Growth behavior and thermal stability of $CoSi_2$ layer on poly-Si substrate using reactive chemical vapor deposition

반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 $CoSi_2$ layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구

  • 김선일 (한국과학기술원 재료공학과) ;
  • 안병태 (한국과학기술원 재료공학과)
  • Published : 2001.11.01