The gas adsorption isotherm requires accurate measurement for the analysis of porous materials and is used as an index of surface area, pore distribution, and adsorption amount of gas. Basically, adsorption isotherms of porous materials are measured conventionally at 77K and 87K using liquid nitrogen and liquid argon. The cold volume calibration in this conventional method is done simply by splitting a sample cell into two zones (cold and warm volumes) by controlling the level sensor in a Dewar filled with liquid nitrogen or argon. As a result, BET measurement for textural properties is mainly limited to liquefied gases (i.e. $N_2$ or Ar) at atmospheric pressure. In order to independently investigate other gases (e.g. hydrogen isotopes) at cryogenic temperature, a novel temperature control system in the sample cell is required, and consequently cold volume calibration at various temperatures becomes more important. In this study, a cryocooler system is installed in a commercially available BET device to control the sample cell temperature, and the automated cold volume calibration method of temperature variation is introduced. This developed calibration method presents a reliable and reproducible method of cryogenic measurement for hydrogen isotope separation in porous materials, and also provides large flexibility for evaluating various other gases at various temperature.
Silicon epitaxial films of submicron level were successfully grown by the RTCVD method. For the growth of silicon epitaxial layers, $SiH_{2}Cl_{2}\;/\;H_{2}$ gas mixtures and various process parameters including $H_{2}$ prebake process were used. The growth conditions were varied to investigate their effects on the interface abruptness of doping profile, the film growth rates and crystalline properties. The crystallinity of the undoped silicon was excellent at the growth temperature of $900^{\circ}C$. The doping profiles were measured by SIMS technique. The abruptness of doping profile would be controlled within about $200{\AA}/decade$ in the structure of undoped Si / $n^{+}-Si$ substrate.
Park, Wug-Dong;Keum, Dong-Yeal;Kim, Ki-Wan;Choi, Kyu-Man
Journal of Sensor Science and Technology
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v.1
no.2
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pp.173-181
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1992
Tantalum pentoxide($Ta_{2}O_{5}$) thin films on p-type (100) silicon wafer were fabricated by RF reactive sputtering. Physical properties and structure of the specimens were examined by XRD and AES. From the C-V analysis, the dielectric constant of $Ta_{2}O_{5}$ films was in the range of 10-12 in the reactive gas atmosphere in which 10% of oxygen gas is mixed. The ratio of Ta : 0 was 1 : 2 and 1 : 2.49 by AES and RBS examination, respectively. The heat-treatment at $700^{\circ}C$ in $O_{2}$ ambient led to induce crystallization. When the heat-treatment temperature was $1000^{\circ}C$, the dielectric constant was 20.5 in $O_{2}$ ambient and 23 in $N_{2}$ ambient, respectively. The crystal structure of $Ta_{2}O_{5}$ film was pseudo hexagonal of ${\delta}-Ta_{2}O_{5}$. The flat band voltage shift(${\Delta}V_{FB}$) of the specimens and the leakage current density were decreased for higher oxygen mixing ratio. The maximum breakdown field was 2.4MV/cm at the oxygen mixing ratio of 10%. The $Ta_{2}O_{5}$ films will be applicable to hydrogen ion sensitive film and gate oxide material for memory device.
