기판 (Substrate)의 표면을 분석 하였다. 또한 OES (Optical Emission Spectroscopy) 를 이용하여 식각 중 내부 플라즈마의 상태를 분석하였다. 본 실험 결과에 따르면 5 sccm $O_2$ 가스와 100 W 척 파워를 고정한 후 반응기 내부의 압력을 25 mTorr에서 180 mTorr까지 변화시켜 실험한 결과 40 mTorr의 반응기 내부 압력에서 실험 자료 중 가장 높은 식각율로 아크릴 (PMMA)은 $0.46\;{\mu}m/min$, 폴리카보네이트 (Polycabonate)는 $0.28\;{\mu}m/min$의 결과를 얻었다. 또한 이 자료를 바탕으로 5 sccm $O_2$ 가스와 반응기 내부 압력을 40 mTorr로 고정시키고 RIE 척 파워를 25 W에서 150 W로 증가시켰을 때 아크릴 (PMMA)의 식각율은 $0.15\;{\mu}m/min$에서 $0.72\;{\mu}m/min$까지 증가하였고, 폴리카보네이트 (Polycabonate) 의 식각율은 $0.1\;{\mu}m/min$에서 $0.36\;{\mu}m/min$까지 증가하였다.

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디지털 프린팅을 위한 전도성 배선에 관한 연구 (Investigation of Conductive Pattern Line for Direct Digital Printing)

  • 김용식;서상훈;이로운;김태훈;박재찬;김태구;정경진;윤관수;박성준;정재우
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
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    • pp.502-502
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    • 2007
  • Current thin film process using memory device fabrication process use expensive processes such as manufacturing of photo mask, coating of photo resist, exposure, development, and etching. However, direct printing technology has the merits about simple and cost effective processes because inks are directly injective without mask. And also, this technology has the advantage about fabrication of fine pattern line on various substrates such as PCB, FCPB, glass, polymer and so on. In this work, we have fabricated the fine and thick metal pattern line for the electronic circuit board using metal ink contains Ag nano-particles. Metal lines are fabricated by two types of printing methods. One is a conventional printing method which is able to quick fabrication of fine pattern line, but has various difficulties about thick and high resolution DPI(Dot per Inch) pattern lines because of bulge and piling up phenomenon. Another(Second) methods is sequential printing method which has a various merits of fabrication for fine, thick and high resolution pattern lines without bulge. In this work, conductivities of metal pattern line are investigated with respect to printing methods and pattern thickness. As a result, conductivity of thick pattern is about several un.

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폴리(비닐 신나메이트)와 을리고머 신나메이트 블렌드를 기반으로 한 그루브 패턴 표면의 광배향막 (Photoinduced Alignment Based on the Blend of Poly(vinyl cinnamate) and Oligomeric Cinnamate via Linear Polarized UV Irradiation onto Groove Patterned Surface)

  • 성시준;김미리;안도원;김대환;강진규;박정기;조국영
    • 폴리머
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    • 제34권1호
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    • pp.32-37
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    • 2010
  • 액정표시소자의 광배향막으로 적용하기 위하여 올리고머 신나메이트와 폴리(비닐 신나메이트) (PVCi)의 블렌드를 이용하여 그루브 패턴을 형성하고 광배향 특성을 관찰하였다. UV-vis 스펙트럼 분광계를 이용하여 자외선 조사 시간에 따른 광반응 속도를 평가한 결과 올리고머 신나메이트는 폴리(비닐 신나메이트)에 비해 빠른 반응속도를 나타내었다. 폴리(비닐 신나메이트)를 주성분으로 하여 올리고머 신나메이트를 블렌드한 경우 반응속도가 약간 향상되는 특성을 확인하였다. 올리고머 신나메이트는 높은 결정성으로 인해 표면 그루브 패턴을 단독으로 형성할 수 없었지만 폴리(비닐 신나메이트)와의 블렌드를 통하여 그루브 패턴을 형성할 수 있었으며 그루브 패턴에서도 polar plot에 의해 분자 배향성을 나타냄을 확인하였다. 올리고머 신나메이트와 고분자계 신나메이트의 블렌드를 통하여 반응속도의 향상과 박막 구조의 패턴을 형성하기에 적합함의 확인을 통해 새로운 광배향막 재료로 적용 가능함을 알 수 있었다.

