Purpose: The aim of this study is to compare the healing response of various Hydroxyapatite(HA) coated dental implants by Ion-Beam Assisted Deposition(IBAD) placed in the surgically created circumferential gap in dogs. Materials and methods: In four mongrel dogs, all mandibular premolars and the first molar were extracted. After an 8 weeks healing period, six submerged type implants were placed and the circumferential cylindrical 2mm coronal defects around the implants were made surgically with customized step drills. Groups were divided into six groups : anodized surface, anodized surface with 150nm HA and heat treatment, anodized surface with 300nm HA and heat treatment, anodized surface with 150nm HA and no heat treatment, and anodized surface with 150nm HA, heat treatment and bone graft, anodized surface with bone graft. The dogs were sacrificed following 12 weeks healing period. Specimens were analyzed histologically and histomorphometrically. Results: During the healing period, healing was uneventful and implants were well maintained. Anodized surface with HA coating and $430^{\circ}C$ heat treatment showed an improved regenerative characteristics. Most of the gaps were filled with newly regenerated bone. The implant surface was covered with bone layer as base for intensive bone formation and remodeling. In case that graft the alloplastic material to the gaps, most of the coronal gaps were filled with newly formed bone and remaining graft particles. The bone-implant contact and bone density parameters showed similar results with the histological findings. The bone graft group presented the best bone-implant contact value which had statistical significance. Conclusion: Within the scope of this study, nano-scale HA coated dental implants appeared to have significant effect on the development of new bone formation. And additional bone graft is an effective method in overcoming the gaps around the implants.
글루캔 형성은 이온, 완충액 및 영양물질 등과 같은 구강 내 존재하는 물질과 이들의 변화에 영향을 받는다. 본 연구에서는 치아 우식증의 중요한 원인균인 Streptococcus mutans를 실험균으로 하여 수용성 글루캔 합성 효소인 GTFD 유전자의 발현에 대한 이온 및 완충액의 영향을 Fluorescent in situ hybridization 방법으로 관찰하여 다음의 결과를 얻었다. 1. $CaCl_2$ 농도가 1.0mM, KCl 농도가 2.5mM, $MgCl_2$의 농도가 0.4mM일 때 생균수가 가장 많았다. 2. 완충액의 경우 sodium bicarbonate 10mM, sodium phosphate 1mM, potassium phosphate 0.1mM에서 생균수가 가장 많았고, 3가지 완충액 모두 100mM 농도에서 생균수가 가장 적었다. 3. 자당이 함유되지 않은 BHI 배지에 비해 1%자당을 첨가한 경우 gtfD 유전자의 mRNA 발현에 따른 녹색형광이 관찰되었다. 4. $CaCl_2$ 0.25mM일 때 gtfD 유전자의 mRNA 발현에 따른 녹색형광이 대조군보다 강하였고, KCl의 경우 10mM일 때 대조군과 유사한 녹색형광을 나타냈으나, 다른 농도에서는 거의 관찰되지 않았다. $MgCl_2$의 경우 각 농도에서 대조군보다 녹색형광이 약하게 나타났다. 5. Sodium bicarbonate, sodium phosphate 완충액의 경우 mRNA 발현에 따른 녹색형광이 각 농도에서 대조군과 유사하게 나타났으며, potassium phosphate 완충액의 경우 100mM에서 녹색형광을 거의 관찰할 수 없었다.