Proton conductors have attracted considerable attention for solid oxide fuel cell (SOFC), hydrogen pump, gas sensor, and membrane separators. Doped $SrCeO_3$ exhibits appreciable proton conductivity in hydrogen-containing atmosphere at high temperature. However commercial realization has been hampered due to the reactivity of $SrCeO_3$ with $CO_2$. The chemical stability and proton conductivity are dependent on dopant type. The purpose of this work is to investigate chemical stability of $SrCe_{0.95}Gd_{0.05}O_{3-\alpha}-Ce_{0.9}Gd_{0.1}O_{2-\beta}$ composites in $CO_2$ and $H_2$ gases. Thermogravimetric analysis (TGA) was performed in gaseous $CO_2$ and electrical conductivity of the composites were also measured between 500 and $900^{\circ}C$ in air and $H_2$ atmosphere. $SrCe_{0.95}Gd_{0.05}O_{3-\alpha}-Ce_{0.9}Gd_{0.1}O_{2-\beta}$ composite membranes showed good chemical stability of in $CO_2$ atmosphere and high conductivity at hydrogen condition. The hydrogen permeation of $SrCe_{0.95}Gd_{0.05}O_{3-\alpha}-Ce_{0.9}Gd_{0.1}O_{2-\beta}$ composite membranes was investigated as a function of volumetric content of $SrCe_{0.95}Gd_{0.05}O_{3-\alpha}$. The $SrCe_{0.95}Gd_{0.05}O_{3-\alpha}-Ce_{0.9}Gd_{0.1}O_{2-\beta}$(6:4) membrane with a thickness of 1.0 mm showed the highest hydrogen permeability with the flux reaching of 0.12 $ml/min{\cdot}cm^2$ at $800^{\circ}C$ in 100%$H_2/N_2$ as feed gas.
A planar Bi-Sb multijunction thermal converter with high thermal sensitivity and small ac-dc transfer error has been fabricated by preparing the bifilar thin film Pt-heater and the hot junctions of thin film Bi-Sb thermopile on the $Si_{3}N_{4}/SiO_{2}/Si_{3}N_{4}$-diaphragm, which functions as a thermal isolation layer, and the cold junctions on the dielectric membrane supported with the Si-substrate, which acts as a heat sink, and its ac-dc transfer characteristics were investigated with the fast reversed dc method. The respective thermal sensitivities of the converter with single bifilar heater were about 10.1 mV/mW and 14.8 mV/mW in the air and vacuum, and those of the converter with dual bifilar heater were about 5.1 mV/mW and 7.6 mV/mW, and about 5.3 mV/mW and 7.8 mV/mW in the air and vacuum for the inputs of inside and outside heaters, indicating that the thermal sensitivities in the vacuum, where there is rarely thermal loss caused by gas, are higher than those in the air. The ac-dc voltage and current transfer difference ranges of the converter with single bifilar heater were about ${\pm}1.80\;ppm$ and ${\pm}0.58\;ppm$, and those of the converter with dual bifilar heater were about ${\pm}0.63\;ppm$ and ${\pm}0.25\;ppm$, and about ${\pm}0.53\;ppm$ and ${\pm}0.27\;ppm$, respectively, for the inputs of inside and outside heaters, in the frequency range below 10 kHz and in the air.
HVAC 시스템은 쾌적하고 깨끗한 운전환경을 만들어 줌으로써 운전자에게 향상된 안락성과 안전성을 제공한다. 이때 센서는 시시각각으로 변화하는 차실 내외의 환경변화에 대한 정보를 검출하여 HVAC 제어 유니트에 제공한다. 현재 HVAC 시스템에 사용되고 있는 후막 가스센서는 소자 크기와 소비전력이 크고, 제작공정이 까다로워 생산성이 낮은 단점이 있다. 이와 같은 문제점을 해결하기 위해서 최근에는 초소형화, 저소비전력, 대량생산에 의한 저가격화가 가능한 MEMS 가스센서의 연구개발이 활발히 진행되고 있다. 본 연구에서는 MEMS 구조체를 이용한 마이크로 가스센서를 설계 및 제작하였고, 감도특성을 고찰하였다. 가스 감지막은 금속산화물 페이스트를 스크린 프린팅 하는 종래의 방법 대신 MEMS 구조체에 적용 가능한 sol-gel 프로세스에 의해 형성하였다. 또 가스 감지전극과 micro-heater를 동일 평면상에 제작, 공정을 간소화하여 저가화를 시도하였다. MEMS 구조체 위에 제작된 Pt 박막 micro-heater의 인가전압에 따른 발열특성을 조사한 결과, 발열온도가 인가전압에 비례하는 이상적인 선형성을 나타내었으며, $300^{\circ}C$의 동작 온도에 도달하기 위해 65mW 이하의 저전력 동작이 가능하였다. 가스 센서의 감도특성 확인 실험은 CO 가스 10ppm, NO 가스 0.3ppm을 기준으로 수행되었으며, CO 및 NO에 대해 Rs(sensitivity, 가스반응저항/초기저항) 값은 각각 0.753 과 2.416로 우수한 성능을 나타내었다.
