We present the rectifying and nitrogen monoxide (NO) gas sensing properties of an oxide semiconductor heterostructure composed of n-type zinc oxide (ZnO) and p-type copper oxide thin layers. A CuO thin layer was first formed on an indium-tin-oxide-coated glass substrate by sol-gel spin coating method using copper acetate monohydrate and diethanolamine as precursors; then, to form a p-n oxide heterostructure, a ZnO thin layer was spin-coated on the CuO layer using copper zinc dihydrate and diethanolamine. The crystalline structures and microstructures of the heterojunction materials were examined using X-ray diffraction and scanning electron microscopy. The observed current-voltage characteristics of the p-n oxide heterostructure showed a non-linear diode-like rectifying behavior at various temperatures ranging from room temperature to $200^{\circ}C$. When the spin-coated ZnO/CuO heterojunction was exposed to the acceptor gas NO in dry air, a significant increase in the forward diode current of the p-n junction was observed. It was found that the NO gas response of the ZnO/CuO heterostructure exhibited a maximum value at an operating temperature as low as $100^{\circ}C$ and increased gradually with increasing of the NO gas concentration up to 30 ppm. The experimental results indicate that the spin-coated ZnO/CuO heterojunction structure has significant potential applications for gas sensors and other oxide electronics.
Aluminum-doped zinc oxide (AZO) thin films were prepared by dc magnetron sputtering at room temperature and the effect of heat treatment on the structural, electrical and optical properties of the films were examined. As the annealing temperature and time increased, the resistivity decreased and the transmittance improved. All AZO films had c-axis oriented (002) plane of ZnO, regardless of the annealing process employed. As the annealing temperature and time increased, the crystallinity of AZO thin films increased due to the formation of a new ZnO phase in which Al was substituted for Zn. However, at the high annealing temperature of $400^{\circ}C$, the resistivity of the films increased via separation of Zn and Al from ZnO phase due to their low melting points. X-ray diffraction, field emission scanning electron micrograph and Hall effect measurement confirmed the formation of uniformly distributed new grains of ZnO substituted with Al. The variation of Al contents in AZO films was shown to be the primary factor for the changes in resistivity and carrier concentration of the films.
Ahn, Hyung June;Yong, Sang Heon;Kim, Sun Jung;Lee, Changmin;Chae, Heeyeop
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.198.1-198.1
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2016
Organic light-emitting diode (OLED) displays have promising potential to replace liquid crystal displays (LCDs) due to their advantages of low power consumption, fast response time, broad viewing angle and flexibility. Organic light emitting materials are vulnerable to moisture and oxygen, so inorganic thin films are required for barrier substrates and encapsulations.[1-2]. In this work, the silicon-based inorganic thin films are deposited on plastic substrates by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) at low temperature. It is necessary to deposit thin film at low temperature. Because the heat gives damage to flexible plastic substrates. As one of the transparent diffusion barrier materials, silicon oxides have been investigated. $SiO_x$ have less toxic, so it is one of the more widely examined materials as a diffusion barrier in addition to the dielectric materials in solid-state electronics [3-4]. The $SiO_x$ thin films are deposited by a PECVD process in low temperature below $100^{\circ}C$. Water vapor transmission rate (WVTR) was determined by a calcium resistance test, and the rate less than $10.^{-2}g/m^2{\cdot}day$ was achieved. And then, flexibility of the film was also evaluated.
The feasibility of using the thin film technology in utilizing lanthanum strontium manganite (LSM) for a solid oxide fuel cell (SOFC) cathode in a low-temperature regime is investigated in this study. Thin film LSM cathodes were fabricated using pulsed laser deposition (PLD) on anode-supported SOFCs with yttria-stabilized zirconia (YSZ) electrolytes. Although cells with a 1 ${\mu}m$-thick LSM cathode showed poor low-temperature cell performance compared to that of a cell with a bulk-processed cathode due to the lack of a triple-phase boundary length, the cell with 200 nm-thick gadolinia-doped ceria (GDC) inserted between the LSM and YSZ showed enhanced performance and more stable operation characteristics in a comparison of a cell without a GDC layer. We postulate that the GDC layer likely improved the cathode adhesion, therefore contributing to the improvement of the cell performance instead of serving as an interfacial reaction buffer.
Indium tin oxide (ITO) - SWNT nano crystalline composites was synthesized at low temperature(${\sim}250^{\circ}C$)using Nano Cluster Deposition technique by Metal Orhoganic Chemical Vapor Deposition method. XRD patterns of ITO- SWNT composite shows pure cubic phases without any secondary phase. I-V measurement gives resistance of 12 ohms for Sn doped (3 wt %) indium oxide-SWNT composites. The electrical conductivity of the nano composites is significantly enhanced compared to the SWNT.