초 고비중 탄성체 개발을 위한 매트릭스 탄성체 표면개질 및 충전제 제어기술 기초연구 (Surface Modification of Matrix and filler for Ultra High Density Elastomeric Material)

  • 정경호;이동민;양경모;이완술;홍청석
    • Elastomers and Composites
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    • 제40권2호
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    • pp.93-103
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    • 2005
  • 본 연구에서는 자동차에서 댐핑 재료로 많이 사용되고 있는 스틸 다이내믹 댐퍼를 대체할 수 있는 소재로서 유기탄성체를 사용하였다. 그러나 유기탄성체를 사용하여 스틸 다이내믹 댐퍼를 대체하기 위해서는 스틸 다이내믹 댐퍼에 상응하는 비중의 구현이 가장 중요하고도 해결하기 어려운 과제이다. 본 연구에서는 고비중 구현을 위한 첫 단계로 최적의 매트릭스 탄성체 및 충전제를 선정하여 충전제의 충전량(vol%)에 따른 고무 혼합물의 경화 특성, 인장 강도, 혼련과정중의 고무 혼합물의 온도 변화 및 반발 탄성 등의 특성을 조사하였다. 충전량이 증가할수록 고무 혼합물의 $t_{s2}$는 감소하였고 $t_{90}$는 전반적으로 증가하였다. 또한 인장 강도는 감소하였고 고무 혼합물의 온도는 충전제 입자간의 마찰열로 인하여 증가하였다. 반발탄성은 충전제가 증가할수록 감소하였다. 따라서 초 고비중을 얻기 위해서는 고충전 기술이 선결되어야 하는데 고충전을 할 경우 매트릭스인 유기탄성체의 부피가 상대적으로 감소하기 때문에 기존의 유기탄성체 경화 시스템으로는 경화가 불가능하여 고충전에 부합하는 경화 시스템을 구축 하고자 매트릭스의 광화학적 개질을 시도하였고, 개질여부는 FTIR-ATR로 분석을 통해 확인하였다. 충전제의 충전밀도를 높여 매트릭스 탄성체에 충전제의 안정한 분산 및 고충전 기술을 확립하고자 충전제의 개질을 통해 충전제의 입도, 입도 분포도 및 형태를 제어하였다. 입도분석기로 입도 및 입도 분포의 변화를 확인하였고 SEM을 이용하여 충전제의 형태 변화를 확인하였다.

A Study on Electro-optical Characteristics of the UV Aligned FFS Cell on the Organic Layer

  • Han, Jeong-Min;Ok, Chul-Ho;Hwang, Jeoung-Yeon;Kim, Byoung-Yong;Kang, Dong-Hun;Kim, Jong-Hwan;Kim, Young-Hwan;Han, Jin-Woo;Lee, Sang-Keuk;Seo, Dae-Shik
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • 제8권3호
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    • pp.135-138
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    • 2007
  • In this study, we investigated the electro-optical (EO) characteristic of fringe-field switching (FFS) mode cell by the two kinds of ultraviolet (UV) alignment method on the organic thin film (polyimide: PI). The suitable organic layers for FFS cell and the aligning capabilities of nematic liquid crystal (NLC) using the in-situ photoalignment method were studied; Disclination is observed after conventional photoalignment method for 1h, and in-situ photoalignment method for 1h. Monodomain alignment of the NLC can be observed via insitu photo alignment method for 2 h and 3 h. It is considered that NLC alignment is due to photo-depolymerization of the polymer with oblique non-polarized UV irradiation on PI surface. An unstable V-T curve of UV-aligned FFS-LCD with conventional photoalignment method can be achieved. However, a stable V-T curve of UV-aligned FFS-LCD with in-situ photoalignment method (1 h), and V-T curve of UV-aligned FFS-LCD with in-situ photo alignment method was much stable comparing with that of other UV-aligned FFSLCD's. As a result, more stable EO performance of UV-aligned FFS-LCD with in-situ photoalignment method for 3h is obtained than that of the other UV-aligned FFS-LCD's.

