Proceedings of the Korean Society of Tribologists and Lubrication Engineers Conference
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2003.11a
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pp.215-223
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2003
Viscosity index improver (VII) is one of the major additives to the modern multigrade lubricants for the viscosity stability against temperature rise. However, it causes shear thinning effects which make the film thickness lessened very delicately at high shear rate $(over\;10^5\;s^{-1})$ of general EHL contact regime. In order to exactly verify the VII's performance of viscosity stability at such high shear rate, it is necessary to make the measurement of EHL film thickness down to $\~100nm$ with fine resolution for the preliminary study of viscosity control. In this work, EHL film thickness of VII added lubricant is measured with the resolution of $\~5nm$, which will give very informative design tool for the synthesis of lubricants regarding the matter of load carrying capacity at high shear rate condition.
Kim, Kang Cheol;Park, Sung Hyun;Na, Min Young;Kim, Won Tae;Kim, Do Hyang
Applied Microscopy
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v.44
no.3
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pp.105-109
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2014
The microstructure of as-quenched $Al_{70}Cu_{18}Mg_{12}$ alloy has been investigated in detail using transmission electron microscopy. Al nano-crystals about 5 nm with a high density are distributed in the amorphous matrix, indicating amorphous matrix nano-composite can be synthesized in Al-Cu-Mg alloy. The high density of Al nano-crystals indicates very high nucleation rate and sluggish growth rate during crystallization possibly due to limited diffusion rate of solute atoms of Cu and Mg during solute partitioning. The result of hardness measurement shows that the mechanical properties can be improved by designing a nano-composite structure where nanometer scale crystals are embedded in the amorphous matrix.
The effects of deposition rate on exchange coupling field Hex and coercive field Hc in NiO spin-valves are discussed. The Hex and Hc increased with deposition rate of NiO film. The rms roughnesses of the NiO deposited at 6 ${\AA}$/min (NiO-Low) and 30${\AA}$/min (NiO-High) were almost similar, however, the short-range roughness increased with the deposition rate. The Hex, Hc and surface morphologies for the modulated NiO spin-valve films such as NiO-Low\NiO-High\NiO-Low and NiO-High\NiO-Low were investigated.
Pre-service teachers' understandings on magnet was investigated through the questionnaire method. The questionnaire was composed of 17 questions about the strength of magnet, the magnetized object and the direction of magnetic field around magnet. In this investigation study, 225 pre-service teachers were selected through random sampling method, who were sophomores in a National University of Education. The formation rate of the scientific conceptions on the strength of magnet was 30.3% and that on the direction of magnetic field around magnet was 53.9%. The average formation rate of scientific conception of all questions on magnet was 44.13%, which doesn't seem to be high as expected. It shows that many of subjects of the questionnaire don't understand fully the concept of moleclar magnet model and the superposition effects of magnetic field around magnet. The formation rate of the scientific conception on magnet of females who took courses in sciences in high school were higher than that of females who took courses in arts in high school, which had meaningful difference (p<.05).
In this paper, we present performance analysis of an IEEE P802.15.3a high rate wireless personal area network transceiver. This physical layer standard uses QOSK as its sub-channel modulation scheme and orthogonal frequency domain modulation (OFDM) for sub-bands. OFDM is used for each sub-band so that multi-path effects are absorbed by equalizer and guard, and fading can be approximately modeled as additive white Gaussian noise. In multi-band ultra-wideband system, DAC quantization error is important noise source since high resolution conversion cannot be used due to high power consumption. Simulation result shows that, to get 640-Mbps throughput, at least 5-bits precision is necessary to maintain bit-error rate under 10$\^$-2/, which can be lowered, with channel coding, to 10$\^$-6/ that is the bit-error rate required by IEEE 802.15 upper protocol layer, in 4-meter LOS fading channel.
Fatigue crack growth test or low alloy steel was performed in high temperature water. Test parameters were dissolved oxygen content. loading frequency and R-ratio ($P_{min}/P_{max}$). Since the sulfur content or the steel was low, there were no environmentally assisted cracks (EAC) in low dissolved oxygen(DO) water. At high DO, the crack growth rate at R = 0.5 tests was much increased due to environmental effects and the crack growth rate depended on loading frequency and maximized at a critical frequency. On the other hand, R = 0.7 test results showed an anomalous decrease of the crack growth rate as much different behavior from the R = 0.5. The main reason of the decrease may be related to the crack tip closure effect. All the data could be qualitatively understood by effects of oxide rupture and anion activity at crack tip.
In this paper, we propose a scalable high-quality speech reconstruction method for distributed speech recognition (DSR). It is difficult to reconstruct speech of high quality with MFCCs at the DSR server. Depending on the bit-rate available by the DSR system, we can send additional information associated with speech coding to the DSR sorrel, where the bit-rate is variable from 4.8 kbit/s to 11.4 kbit/s. The experimental results show that the speech quality reproduced by the proposed method when the bit-rate is 11.4 kbit/s is comparable with that of ITU-T G.729 under both ideal channel and frame error channel conditions while the performance of DSR is maintained to that of wireline speech recognition.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2003.05c
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pp.83-87
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2003
Thin films of amorphous carbon (a-C) generally combine high wear resistance with low friction coefficients and a-C films have widespread applications as protective coatings and passivation of electrical circuit and insulating layer. In this work we deposited the amorphous carbon (a-C) films on silicon substrate with a high rate DC magnetron sputtering system. It is obtained parameters on the deposition rate and physical properties of a-C films using a wide range of Ar gas pressure and DC power. The physical properties of the films were analyzed by Nanoindenter and AFM (Atomic Force Microscopy), The electrical properties were investigated by electrical conductivity measurement.
Spray patterns were visualized using the shadowgraph method, and the droplet size and velocity were measured using PDPA for high-pressure injections up to 2,600 bars. The spray pattern and spray characteristics, such as penetration, spray width, spray angle, droplet size, injection duration, and droplet velocity, were investigated to determine the suitable injection pressure. Spray penetration, width, angle, and velocity increased continuously up to 2,600 bars with the injection pressure in a high-pressure region. The rate of improvement of the above spray characteristics, however, declined rapidly, when the injection pressure reached 2,000 bars. The injection duration and droplet size generally decreased with the increase in the injection pressure, while the rate of improvement decreased abruptly after 2,000 bars. Consequently, the improvement rate of the spray characteristics became blunt at over 2,000 bars. This means that the suitable injection pressure is around 2,000 bars.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.6
no.2
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pp.57-62
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2005
Using intense pulsed ion beam evaporation technique, we have succeeded in the preparation of poly crystalline silicon thin films without impurities on silicon substrate. Good crystallinity and high deposition rate have been achieved without heating the substrate by using lEE. The crystallinity of poly-Si film has been improved with the high density of the ablation plasma. The intense diffraction peaks of poly-Si thin films could be obtained by using the substrate bias system. The crystallinity and the deposition rate of poly-Si thin films were increased by applying (-) bias voltage for the substrate.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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