이 연구의 목적은 인체 안정성이 입증된 고분자제제인 폴리비닐알코올(PVA, Poly vinyl alcohol)로 얇은 박막을 제조하고 NaF을 첨가하여 불소를 함유한 고분자 접착 테잎(NaF-PVA)을 개발하여 피실험자의 구강 내에 도포 후 잔류하는 불소의 농도를 측정하고자 하는 것이다. 불소바니쉬(Cavityshiled$^{TM}$, 0.25 ml, Group 1)와 불소를 함유한 고분자 접착 테잎(NaF-PVA, Trial product, $1\;cm^2{\times}$ 12개, Group 2)을 각각 10명씩 치과대학 남학생의 치아(상악 12개, 순면)에 도포 후, 30분, 1시간, 2시간, 3시간, 4시간, 24시간, 48시간, 72시간 후 비자극성 전타액내 불소농도를 불소이온전극을 이용하여 측정하였으며 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 도포 후 30분과 1시간에서는 1군이 2군보다 높은 타액 내 불소농도를 보였으나 유의한 차이는 없었다(p>0.05). 2. 도포 후 2시간, 3시간, 4시간에서 2군이 1군보다 유의하게 큰 값을 보였다(p<0.05). 3. 도포 후 24시간 이후부터는 군간 통계적으로 유의한 차이를 보이지 않았다(p>0.05).
Choi, Chang Heon;Park, Jong Min;Park, So-Yeon;Chun, Minsoo;Han, Ji Hye;Cho, Jin Dong;Kim, Jung-in
Journal of Radiation Protection and Research
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제42권2호
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pp.77-82
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2017
Background: This study aims to predict the midline dose based on the entrance and exit doses from optically stimulated luminescence detector (OSLD) measurements for total body irradiation (TBI). Materials and Methods: For TBI treatment, beam data sets were measured for 6 MV and 15 MV beams. To evaluate the tissue lateral effect of various thicknesses, the midline dose and peak dose were measured using a solid water phantom (SWP) and ion chamber. The entrance and exit doses were measured using OSLDs. OSLDs were attached onto the central beam axis at the entrance and exit surfaces of the phantom. The predicted midline dose was evaluated as the sum of the entrance and exit doses by OSLD measurement. The ratio of the entrance dose to the exit dose was evaluated at various thicknesses. Results and Discussion: The ratio of the peak dose to the midline dose was 1.12 for a 30 cm thick SWP at both energies. When the patient thickness is greater than 30 cm, the 15 MV should be used to ensure dose homogeneity. The ratio of the entrance dose to the exit dose was less than 1.0 for thicknesses of less than 30 cm and 40 cm at 6 MV and 15 MV, respectively. Therefore, the predicted midline dose can be underestimated for thinner body. At 15 MV, the ratios were approximately 1.06 for a thickness of 50 cm. In cases where adult patients are treated with the 15 MV photon beam, it is possible for the predicted midline dose to be overestimated for parts of the body with a thickness of 50 cm or greater. Conclusion: The predicted midline dose and OSLD-measured midline dose depend on the phantom thickness. For in-vivo dosimetry of TBI, the measurement dose should be corrected in order to accurately predict the midline dose.
약 10%이하의 Pt 또는 Ir 첨가시켜 니켈모노실리싸이드를 고온에서 안정화 시키는 것이 가능한지 확인하기 위해서 활성화영역을 가정한 단결정 실리콘 웨이퍼와 게이트를 상정한 폴리 실리콘 웨이퍼 전면에 Ni, Pt, Ir을 열증착기로 성막하여 10 nm-Ni/l nm-Pt/(poly)Si, 10 nm-Ni/l nm-Ir/(poly)Si 구조를 만들었다. 준비된 시편을 쾌속 열처리기를 이용하여 40초간 실리사이드화 열처리 온도를 $300^{\circ}C{\sim}1200^{\circ}C$ 범위에서 변화시켜 두께 50nm의 실리사이드를 완성하였다. 완성된 Pt와 Ir이 첨가된 니켈실리사이드의 온도별 전기저항변화, 두께변화, 표면조도변화, 상변화, 성분변화를 각각 사점전기저항측정기와 광발산주사전자현미경, 주사탐침현미경, XRD와 Auger depth profiling으로 각각 확인하였다. Pt를 첨가한 결과 기판 종류에 관계없이 기존의 니켈실리사이드 공정에 의한 NiSi와 비교하여 $700^{\circ}C$ 이상의 NiSi 안정화 구역을 넓히는 효과는 없었고 면저항이 커지는 문제가 있었다. Ir을 삽입한 경우는 단결정 실리콘 기판에서는 $500^{\circ}C$ 이상에서의 NiSi와 동일하게 $1200^{\circ}C$까지 안정한 저저항을 보여서 Ir이 효과적으로 Ni(Ir)Si 형태로 $NiSi_{2}$로의 상변태를 적극적으로 억제하는 특성을 보이고 있었고, 다결정 기판에서는 $850^{\circ}C$까지 효과적으로 NiSi의 고온 안정성을 향상시킬 수 있었다.
