The distribution of basic nitrogen-containing compounds in three vacuum gas oils (VGOs) with different boiling ranges and their dewaxed oils from the lube base oil refining unit of a refinery were characterized by positive-ion electrospray ionization (ESI) Fourier transform-ion cyclotron resonance mass spectrometry (FT-ICR MS). It turned out that the composition of basic nitrogen compounds in the samples varied significantly in DBE and carbon number, and the dominant basic N-containing compounds in these oil samples were N1 class species. $N_1O_1$, $N_1O_2$, and $N_2$ class species with much lower relative abundance were also identified. The composition of basic nitrogen compounds in VGOs and dewaxed VGOs were correlated with increased boiling point and varied in DBE and carbon numbers. The comparison of the analytical results between VGOs and dewaxed VGOs indicated that more basic N-containing compounds in VGO with low carbon number and small molecular weight tend to be removed by solvent refining in lube base oil processing.
The purpose of this study is the efficient biological treatment of highly concentrated nitrate nitrogen by calcium ion control present within the pickling wastewater. In laboratory scale's experiments research was performed using a sequencing batch reactor and the evaluation of denitrification reaction in accordance with the injection condition of calcium ions, the surface properties of microorganisms, and the evaluation of sludge precipitability were performed. Results of the study showed that the denitrification reaction was delayed when injecting more than 600 mg/L of the calcium ion within the denitrification process. In addition, we observed the absorption form of calcium ions absorbed on the surface of microorganisms following an increase in the calcium ion dose. It was found that as the calcium ion dose increased the sludge precipitability also increased continuously and it is judged that a smooth denitrification induction is possible when treating the nitrate nitrogen by the calcium ion control of pickling waste water and the shortening of precipitation time enables a liquid operation to increase the reaction time.
본 논문에서는 양자 역학적 분자 동역학(Quantum Mechanical/Molecular Mechanical-Molecular Dynamics, QM/MM-MD)을 통해 수용액에 녹아 있는 Potassium Thiocyanate의 dynamics를 연구했다. Umbrella sampling technique을 활용하여 association/dissociation에 해당하는 Free energy surface를 구했다. 두 개의 Free energy minimum이 녹아 있는 두 이온의 center of mass 사이의 거리가 $4{\AA}$일 때와 $5{\sim}6{\AA}$ 부근일 때 나타났으며 $4{\AA}$일 때 더 안정 했다. 본 논문에서는 $4{\AA}$일 때를 Contact Ion Pair(CIP) $6{\AA}$일 때를 Dissociation Ion Pair(DlP)라고 칭했다. 이 minimum들이 무엇인 지를 밝혀 내기 위해 추가 연구를 수행하였다. Free energy 상에서 가장 안정 할 때(CIP) solute인 Potassium thiocyanate의 구조를 살펴 봤더니 Potassium ion은 Thiocyanate ion의 Sulfur보다 Nitrogen side를 선호하였다. 그 원인을 알아보기 위해 salvation shell의 구조를 Radial distribution function을 통해 살펴 봤더니 물 분자가 Nitrogen보다 Sulfur와 더 강한 상호작용을 하고 있었다. 그로 인해 Potassium ion이 Nitrogen을 선호한단 결과가 나온 것이다. 한편, 두 번째 minimum은 물 분자가 Potassium 이온과 Thiocyanate 이온 사이에 flexible하게 bridging을 하는 구조였다. 또한 단순 양자 계산을 통해서도 비슷한 구조를 얻을 수 있었다. 그러나 QM 계산은 0K에서 수행하는 것이기 때문에 엔트로피 효과가 없는 계산이지만 본 연구는 온도 300K로 실제 용매와 가깝게 수행함으로써 고정되어 있는 구조가 아니라 엔트로피와 엔탈피가 균형적으로 존재하는 실제 용액 속에서의 구조를 처음으로 보여주는 것이다.
