Ha, Tae-Min;Son, Seung-Nam;Lee, Jun-Yong;Hong, Sang-Jeen
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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pp.434-435
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2012
Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) silicon dioxide thin films have many applications in semiconductor manufacturing such as inter-level dielectric and gate dielectric metal oxide semiconductor field effect transistors (MOSFETs). Fundamental chemical reaction for the formation of SiO2 includes SiH4 and O2, but mixture of SiH4 and N2O is preferable because of lower hydrogen concentration in the deposited film [1]. It is also known that binding energy of N-N is higher than that of N-O, so the particle generation by molecular reaction can be reduced by reducing reactive nitrogen during the deposition process. However, nitrous oxide (N2O) gives rise to nitric oxide (NO) on reaction with oxygen atoms, which in turn reacts with ozone. NO became a greenhouse gas which is naturally occurred regulating of stratospheric ozone. In fact, it takes global warming effect about 300 times higher than carbon dioxide (CO2). Industries regard that N2O is inevitable for their device fabrication; however, it is worthwhile to develop a marginable nitrous oxide free process for university lab classes considering educational and environmental purpose. In this paper, we developed environmental friendly and material cost efficient SiO2 deposition process by substituting N2O with O2 targeting university hands-on laboratory course. Experiment was performed by two level statistical design of experiment (DOE) with three process parameters including RF power, susceptor temperature, and oxygen gas flow. Responses of interests to optimize the process were deposition rate, film uniformity, surface roughness, and electrical dielectric property. We observed some power like particle formation on wafer in some experiment, and we postulate that the thermal and electrical energy to dissociate gas molecule was relatively lower than other runs. However, we were able to find a marginable process region with less than 3% uniformity requirement in our process optimization goal. Surface roughness measured by atomic force microscopy (AFM) presented some evidence of the agglomeration of silane related particles, and the result was still satisfactory for the purpose of this research. This newly developed SiO2 deposition process is currently under verification with repeated experimental run on 4 inches wafer, and it will be adopted to Semiconductor Material and Process course offered in the Department of Electronic Engineering at Myongji University from spring semester in 2012.
소금의 종류와 농도를 달리하여 네가지의 멸치젓을 담갔다. 친일염을 사용한 시료는 정제염을 사용한 시료에 비해 과산화물가, TBA가, TMA의 함량이 높았고 아미노태 질소, 휘발성 염기 질소의 함량은 같은 염도의 정제염 시료보다는 많았고, 낮은 염도의 정제염 시료와 비슷한 수준이었다. 모든 멸치젓에서 lactic acid 와 succinic acid만을 확인할 수 있었는데 천일염 시료는 두 유기산의 함량들이 정제염 시료에 비해 크게 낮았고, 낮은 염도의 정제염 시료는 높은 염도의 정제염 시료에 비해 lactic acid 함량이 크게 증가하였다. 유리아미노산의 함량 변화는 숙성된 젓들에서 증감의 경향이 흡사하였다. 천일염 시료에서 tyrosine의 감소와, 천일염과 같은 염도의 정제염 시료에서 aspartic acid의 증가가 특이하였다. 친일염 시료는 다른 정제염 시료들 보다 IMP, ino-sine의 함량은 낮았고 hypoxanthine의 함량은 높았다. 낮은 염도의 정제염시료는 높은 염도의 정제염 시료보다 IMP의 함량이 낮고 inosine 과 hypoxanthine 의 함량이 높았다. 염수를 첨가한 멸치젓은 다른 젓들에 비해 TBA가 높고, 핵산 관련 물질은 IMP, inosine의 함량이 천일염 시료보다 많았다. 그외의 모든 분석치들은 크게 낮았다.
본 연구는 여성의 손으로부터 분리한 두 유산균의 co-culture에 의한 향장활성에 대한 것이다. Lactobacillus rhamnosus (L. rhamnosus)와 Lactobacillus paracasei (L. paracasei)를 함께 배양하는 것은 최초이며, co-culture를 이용한 유산균은 tyrosinase 저해율이 L. paracasei와 L. rhamnosus에 비해 20.68%로 가장 높은 수치를 보였다. 또한, co-culture 유산균은 melanin 생성 저해율에서도 63.5%의 가장 높은 활성을 보였으며, 주름개선활성에 영향을 미치는 MMP-1의 생성량이 3726.3 pg/mL로 확인되었다. 반면 단일 유산균 배양시 얻어지는 MMP-1 생성량은 각각 L. rhamnosus가 13613.5 pg/mL, L. paracasei는 13012.0 pg/mL이 확인되었다. Collagen 생성량을 확인한 결과 co-culture 유산균이 380.7 ng/mL로 323.4 ng/mL의 양이 확인된 L. paracasei와 304.1 ng/mL의 양이 확인된 L. rhamnosus보다 많은 양이 생성됨을 확인하였다. 상기의 결과는 유산균의 co-culture가 향장활성 증진을 시킬 수 있다는 것을 나타내고, 이는 향장 활성에 영향을 미치는 항산화 활성을 측정한 결과 단일 유산균 배양을 통한 결과보다 co-culture 유산균의 항산화 활성이 더 높은 것으로 확인할 수 있었다.