침강성 탄산칼슘은 충진용으로 매우 유용하며 제지, 페인트, 플라스틱, 고무, 잉크 등 광범위한 공업분야에 사용되고 있다. 탄산칼슘은 켈사이트, 아라고나이트, 바테라이트의 세 가지 동질이상이 존재하며 그중 바테라이트는 천연적으로 산출되지 않는 것으로 알려져 있다. 본 연구에서는 $Ca(OH)_2-CH_3OH-H_2O-CO_2$계에서 바테라이트 분체를 합성하고자 하였으며, 이때 반응도중 슬러리의 전기전도도, pH, $Ca^{2+}$ 이온농도 등을 측정을 행하였다. 반응이 종료된 후 최종생성물은 XRD 및 SEM을 이용하여 분석하였다. 실험결과 반응온도 50${\circ}C$ 이상에서는 바테라이트와 함께 켈사이트, 아라고나이트가 혼재하게 됨을 알 수 있었으며 순수한 바테라이트를 합성하기 위해서는 반응온도를 40-50${\circ}C$의 범위로 유지해야 함을 알 수 있었다. 또한 반응온도가 40${\circ}C$에서 50${\circ}C$로 증가함에 따라 생성되는 입자의 평균입도를 0.5 ${\mu}m$에서 0.8 ${\mu}m$까지 성장시킬 수 있음을 확인하였다.
코닝유리(Corning glass) 기판 위에 이온빔 증착법으로 제작한 버퍼(Ta)/코네틱(Conetic; NiFeCuMo) 박막에 대해 버퍼층에 의존하는 결정성장과 열처리 효과를 조사하였다. 또한 코네틱층을 증착할 때에 인가한 자기장 방향으로 용이축과 곤란축의 자기저항 곡선으로부터 얻은 보자력과 포화자기장값을 버퍼층 유무에 따라 서로 비교하였다. Ta 박막의 두께가 5 nm이고 코네틱 박막의 두께가 50 nm일 때에 보자력은 0.12 Oe으로 작았으며, MH 히스테리시스 곡선에서 얻은 자화율($\chi$)은 1.2 ${\times}\;10^4$으로 우수한 연자성의 특성을 가졌다. 저자기장에 민감한 거대자기저항 스핀밸브(GMR-SV; giant magneoresistance-spin valve)나 자기터널링접합(MTJ; megnetic tunnel junction) 박막구조에서 자유층으로 연자성의 특성이 우수한 코네틱 박막을 사용할 수 있는 가능성을 확인하였다.
