SiH$_4$ -H$_2$ 계에서 유체유동이 Si의 화학증착에 미치는 영향
(Effects of Flow on the Chemical Vapor Deposition of Si in System SiH$_4$ -H$_2$ )
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- 한국표면공학회지
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- 제23권3호
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- pp.160-166
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- 1990