Graphene have showed promising performance as electrodes of organic devices such as organic transistors, light-emitting diodes, and photovoltaic solar cells. In particular, among various organic materials of graphene-based organic devices, pentacene has been regarded as one of the promising organic material because of its high mobility, chemical stability. In the bottom-contact device configuration generally used as graphene based pentacene devices, the morphology of the organic semiconductors at the interface between a channel and electrode is crucial to efficient charge transport from the electrode to the channel. For the high quality morphology, understanding of initial stages of pentacene growth is essential. In this study, we investigate self-assembly of pentacene molecules on graphene formed on a 6H-SiC (0001) substrate by scanning tunneling microscopy. At sub-monolayer coverage, adsorption of pentacene molecules on epitaxial graphene is affected by $6{\times}6$ pattern originates from the underlying buffer layer. And the orientation of pentacene in the ordered structure is aligned with the zigzag direction of the edge structure of single layer graphene. As coverage increased, intermolecular interactions become stronger than molecule-substrate interaction. As a result, herringbone structures the consequence of higher intermolecular interaction are observed.
Yang, Mi-Hyun;Manoj, Sharma;Ihm, Kyuwook;Ahn, Joung Real
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2015년도 제49회 하계 정기학술대회 초록집
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pp.115-115
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2015
Many efforts have been devoted on chemical modification of graphene layer to modulate its electrical properties. In the previous report, laser irradiation on the CYTOP (Amorphous Fluoropolymer) covered graphene layer induces chemical modification wherein carbon fluoride is formed on the graphene surface. This results in the insulating I-V characteristics, which have been attracting much research interests on it. However, the direct analytical evidence of the fluoride formation on graphene surface is not yet studied. In this work we investigated what happened on the CYTOP/graphene interface during photon irradiation using spatially resolved photoemission spectroscopy method. It is found that the soft x-ray (614 eV) induces desorption of fluoride atoms from the CYTOP and change di-fluoride form to mono-fluoride. As the photo-induced fluorine desorption is continue strong dipole field generated by initial di-fluoride forms is gradually decreased, resulting in the overall binding energy shift of the C 1s core levels. Both photo-modified CYTOP and CYTOP starts to desorb above $286^{\circ}C$ (~ 0.047 eV), which means that no strong chemical interaction between CYTOP and graphene is established.
Van Nang, Lam;Kim, Dong-Ok;Trung, Tran Nam;Arepalli, Vinaya Kumar;Kim, Eui-Tae
Applied Microscopy
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제47권1호
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pp.13-18
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2017
High-quality graphene was synthesized on Cu foil and $Fe_2O_3$ film using $CH_4$ gas via inductively-coupled plasma chemical vapor deposition (ICPCVD). The graphene film was formed on $Fe_2O_3$ at a temperature as low as $700^{\circ}C$. Few-layer graphene was formed within a few seconds and 1 min on Cu and $Fe_2O_3$, respectively. With increasing growth time and plasma power, the graphene thickness was controllably reduced and ultimately self-limited to a single layer. Moreover, the crystal quality of graphene was constantly enhanced. Understanding the ICPCVD growth kinetics that are critically affected by ICP is useful for the controllable synthesis of high-quality graphene on metals and oxides for various electronic applications.
In this paper, in-situ heat cooling with temperature monitoring is reported to solve thermal issues in electric vehicle (EV) batteries. The device consists of a thick graphene cooler on top of the substrate and a platinum-based resistive temperature sensor with an embedded heater above the graphene. The graphene layer is synthesized by using chemical vapor deposition directly on the Ni layer above the Si substrate. The proposed thick graphene heat cooler does not use transfer technology, which involves many process steps and does not provide a high yield. This method also reduces the mechanical damage of the graphene and uses only one photomask. Using this structure, temperature detection and cooling are conducted simultaneously using one device. The temperature coefficient of resistance (TCR) of a $1{\times}1mm^2$ temperature sensor on 1-$\grave{i}m$-thick graphene is $1.573{\times}10^3ppm/^{\circ}C$. The heat source cools down $7.3^{\circ}C$ from $54.4^{\circ}C$ to $47.1^{\circ}C$.
Hong, Seul Ki;Song, Seung Min;Sul, Onejae;Cho, Byung Jin
Carbon letters
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제14권3호
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pp.171-174
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2013
The high quality contact between graphene and the metal electrode is a crucial factor in achieving the high performance of graphene transistors. However, there is not sufficient research about contact resistance reduction methods to improve the junction of metal-graphene. In this paper, we propose a new method to decrease the contact resistance between graphene and metal using directly grown graphene over a metal surface. The study found that the grown graphene over copper, as an intermediate layer between the copper and the transferred graphene, reduces contact resistance, and that the adhesion strength between graphene and metal becomes stronger. The results confirmed the contact resistance of the metal-graphene of the proposed structure is nearly half that of the conventional contact structure.