Polycrystalline $Cd_{1-x}Zn_{x}S$ thin film were grown on slide glass(corning-2948) substrate using a chemical bath deposition (C.B.D) method. They were annealed at various temperature and X -ray diffraction patterns were measured by X-ray diffractometor in order to study $Cd_{1-x}Zn_{x}S$ polycrystal structure using extrapolation method of X-ray diffraction patterns for the CdS, ZnS sample annealed in $N_{2}$ gas at $550^{\circ}C$. It was found hexagonal structure which had the lattice constant $a_{0}\;=\;4.1364{\AA}$, $c_{0}\;=\;6.7129{\AA}$ in CdS and $a_{0}\;=\;3.8062{\AA}$, $c_{0}\;=\;6.2681{\AA}$ in ZnS, respectively. Hall effect on these sample was measured by Van der Pauw method and then studied on carrier density and mobility depending on temperature. We measured also spectral response, sensitivity maximum allowable power dissipation and response time on these sample.
Polycrystalline CdS thin films were grown on ceramic substrate using a chemical bath deposition method. They were annealed at various temperature and X-ray diffraction patterns were measured by X-ray diffractometer in order to study CdS polycrystal structure. Using extrapolation method of X-ray diffraction patterns for the CdS samples annealed in $N_{2}$ gas at $550^{\circ}C$ it was found hexagonal structure whose lattice constants $a_{o}$ and $c_{o}$ were $4.1364{\AA}$ and $6.7129{\AA}$, respectively. Its grain size was about $0.35{\mu}m$. Hall effect on this sample was measured by Van der Pauw method and studied on carrier density and mobility defending on temperature. From Hall data, the mobility was likely to be decreased by piezo electric scattering at temperature range of 33K and 150k and by polar optical scattering at temperature range of 150K and 293K. We measured also spectral response, sensitivity (${\gamma}$), maximum allowable power dissipation and response time on these samples.
Polycrystalline CdSe thin films were grown on ceramic substrate using a chemical bath deposition (CBD) method. They were annealed at various temperature and X-ray diffraction patterns were measured by X-ray diffractometer in order to study CdSe polycrystal structure. Using extrapolation method of X-ray diffraction patterns for the CdSe samples annealed in $N_{2}$ gas at $450^{\circ}C$ it was found hexagonal structure whose lattice parameters $a_{o}$ and $c_{o}$ were $4.302{\AA}$ and $7.014{\AA}$, respectively. Its grain size was about $0.3{\mu}m$. Hall effect on this sample was measured by Van der Pauw method and studied on carrier density and mobility depending on temperature. From Hall data, the mobility was likely to be decreased by piezo electric scattering at temperature range of 33 K and 200 K, and by polar optical scattering at temperature range of 200 K and 293 K. We measured also spectral response, sensitivity (${\gamma}$), maximum allowable power dissipation and response time on these samples.
Polycrystalline $CdS_{1-x}Se_{x}$ thin films were grown on ceramic substrate using a chemical bath deposition method. They were annealed at various temperature and X-ray diffraction patterns were measured by X-ray diffractometer in order to study $CdS_{1-x}Se_{x}$ polycrystal structure using extrapolation method of X-ray diffraction patterns for the CdS, CdSe samples annealed in $N_{2}$ gas at $550^{\circ}C$ it was found hexagonal structure which had the lattice constant $a_{0}=4.1364{\AA}$, $c_{0}=6.7129{\AA}$ in CdS and $a_{0}=4.3021{\AA}$, $c_{0}=7.0142{\AA}$ in CdSe, respectively. Hall effect on these samples was measured by Van der Pauw method and then studied on carrier density and mobility depending on temperature. We measured also spectral response, sensitivity(${\gamma}$), maximum allowable power dissipation and response time on these samples.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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