Lee, Jihoon;Park, Jaebum;Park, Danbi;Huh, Jeung Soo;Lim, Jeong Ok
Korean Journal of Materials Research
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v.31
no.7
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pp.420-426
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2021
Graphene, a new material with various advantageous properties, has been actively used in various fields in recent years. Applications of graphene oxide are increasing in combination with other materials due to the different properties of graphene oxide, depending on the number of single and multiple layers of graphene. In this study, single-layer graphene oxide and multi-layer graphene oxide are spray coated on polystyrene, and the physicochemical properties of the coated surfaces are characterized using SEM, Raman spectroscopy, AFM, UV-Vis spectrophotometry, and contact angle measurements. In single-layer graphene oxide, particles of 20 ㎛ are observed, whereas a 2D peak is less often observed, and the difference in surface height increases according to the amount of graphene oxide. Adhesion increases with an increase in graphene oxide up to 0.375 mg, but decreases at 0.75 mg. In multi-layer graphene oxide, particles of 5 ㎛ are observed, as well as a 2D peak. According to the amount of graphene oxide, the height difference of the surface increases and the adhesive strength decreases. Both materials are hydrophilic, but single-layer graphene oxide has a hydrophilicity higher than that of multi-layer graphene oxide. We believe that multi-layer graphene oxide and single-layer graphene oxide can be implemented based on the characteristics that make them suitable for application.
In this paper, a copper foil-thick grapheme (thin graphite sheet)-copper foil structure is reported to achieve mechanically strong and high thermal conductive layer suitable for heat spreading components. Since graphene provides much higher thermal conductivity than copper, thick graphene embedded copper layer can achieve higher effective thermal conductivity which is proportional to graphene/copper thickness ratio. Since copper is nonreactive with carbon material which is graphene, chromium is used as adhesion layer to achieve copper-thick graphene-copper bonding for graphene embedded copper layer. Both sides of thick graphene were coated with chromium as an adhesion layer followed by copper by sputtering. The copper foil was bonded to sputtered copper layer on thick graphene. Angstrom's method was used to measure the thermal conductivity of fabricated copper-thick graphene-copper structure. The thermal conductivity of the copper-thick graphene-copper structures is measured as $686W/m{\cdot}K$ which is 1.6 times higher than thermal conductivity of pure copper.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.08a
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pp.318-318
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2012
A graphene layer is most important materials in resent year to enhance the electrical properties of semiconductor device due to high mobility, flexibility, strong mechanical resistance and transparency[1,2]. The resistance switching memory with the graphene layer have been reported for next generation nonvolatile memory device[3,4]. Also, the graphene layer is able to improve the electrical properties of memory device because of the high mobility and current density. In this study, the resistance switching memory device with metal-oxide nano-particles embedded in polyimide layer on the graphene mono-layer were fabricated. At first, the graphene layer was deposited $SiO_2$/Si substrate by using chemical vapor deposition. Then, a biphenyl-tetracarboxylic dianhydride-phenylene diamine poly-amic-acid was spin coated on the deposited metal layer on the graphene mono-layer. Then the samples were cured at $400^{\circ}C$ for 1 hour in $N_2$ atmosphere after drying at $135^{\circ}C$ for 30 min through rapid thermal annealing. The deposition of aluminum layer with thickness of 200 nm was done by a thermal evaporator. The electrical properties of device were measured at room temperature using an HP4156a precision semiconductor parameter analyzer and an Agilent 81101A pulse generator. We will discuss the switching mechanism of memory device with metal-oxide nano-particles on the graphene mono-layer.
Park, Jin-Seon;Han, Gyu-Seok;Jo, Bo-Ram;Seong, Myeong-Mo
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2016.02a
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pp.280.2-280.2
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2016
The graphene, a single atomic sheet of graphite, has attracted tremendous interest owing to its novel properties including high intrinsic mobility, optical transparency and flexibility. However, for more diverse application of graphene devices, it is essential to tune its transport behavior by shifting Dirac Point (DP) of graphene. So, in the following context, we suggest a method to tune structural and electronic properties of graphene using atomic layer deposition. By atomic layer deposition of zinc oxide (ZnO) on graphene using 4-mercaptophenol as linker, we can fabricate n-doped graphene. Through ${\pi}-{\pi}$ stacking between chemically inert graphene and 4-mercaptophenol, conformal deposition of ZnO on graphene was enabled. The electron mobility of graphene TFT increased more than 3 times without considerably decreasing the hole mobility, compared to the pristine graphene. Also, it has high air stability. This ZnO doping method by atomic layer deposition can be applicable to large scale array of CVD graphene TFT.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.430-430
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2011
Graphene, one single atomic layer of graphite, has attracted extensive attention in various research fields since its first isolation from graphite. Application in the future electronics requires better understanding and manipulation of electronic properties of graphene supported on various solid substrates. Here, we present a study on charge doping and morphology of graphene prepared on atomically flat and highly polar mica substrates. Ultra-flat single-layer graphene was prepared by micro-exfoliation of graphite followed by deposition on cleaved mica substrates. Atomic force microscopy (AFM) revealed presence of ultra-thin water films formed in a layer-by-layer manner between graphene and mica substrates. Raman spectroscopy showed that a few angstrom-thick water films efficiently block electron transfer from graphene to mica. Hole doping in graphene caused by underlying mica substrates was also visualized by scanning Kelvin probe microscopy (SKPM).