감광성 폴리머 저항 페이스트를 이용한 Low Tolerance 후막 저항체 (Thick Film Resistors with Low Tolerance Using Photosensitive Polymer Resistor Paste)

  • 김동국;박성대;이규복;경진범
    • 공업화학
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    • 제21권4호
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    • pp.411-416
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    • 2010
  • 본 연구에서는 알칼리 현상형 감광성 수지재료와 전도성 카본블랙을 이용하여 만들어진 감광성 폴리머 저항 페이스트를 이용하여 후막저항체의 허용편차(tolerance)를 개선하고자 하였다. 먼저 카본블랙과 감광성 수지의 선택이 폴리머 후막저항(polymer thick film resistor, PTFR)의 저항값의 범위와 허용편차의 수준에 미치는 영향을 조사하였다. 이후 테스트 기판상에 감광성 저항 페이스트를 도포하는 방법에 따른 저항값 허용편차의 차이를 평가하였다. 감광성 저항 페이스트를 스크린 인쇄를 이용하여 테스트 기판의 전면에 도포한 경우에는 테스트 기판상에서 균일한 두께의 후막을 형성하기 어렵기 때문에 위치에 따른 저항값의 허용편차가 크게 나타났다. 반면, 롤러를 이용하여 페이스트를 도포하였을 때, 전체 기판 면적에 균일한 두께의 저항체 후막을 형성할 수 있었으며, 저항값 평가 결과 ${\pm}10%$ 이내의 낮은 허용편차를 나타내었다. 포토공정을 이용한 정밀한 패터닝 공정과 롤러를 이용한 균일한 두께의 저항막 도포 공정을 결합함으로써 후막저항의 허용편차를 개선할 수 있었다.

투명 전도성 ZITO/Ag/ZITO 다층막 필름 적용을 위한 아크릴레이트 기반 고분자분산액정의 전기광학적 특성 최적화 (Optimization of Electro-Optical Properties of Acrylate-based Polymer-Dispersed Liquid Crystals for use in Transparent Conductive ZITO/Ag/ZITO Multilayer Films)

  • 조정대;김양배;허기석;김은미;홍진후
    • 공업화학
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    • 제31권3호
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    • pp.291-298
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    • 2020
  • 본 연구에서는 RF/DC 마그네트론 증착법을 이용하여 실온에서 유리 기판 상에 ZITO/Ag/ZITO 다층막 투명전극을 제조하였다. ZITO/Ag/ZITO (100/8/42 nm)로 이루어진 다층막 구조에 대해, 면저항이 9.4 Ω/㎡이고 550 nm에서 투과도가 83.2%인 투명 전도성 필름이 얻어졌다. ZITO/Ag/ZITO 다층막 필름의 면저항 및 투과도 특성은 적외선(열선)을 효과적으로 차단할 수 있기 때문에 고분자분산액정(polymer-dispersed liquid crystal, PDLC) 기반 스마트 윈도우 적용에 매우 유용함을 알 수 있었으며 이로 인해 에너지 절약형 스마트 유리로서의 응용도 가능할 것으로 판단된다. 제조된 ZITO/Ag/ZITO 다층막 투명전극을 적용한 2관능성 우레탄 아크릴레이트 기반 PDLC 시스템에 있어서 PDLC 층 두께 및 자외선(ultraviolet, UV) 세기 변화가 전기광학적 특성, 광중합 동력학 및 표면 형태학에 미치는 영향을 조사하였다. 15 ㎛의 PDLC 층 두께를 가지며 2.0 mW/c㎡의 UV 세기로 광경화된 PDLC 셀이 우수한 off-state 불투명도, 높은 on-state 투과도 및 양호한 구동 전압을 나타냈다. 또한, 본 연구에서 제조된 최적 조건의 PDLC 기반 스마트 윈도우는 광을 효율적으로 산란시킬 수 있는 2~5 ㎛ 크기의 양호한 마이크로 구조를 갖는 액정 droplet들이 형성되었으며, 이로 인해 우수한 최종 물성을 갖는 PDLC 셀이 제조되었다.

