반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 $CoSi_2$ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구
(Growth behavior and thermal stability of $CoSi_2$ layer on poly-Si substrate using reactive chemical vapor deposition)
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- 한국재료학회:학술대회논문집
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- 한국재료학회 2001년도 추계 학술발표강연 및 논문개요집
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- pp.61-61
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- 2001