We report a simple way of fabricating high-quality carbon nanoscrolls (CNSs) by taking advantage of strain relief due to large difference in strain at the interface of graphene and underlying layer. This method allows strain-controlled self rolling-up of monolayer graphene during etching process at predefined positions on SiO2/Si substrates by photolithography. The size and the length of the CNSs can be easily controlled by adjusting the thickness of the underlying layer and by pre-patterning. Raman spectroscopy studies show that the CNSs is free of significant defects, and the electronic structure and phonon dispersion are slightly different from those of two-dimensional graphene. The preparation of high-quality CNSs may open up new opportunities for both fundamental and applied research of CNSs.
Graphene, a flat one-atom-thick two-dimensional layer of carbon atoms, is considered to be a promising candidate for nanoelectronics due to its exceptional electronic properties. Most of all, future nanoelectronics such as flexible displays and artificial electronic skins require low cost manufacturing process on flexible substrate to be integrated with high resolutions on large area. The solution based printing process can be applicable on plastic substrate at low temperature and also adequate for fabrication of electronics on large-area. The combination of printed electronics and graphene has allowed for the development of a variety of flexible electronic devices. As the first step of the study, we prepared the gate electrodes by printing onto the gate dielectric layer on PET substrate. We showed the performance of graphene field-effect transistor with electrohydrodynamic (EHD) inkjet-printed Ag gate electrodes.
A hydrogen sensor was fabricated by utilizing a bundle of metal oxide nanostructures whose growth positions were selectively controlled by utilizing graphene, which is a carbon of atomic-unit thickness. To verify the reducing ability of graphene, it was confirmed that the multi-composition metal oxide V2O5 was converted into VO2 on the graphene surface. Because of the role of graphene as a reducing catalyst, it was confirmed that ZnO and MoO3 nanostructures were grown at high density only on the graphene surface. The fabricated gas sensor showed excellent sensitivity.
In this paper, an optical modulator based on monolayer graphene and triple-layer black phosphorus (BP) heterojunction in the optical communication band range is designed. The influences of geometric parameters, chemical potential, BP orientation and dispersion on the fundamental mode of this modulator were determined in detail by the finite-difference time-domain (FDTD) method. Using appropriate geometric parameter settings, the extinction ratio of this proposed modulator is 0.166 dB, while the modulator with a working length of 3 ㎛ can realize a 0.498 dB modulation depth. The 3-dB bandwidth of this modulator could achieve up to 2.65 GHz with 27.23 fJ/bit energy consumption. The extinction ratio and bandwidth of the proposed modulator increased by 66% and 120.83%, respectively, compared to the monolayer graphene-based ridge-type waveguide modulator. Energy consumption was reduced by 97.28%, compared to a double-layer graphene-based modulator.
Today, chemical vapor deposition (CVD) of hydrocarbon gases has been demonstrated as an attractive method to synthesize large-area graphene layers. However, special care should be taken to precisely control the resulting graphene layers in CVD due to its sensitivity to various process parameters. Therefore, a facile synthesis to grow graphene layers with high controllability will have great advantages for scalable practical applications. In order to simplify and create efficiency in graphene synthesis, the graphene growth by thermal annealing process has been discussed by several groups. However, the study on growth mechanism and the detailed structural and optoelectronic properties in the resulting graphene films have not been reported yet, which will be of particular interest to explore for the practical application of graphene. In this study, we report the growth of few-layer, large-area graphene films using rapid thermal annealing (RTA) without the use of intentional carbon-containing precursor. The instability of nickel films in air facilitates the spontaneous formation of ultrathin (<2~3 nm) carbon- and oxygen-containing compounds on a nickel surface and high-temperature annealing of the nickel samples results in the formation of few-layer graphene films with high crystallinity. From annealing temperature and ambient studies during RTA, it was found that the evaporation of oxygen atoms from the surface is the dominant factor affecting the formation of graphene films. The thickness of the graphene layers is strongly dependent on the RTA temperature and time and the resulting films have a limited thickness less than 2 nm even for an extended RTA time. The transferred films have a low sheet resistance of ~380 ${\Omega}/sq$, with ~93% optical transparency. This simple and potentially inexpensive method of synthesizing novel 2-dimensional carbon films offers a wide choice of graphene films for various potential applications.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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