13개월령, 체중 30 kg의 암컷 진도개가 왼쪽 전완부의 혈관염과 혈관 주위염으로 인한 심한 피부 결손을 주증상으로 내원하였다. 환자에 왼쪽 표층 상완 축상 피판술이 시행 되었다. 수술 일주일 후 평가에서, 피판은 1/3만이 성공적으로 이식이 이루어졌다. 따라서 결손 된 2/3부위는 전층 망상 식피술로써 재수술을 시행 하였다. 2차 수술 10일 후 결손부가 완전 복구되었다. 이식된 피판의 평가에서도 스스로 혈액 공급이 이루어지고 있었다. 이러한 피판 이식술은 피판의 혈관화가 이루어질 때까지 적절한 혈액 순환의 연속성이 중요하다. 피판 이식술은 다른 이식판보다 두껍기 때문에 이식에 따른 치유 진행 속도가 늦고, 꼬임이나 기저의 장력에 약하다. 따라서, 표층 상완 피판 이식술을 시행할 때, 반드시 피판의 길이와 두께 고려되어야 할 것으로 생각된다.
컴퓨터가 상용화되면서 일반인들은 문서를 작성하기 위해 컴퓨터를 이용하는 방법을 자주 사용하게 되었다. 컴퓨터를 이용하여 문서를 작성하는 방법은 작성 속도가 빠르고 손의 피로가 적지만 철자오류가 발생할 확률이 매우 높다. 보통 철자오류는 발견하기 쉽기 때문에 곧바로 수정이 가능하지만, 사용자의 지식 부족 혹은 눈에 잘 띄지 않는 철자오류도 존재하기 때문에 철자오류가 존재하지 않는 문서를 작성하기 어렵다. 온라인상에서는 문서 작성에 대한 규칙 및 예절이 미비하기 때문에 철자오류에 의한 문제가 적지만 중요문서에서 발생하는 철자오류는 신뢰도 하락과 같은 큰 문제를 일으킨다. 철자오류 교정은 전문가 또한 완벽하게 수행하기 힘들기 때문에 비전문가인 일반인들을 위한 교정방법연구가 필요하다. 본 논문에서는 한글 편집거리 알고리즘을 이용해 철자오류를 교정하는 연구를 진행한다. 이전 연구를 통해 검출한 철자오류를 수집한 말뭉치 사전에서 등장하는 단어 중 철자오류 단어와 가장 유사한 단어를 발견하여 주위 단어와의 동시등장빈도를 계산하는 것으로 철자오류 교정을 수행하게 된다.
새우난초의 액아로부터 다신초 형성을 통한 기내 대량 생산 체계를 확립하기 위하여 본 실험을 실시하였다. 액아로부터 신초 형성율은 1/2MS배지에 NAA $0.5mg{\cdot}L^{-1}$과 TDZ $2.0mg{\cdot}L^{-1}$를 첨가한 배지에 배양하여 4주간 암배양후 16시간 일장으로 배양하였을때 가장 높았다. 액아배양을 통해 얻어진 신초로부터 다신초 (multiple shoots) 증식에는 1/2MS 배지에 TDZ $4.0mg{\cdot}L^{-1}$와 IBA $2.0mg{\cdot}L^{-1}$를 첨가한 배지에서 신초형성수가 12.8개로 가장 양호하였다. 한편, 다신초 증식과정에서 비정상적인 신초가 형성되었으며 이들 비정상신초로부터 정상적인 신초로 회복은 생장조절제가 첨가되지 않은 1/2MS 배지에서 기장 효과적이었다. 다신초의 생장과 발근은 1/2MS 배지에 NAA $0.1mg{\cdot}L^{-1}$를 첨가한 배지에서 신초의 생장과 발근 모두 양호하였다. 발근된 새우난초 유묘는 NAA $10mg{\cdot}L^{-1}$용액에 30분간 침지 처리 후 TKS상토에 이식하였을 때 100% 순화하였으며 순화 후 전반적인 생육도 기장 양호하였다.