복합고분자용액법에 의한 가시광에 반응하는 TiO2:Zr, N 광촉매의 제조 및 NO 광분해 특성 (Preparation of Visible-light Responsive TiO2:Zr, N Photocatalysts by Polymer Complex Solution Method and Photo-degradation of NO)

  • 최재영;김지영;조영혁;장희동;장한권;김병곤;김태오
    • 한국분말재료학회지
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    • 제15권1호
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    • pp.13-17
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    • 2008
  • Visible-light responsive $TiO_2$:Zr, N powders were prepared by polymer complex solution method and the particle properties were characterized by using transmission electron microscope, BET method, X-ray diffractometer and UV-Vis spectrophotometer. The photocatalytic reactivity of the catalysts was also estimated by analyzing NO degradation. Polyhedral $TiO_2$ powder having about 20 um in the average particle diameter was successfully prepared, The XRD analysis revealed that the as-prepared powder consisted of anatase and rutile phases. The light absorption of the as-prepared $TiO_2$:Zr, N powder was shifted to the visible light. In addition, the as-prepared $TiO_2$:Zr, N nanoparticles showed the higher photocatalytic activity than the commercial $TiO_2$ under both UV and visible lights.

전자선 및 자외선 경화형 방무코팅용 모노머의 합성 및 물성비교 (Synthesis and Comparison of EB- and UV-curable Monomers for Anti-fogging Coatings)

  • 조정대;이재성;김양배;홍진후
    • 공업화학
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    • 제16권3호
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    • pp.449-455
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    • 2005
  • 분자 내에 방무기능을 부여하기 위한 수산기와 전자선(EB) 및 자외선(UV) 경화가 가능한 아크릴레이트 관능기를 갖는 1관능성 및 4관능성 방무제 AF-1과 AF-2를 합성하여 EB 및 UV 경화시스템에 적용하였다. 합성된 AF-1과 AF-2를 UV 경화시스템에 적용하여 도막의 방무특성 및 경화물성을 측정한 결과, AF-1과 AF-2 함량을 5:17.5의 비로 함유한 배합이 표면과 내부경도, 내화학성 및 접착력이 저하되지 않으면서 김서림 방지 특성이 우수한 최적배합임을 알 수 있었다. 이 최적배합을 EB 경화시스템에 적용하였고, EB 및 UV 두 시스템에 의해 이루어진 코팅배합물을 PC sheet에 코팅하여 도막의 방무특성 및 경화물성을 비교 연구하였다. 그 결과 EB 및 UV에 의해 경화된 두 시스템 모두 우수한 방무특성을 나타냈으나 EB 시스템이 UV 시스템보다 더우수한 내부경도, 접착력 및 젖음성을 나타냄을 확인하였다.

Synthesis and Design of Electroactive Polymers for Improving Efficiency and Thermal Stability in Organic Photovoltaics

  • 김범준
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2011년도 춘계학술발표대회
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    • pp.11.2-11.2
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    • 2011
  • Polymer based organic photovoltaics have attracted a great deal of attention due to the potential cost-effectiveness of light-weight and flexible solar cells. However, most BHJ polymer solar cells are not thermally stable as subsequent exposure to heat drives further development of the morphology towards a state of macrophase separation in the micrometer scale. Here we would like to show three different approaches for developing new electroactive polymers to improve the thermal stability of the BHJ solar cells, which is a critical problem for the commercialization of these solar cells. For one of the examples, we report a new series of functionalized polythiophene (PT-x) copolymers for use in solution processed organic photovoltaics (OPVs). PT-x copolymers were synthesized from two different monomers, where the ratio of the monomers was carefully controlled to achieve a UV photo-crosslinkable layer while leaving the ${\pi}-{\pi}$ stacking feature of conjugated polymers unchanged. The crosslinking stabilizes PT-x/PCBM blend morphology preventing the macro phase separation between two components, which lead to OPVs with remarkably enhanced thermal stability. The drastic improvement in thermal stabilities is further characterized by microscopy as well as grazing incidence X-ray scattering (GIXS). In the second part of talk, we will discuss the use of block copolymers as active materials for WOLEDs in which phosphorescent emitter isolation can be achieved. We have exploited the use of triarylamine (TPA) oxadiazole (OXA) diblock copolymers (TPA-b-OXA), which have been used as host materials due to their high triplet energy and charge-transport properties enabling a balance of holes and electrons. Organization of phosphorescent domains in TPA-b-OXA block copolymers is demonstrated to yield dual emission for white electroluminescence. Our approach minimizes energy transfer between two colored species by site isolation through morphology control, allowing higher loading concentration of red emitters with improved device performance. Furthermore, by varying the molecular weight of TPA-b-OXA and the ratio of blue to red emitters, we have investigated the effect of domain spacing on the electroluminescence spectrum and device performance.

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