An, Sehoon;Lee, Geun-Hyuk;Song, Inseol;Jang, Seong Woo;Lim, Sang-Ho;Han, Seunghee
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2015.08a
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pp.109.2-109.2
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2015
Graphene, as a single layer of $sp^2$-bonded carbon atoms packed into a 2D honeycomb crystal lattice, has attracted much attention due to its outstanding properties such as high carrier mobility, chemical stability, and optical transparency. In order to synthesize high quality graphene, transition metals, such as nickel and copper, have been widely employed as catalysts, which need transfer to desired substrates for various applications. However, the transfer steps inevitably induce defects, impurities, wrinkles, and cracks of graphene. Here, we report a facile transfer-free graphene synthesis method through nickel and carbon co-deposited layer, which does not require separately deposited catalytic nickel and carbon source layers. The 100 nm NiC layer was deposited on the top of $SiO_2/Si$ substrates by nickel and carbon co-deposition. When the sample was annealed at $1000^{\circ}C$, the carbon atoms diffused through the NiC layer and deposited on both sides of the layer to form graphene upon cooling. The remained NiC layer was removed by using nickel etchant, and graphene was then directly obtained on $SiO_2/Si$ without any transfer process. Raman spectroscopy was carried out to confirm the quality of resulted graphene layer. Raman spectra revealed that the resulted graphene was at high quality with low degree of $sp^3$-type structural defects. Furthermore, the Raman analysis results also demonstrated that gas flow ratio (Ar : $CH_4$) during the NiC deposition and annealing temperature significantly influence not only the number of graphene layers but also structural defects. This facile non-transfer process would consequently facilitate the future graphene research and industrial applications.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.618-618
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2013
Graphene is only one atom thick planar sheet of sp2-bonded carbon atoms arranged in a honeycomb crystal lattice, which has flexible and transparent characteristics with extremely high mobility. These noteworthy properties of graphene have given various applicable opportunities as electrode and/or channel for various flexible devices via suitable physical and chemical modifications. In this work, for the development of all-graphene devices, we performed to synthesize alternately patterned structure of mono- and multi-layer graphene by using the patterned Ni film on Cu foil, having much different carbon solid solubilities. Depending on the process temperature, Ni film thickness, introducing occasion of methane and gas ratio of CH4/H2, the thickness and width of the multi-layer graphene were considerably changed, while the formation of monolayer graphene on just Cu foil was not seriously influenced. Based on the alternately patterned structure of mono- and multi-layer graphene as a channel and electrode, respectively, the flexible TFT (thin film transistor) on SiO2/Si substrate was fabricated by simple transfer and O2 plasma etching process, and the I-V characteristics were measured. As comparing the change of resistance for bending radius and the stability for a various number of repeated bending, we could confirm that multi-layer graphene electrode is better than Au/Ti electrode for flexible applications.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.08a
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pp.113-113
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2011
Impressive optical properties of graphene have been attracting the interest of researchers, and, recently, the photovoltaic effects of a heterojunction structure embedded with few layer graphene (FLG) have been demonstrated. Here, we show the direct dependence of open-circuit voltage (Voc) on numbers of graphene layers. After unavoidably adsorbed contaminants were removed from the FLGs, by means of in situ annealing, prepared by layer-by-layer transfer of the chemically grown graphene layer, the work functions of FLGs showed a sequential increase as the graphene layers increase, despite of random interlayer-stacking, resulting in the modulation of photovoltaic behaviors of FLGs/Si interfaces.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.459-459
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2011
Graphene has many fascinating material properties such as high electron mobility, high optical transparency, excellent thermal conductivity, superior Young's modulus, etc. Several studies have recently found that single-layer graphene is chemically more reactive than few-layer graphene when supported on silicon dioxide substrates with sub-nm roughness. In this study, we have investigated the influence of substrates on chemical reactivity of graphene. Morphology and thermal oxidation behavior of graphene on atomically flat mica substrates were studied by atomic force microscopy (AFM) and Raman spectroscopy compared to graphene on SiO2/Si substrates. Notably, oxidation of single-layer graphene proceeds more slowly on mica than SiO2/Si. Detailed analysis led to a conclusion that deformation along the out-of-plane direction enhances reactivity of graphene.
Irannejad, M.;Alyalak, W.;Burzhuev, S.;Brzezinski, A.;Yavuz, M.;Cui, B.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.16
no.4
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pp.169-172
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2015
Although, there are several research studies on the engineering of the graphene layers using different etching techniques, there is not any comprehensive study on the effects of using different etching masks in the reactive ion etching (RIE) method on the quality and uniformity of the etched graphene films. This study investigated the effects of using polystyrene and conventional photolithography resist as a etching mask on the engineering of the number of graphene layers, using RIE. The effects were studied using Raman spectroscopy. This analysis indicated that the photo-resist mask is better than the polystyrene mask because of its lower post processing effects on the graphene surface during the RIE process. A single layer graphene was achieved from a bi-layer graphene after 3 s of the RIE process using oxygen plasma, and the bi-layer graphene was successfully etched after 6 s of the RIE process. The bilayer etching time was significantly smaller than reported values for graphene flakes in previous research.
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