Electrochemical oxidation of silicon (p-type Si(100)) at room temperature in ethylene glycol and in aqueous solutions has been performed by applying constant low current densities for the preparation of thin SiO2 layers. In-situ ac impedance spectroscopic methods have been employed to characterize the interfaces of electrolyte/oxide/semiconductor and to estimate the thickness of the oxide layer. The thicknesses of SiO2 layers calculated from the capacitive impedance were in the range of 25-100Å depending on the experimental conditions. The anodic polarization resistance parallel with the oxide layer capacitance increased continuously to a very large value in ethylene glycol solution. However, it decreased above 4 V in aqueous solutions, where oxygen evolved through the oxidation of water. Interstitially dissolved oxygen molecules in SiO2 layer at above the oxygen evolution potential were expected to facilitate the formation of SiO2 at the interfaces. Thin SiO2 films grew efficiently at a controlled rate during the application of low anodization currents in aqueous solutions.
Water gas shift reactor in fuel processing is an important part that converts carbon monoxide into hydrogen. Fuel processing system for PEMFC usually has two stages of WGS reactors, which are high temperature and low temperature shifter. In this study we prepared noble metal catalysts and compared their performances with that of a commercial iron chromium oxide catalyst. Noble metal catalysts and the commercial catalyst showed quite different temperature dependence of carbon monoxide conversion. The conversion of carbon monoxide at the commercial catalyst was very low at medium temperature(${\sim}300^{\circ}C$) and increased rapidly as temperature increased while the conversion at noble metal catalysts was high in the medium temperature range and decreased as temperature increased, which is thermodynamically expected. Their characteristics agreed well with the literature published, and we are accomplishing further study for improvement of the noble metal catalysts.
Transparent oxide semiconductors are increasingly becoming one of good candidates for high efficient channel materials of thin film transistors (TFTs) in large-area display industries. Compare to the conventional hydrogenated amorphous silicon channel layers, solution processed ZnO-TFTs can be simply fabricated at low temperature by just using a spin coating method without vacuum deposition, thus providing low manufacturing cost. Furthermore, solution based oxide TFT exhibits excellent transparency and enables to apply flexible devices. For this reason, this process has been attracting much attention as one fabrication method for oxide channel layer in thin-film transistors (TFTs). But, poor electrical characteristic of these solution based oxide materials still remains one of issuable problems due to oxygen vacancy formed by breaking weak chemical bonds during fabrication. These electrical properties are expected due to the generation of a large number of conducting carriers, resulting in huge electron scattering effect. Therefore, we study a novel technique to effectively improve the electron mobility by applying environmental annealing treatments with various gases to the solution based Li-doped ZnO TFTs. This technique was systematically designed to vary a different lithium ratio in order to confirm the electrical tendency of Li-doped ZnO TFTs. The observations of Scanning Electron Microscopy, Atomic Force Microscopy, and X-ray Photoelectron Spectroscopy were performed to investigate structural properties and elemental composition of our samples. In addition, I-V characteristics were carried out by using Keithley 4,200-Semiconductor Characterization System (4,200-SCS) with 4-probe system.
Metal-oxide thin-film transistors (TFTs) have gained a considerable interest in transparent electronics owing to their high optical transparency and outstanding electrical performance even in an amorphous state. Also, these metal-oxide materials can be solution-processed at a low temperature by using deep ultraviolet (DUV) induced photochemical activation allowing facile integration on flexible substrates [1]. In addition, high-dielectric constant (k) inorganic gate dielectrics are also of a great interest as a key element to lower the operating voltage and as well as the formation of coherent interface with the oxide semiconductors, which may lead to a considerable improvement in the TFT performance. In this study, we investigated the electrical properties of solution-processed high-k strontium-doped AlOx (Sr-AlOx) gate dielectrics. Using the Sr-AlOx as a gate dielectric, indium-gallium-zinc oxide (IGZO) TFTs were fabricated and their electrical properties are analyzed. We demonstrate IGZO TFTs with a 10-nm-thick Sr-AlOx gate dielectric which can be operated at a low voltage (~5 V).
물과 요소 수용액에서 Poly(ethylene oxide)(PEO)의 구조 성질에 대한 온도의 효과를 보고한다. 물과 요소/물 혼합물 (요소 농도는 각각 0.2, 1, 2 M)에서 PEO에 대한 고유점도와 Huggins 계수의 값은 점도측정 방법에 의해 얻어졌으며, 이것을 물 구조 변화 관점에서 논의했다. 낮은 온도(22.deg.C이하)에서 PEO-물간 상호작용은 우세해 사슬은 펼쳐져있는 반면, 높은 온도(24.ang.C 이상)에서는 상호작용이 우세하지 못하고 사슬은 소수성 수화에 의해 어켜있게 된다. 즉, 온도가 상승함에 따라 PEO-물 상호작용은 우세하지 못하게 된다. 요소가 계에 가해짐에 따라 PEO사슬은, 우세하지 못한 PEO-물 상호작용으로부터 유발된 구조화된 물의 동요에 의해, 더 펼쳐지거나 거대해지게 된다. 고유점도 값에 대한 온도의 효과는 Arrhenius 행동을 나타낸다. 따라서 점성 흐름에 대한 활성화 에너지를 구해 논의하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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