반강자성체인 IrMn 박막이 삽입된 4가지 다른 유형으로 GMR-SV 다층박막을 Corning glass 위에 이온빔 증착 시스템과 DC 마그네트론 스퍼터링 시스템으로 제조하였다. 모든 박막시료는 진공 열처리 후 측정한 major 및 minor 자기저항(MR) 곡선으로부터 자기적 특성을 조사하였다. IrMn 박막이 삽입된 상부층의 이중구조(dual-type structure) GMR-SV 다층박막에서 고정층의 교환결합력($H_{ex}$)과 보자력($H_c$), 자유층의 보자력과 상호교환결합력($H_{int}$)은 각각 410 Oe, 60 Oe, 1.6 Oe, 7.0 Oe이었다. 2개의 자유층에 의한 히스테리시스 곡선은 안정된 사각비를 형성하였으며, 자기저항비(MR(%))는 3.7 %와 5.0 %의 합으로 8.7 %이었다. 그리고 평균 자장민감도(MS)가 2.0 %/Oe을 유지하고 있었다. 반면에 IrMn 박막이 삽입된 하부층의 단일구조와 이중구조 GMR-SV 다층박막의 자기적 특성은 IrMn 박막이 삽입된 상부층의 단일구조와 이중구조 GMR-SV 다층박막보다 훨씬 저하하게 나타내었다. 이중구조 GMR-SV 다층박막의 강자성체인 고정층과 자유층의 자화 스핀배열을 서로 반평행 상태에서 독립적인 이중 스핀 의존산란(Spin-dependent Scattering) 효과에 의해 MR은 최대값을 나타내었다.
We investigated the dependence of the various annealing conditions and thickness ($6\sim45nm$) of the Ti-doped $Al_2O_3$ coating on the electrochemical properties and the capacity fading of Ti-doped $Al_2O_3$ coated $LiCoO_2$ films. The Ti-doped-$Al_2O_3$-coating layer and the cathode films were deposited on $Al_2O_3$ plate substrates by RF-magnetron sputter. Microstructural and electrochemical properties of Ti-doped-$Al_2O_3$-coated $LiCoO_2$ films were investigated by transmission electron microscopy (TEM) and a dc four-point probe method, respectively. The cycling performance of Ti-doped $Al_2O_3$ coated $LiCoO_2$ film was improved at higher cut-off voltage. But it has different electrochemical properties with various annealing conditions. They were related on the microstructure, surface morphology and the interface condition. Suppression of Li-ion migration is dominant at the coating thickness >24.nm during charge/discharge processes. It is due to the electrochemically passive nature of the Ti-doped $Al_2O_3$ films. The sample be made up of Ti-doped $Al_2O_3$ coated on annealed $LiCoO_2$ film with additional annealing at $400^{\circ}C$ had good adhesion between coating layer and cathode films. This sample showed the best capacity retention of $\sim92%$ with a charge cut off of 4.5 V after 50 cycles. The Ti-doped $Al_2O_3$ film was an amorphous phase and it has a higher electrical conductivity than that of the $Al_2O_3$ film. Therefore, the Ti-doped $Al_2O_3$ coated improved the cycle performance and the capacity retention at high voltage (4.5 V) of $LiCoO_2$ films.
토양에서 추출하여 이화학적 성질을 잘 규명한 풀빅산과 카드뮴과의 착화합 반응을 풀빅산의 서로 다른 농도와 다양한 pH 조건하에서 이온 선택성 전극을 이용하여 연구하였다. 결합상수는 Scatchard Plot에 근거한 연속분포모델을 이용하여 구하였다. 이 모델은 결합자리의 성격에 대한 정보 없이도 자연산 유기 고분자의 결합 자리의 다양성을 잘 반영해 줄 수 있다. $logKi(\mu)$의 평균값은 pH가 높아질 수록(pH 4.0: ${\mu}=3.79{\pm}0.74\;l\;mol^{-1}$; pH 6.0: ${\mu}=4.51{\pm}0.78\;l\;mol^{-1}$) 풀빅산의 농도가 묽어질 수록 ([FA] = 50 $mgl^{-1}:{\mu}=4.16{\pm}0.60\;l\;mol^{-1};[FA]=151\;mgl^{-1}: {\mu}=3.75{\pm}0.56\;l\;mol^{-1}$)증가하는 경향을 나타냈다. 가장 강한 결합자리의 결합에 대한 결합상수인 고유결합상수(logKint)는 pH 4.0과 pH 5.0에서 4.72 l $mol^{-1}$이었으며 pH 6.0에서는 6.03 l $mol^{-1}$으로 증가하는 경향을 나타냈다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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