The most suitable condition for plasma source ion implantation(PSII) was found based on the study of the characteristics of PSIIed tool and machined surfaces. The depth analysis according to the chemical bonding state of elements and surface component elements through the XPS and SIMS, was conducted to find the improved property of the PSIIed surface. Due to the diffusion of PSII, the nitrogen was found up to a depth of about 150nm according to the supplied voltage and ion implanted time. The deep diffusion by nitrogen caused the surface modification, but the formation of oxide component was found due to the residual gas contamination on the surface. Statistical method of ANOVA was conducted to find the effects of spindle speed and feed rate in interaction for machined surface roughness with PSIIed tools. The surface modification was found largely occurred by the nitrogen implanted surface with 2 hours for 27kV, 35kV and 43kV.
The ion implantation technology changes the chemical state of the surface of a material by implanting ions on the surface. It improves the wear resistance, friction characteristics, etc. Plasma ion implantation can effectively reinforce a surface by implanting a sufficient amount of plasma nitrogen ions and using the injection depth instead of an ion beam. As plasma ion implantation is a three-dimensional process, it can be applied even when the surface area is large and the surface shape is complicated. Furthermore, it is less expensive than competing PVD and CVD technologies. and the material is The accommodation range for the shape and size of the plasma is extremely large. In this study, we improved wear resistance by implanting plasma nitrogen ions into a carbide end mill tool, which is frequently used in high-speed machining
Surface hardening mechanism of H13 steel was investigated when ion niriding after shot peening process was applied. Severe plastic deformation induced nanocrystallized grains at surface region. Higher nitrogen concentration was achieved in ion nitrided specimen with shot peening treatment than in single nitrided specimen. The elemental mapping on chromium and nitrogen by TEM-EELs showed chromium dissolved in matrix enhanced bulk nitrogen diffusion at surface region. Higher nitrogen diffusion also caused lattice distortion. Nano-sized grains, higher nitrogen concentration, and lattice diffustion contributed to the surface hardening.
Carbon paste electrodes, modified with 5,6,14,15-dibenzo-1,4-dioxa-8,12-diazacyclopentadeca-5,14-diene containing different ligating atoms of oxygen and nitrogen, have been employed for the voltammetric determination of Ag(I) ion from aqueous solution. The voltammetric response was characterized with respect to paste composition, preconcentration method, kind of anion, variation of pH, Ag(I) ion concentration, and possible interferences. Linear calibration curves were obtained for Ag(I) ion concentration ranging from $3.0{\times}10^{-6}M$ to $8.0{\times}10^{-5}M$, and detection limit was $8.5{\times}10^{-7}M$.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제7권6호
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pp.297-300
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2006
The response surface modeling of the pretilt angle control using ion-beam (IB) alignment on nitrogen doped diamond-like carbon (NDLC) thin film layer is investigated. This modeling is used to analyze the variation of the pretilt angle under various process conditions. IB exposure angle and IB exposure time are considered as input factors. The analysis of variance technique is settled to analyze the statistical significance, and effect plots are also investigated to examine the relationships between the process parameters and the response. The model can allow us to reliably predict the pretilt angle with respect to the varying process conditions.
The TiN films were deposited on the stainless substrates using arc vapor ion deposition process to in-vestigated the wear resistance. Pin-on-disc tests were performed to measure the volume wear loss of TiN films. The substrate bias voltages and nitrogen flow rates were selected as the deposition parameters of TiN films. It was found that the wear resistance of TiN films was enhanced with increasing bias voltages(0~-300 V) and nitrogen flow rates(220~380 SCCM). The volume wear loss TiN films were about 9.5~2.1$\times$$10^{-3}mm^3$ and 3.5~2.2$\times$$10^{-3}mm^3$ with bias voltages and nitrogen flow rates, respectively.
Nitrogen-rich carbon dots (NDots) were synthesized by using uric acid as carbon and nitrogen sources. The as-synthesized NDots showed strong dual emissions at 420 nm and 510 nm with excitation at 350 nm and 460 nm, respectively. The physicochemical analyses such as X-ray photoelectron spectroscopy, Transmission electron microscopy and Fourier transform infrared spectroscopy were used to analyze the chemical, physical and morphological structures of NDots. The as-synthesized NDots exhibited wide linear range (0-100 µM) and very low detection limit (124 nM) in Ag+ ion sensing. In addition, Ag+ saturated NDots could be used as an EDTA sensor by the EDTA induced PL recovery.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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