비접촉식 시선추적 기술은 인간과 컴퓨터간의 인터페이스로서 장애가 있는 사람들에게 핸즈프리 통신을 제공하며, 최근 코로나 바이러스 등으로 인한 비접촉시스템에도 중요한 역할을 할 것으로 기대된다. 따라서 본 논문에서는 인간 중심의 상호 작용을 위한 상황인식 다중영역 분류기 및 ASSL 알고리즘을 기반으로 한 사용자 인터페이스 기술을 개발한다. 이전의 AdaBoost 알고리즘은 안구 특징 사이의 공간적 맥락 관계를 이용할 수 없기 때문에 눈의 커서 포인팅 추정을 위한 안면 추적에서 충분히 신뢰할 수 있는 성능을 제공 할 수 없다. 따라서 본 논문에서는 효율적인 비접촉식 시선 추적 및 마우스 구현을 위한 눈 영역의 상황기반 AdaBoost 다중 영역 분류기를 제시한다. 제안된 방식은 여러 시선 기능을 감지, 추적 및 집계하여 시선을 평가하고 온 스크린 커서 기반의 능동 및 반 감독 학습을 조정한다. 이는 눈 위치에 성공적으로 사용되었으며 눈 특징을 감지하고 추적하는 데에도 사용할 수 있다. 사용자의 시선을 따라 컴퓨터 커서를 제어하며 칼만 필터를 이용하여 실시간으로 추적하며, 가우시안 모델링을 적용함으로써 후처리하였다. Fits law에 의해 실험하였으며, 랜덤하게 대상객체를 생성하여 실시간으로 시선추적성능을 분석하였다. 제안하는 상황인식을 기반 인식기를 통하여 비접촉 인터페이스로서의 활용이 높아질 것이다.
본 연구는 건시의 냉동 온도를 달리하여, 저장기간 중 품질특성변화를 분석하고 비교하였다. 연구 결과, 유리당 함량은 $10^{\circ}C$, $-20^{\circ}C$에서는 저장기간 전체에서 SF가 더 많았다. 건시의 $L^*$값은 $10^{\circ}C$에서는 표면 갈변에 의해 감소하며, $0^{\circ}C$, $-10^{\circ}C$에서는 백분발생에 의해 그 값이 증가했다. QF, SF 모두 $0^{\circ}C$에서 백분이 가장 많이 발생하여 $L^*$값이 저장온도 중 가장 높았으며, QF에 백분이 더 많이 형성되어 그 값이 더 높았다. $a^*$값은 모든 저장온도에서 감소하는 경향을 보였으며, $10^{\circ}C$, $0^{\circ}C$에서 SF가 더 높았다. 조직감은 탄력성, 씹힘성, 경도를 조사하였으며, $0^{\circ}C$와 $-20^{\circ}C$를 비롯한 전반적인 건시의 경도는 전체 저장 기간 동안 SF에서 조직경화 현상이 더 심하다고 판단하였다. 가용성 탄닌 함량은 $-20^{\circ}C$를 제외하고 모든 저장온도에서 QF가 더 높은 경향이 나타났다. 본 연구의 결론으로 냉동조건에 따른 경향성 있는 결과가 도출된 것으로 미루어 보아, 건시의 저장 전 냉동온도는 저장 중 품질 변화에 영향을 줄 것으로 사료되며, 유리당, 색도, 가용성 탄닌 측면에서 SF, 즉 완만냉동 시료가 저장 중 품질특성이 더 좋을 것으로 보이지만 조직경화 면에서는 SF의 품질이 좋지 않다고 판단된다. 본 연구를 바탕으로 냉동 온도에 따른 관능적 평가와 미생물생육정도에 대한 추가적인 연구가 필요할 것으로 보인다.
경제력집중(經濟力集中)은 경제적(經濟的) 자원(資源)과 수단(手段)의 상당부분이 소수의 경독주체(經瀆主體)에 집중되어 이들이 자원배분(資源配分)의 흐름에 큰 영향을 미칠 수 있는 상태를 말한다. 그러므로 경제력집중(經濟力集中)은 본질상 자유시장기구(自由市場機構)의 생리와는 부합하지 않지만 자본주의(資本主義)의 역사로 볼 때 그것이 바로 자유경쟁(自由競爭)의 소산이라는 측면도 있다는 점이 문제가 된다. 구미(歐美)와 일본(日本) 등에 있어서 자본주의체제(資本主義體制)의 진화궤적(進化軌跡)은 이 문제가 어떻게 전개되는가에 따라 결정되어 왔다. 우리나라에서의 경제역집중(經濟力集中)은 다수의 독(獨) 과점적(寡占的) 대기업(大企業)들이 소유관계(所有關係)로 결합되어 있는 기업집단(企業集團) 즉 소위 재벌(財閥)의 문제로 집약될 수 있다. 우리나라의 기업집단(企業集團)의 성장은 시장기구(市場機構)의 작동결과에 기인한 면도 있지만 고도경제성장기(高度經濟成長期)의 정부정책(政府政策)에 의하여 촉진된 것도 부인할 수 없다. 기업집단(企業集團)에 의한 경제력집중(經濟力集中)은 과거 우리나라의 정치(政治) 경제(經濟) 사회(社會)가 거쳐온 진화과정(進化過程)을 집약적으로 나타내는 것 이다. 그러므로 우리나라에서 민주주의(民主主義)와 자본주의(資本主義)의 이념(理念)과 질서(秩序)에 대한 국민적(國民的) 합의(合意)를 모색하려는 현시점에서 경제력집중(經濟力集中)을 객관적으로 인식하여 효율(效率)과 형평(衡平)을 조화하는 적절한 대응방향을 모색 하는 것은 매우 긴요한 과제이다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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