본 실험은 소아치과에서 널리 이용하고 있는 우식예방법인 불소도포가 치면열구전색재와 법랑질과의 결합에 미치는 영향을 알아보는 것이다. 1, 2, 3, 4군은 unfilled sealant인 Teethmate A(Kuraray, Japan)를, 5, 6, 7, 8군은 filled sealant인 Ultraseal XT(Ultradent, U.S.A.)를 이용하였고 1군과 5군은 불소로 전처리를 하지 않았으며 2군과 6군은 1.23% APF인 60 second taste(Pascal Company, U.S.A.)로 전처리하고 3군과 7군은 2.0% NaF인 Swirl(Biomedica Concepts, U.S.A.)로 전처리하였으며 4군과 8군은 불소를 함유한 세마재인 Nupro(Johnson & Johnson Consumer Product Inc., U.S.A.)로 치면세마를 시행하였다. 준비된 시편은 산부식한 후 직경 3mm, 높이 2mm의 몰드를 이용하여 30초간 전색재의 중합을 시행하였고 열순환 후 전단강도를 측정하였다. unfilled sealant의 경우 각 군간에 유의한 차이가 없었지만 filled sealant의 경우 5군과 8군에 비해 6군과 7군은 유의하게 낮은 결합강도를 나타내었다(p<0.05).
Gate insulators using various fluoride films were investigated for thin film transistor applications. Conventional oxide containing materials exhibited high interface states, high $D_{it}$ gives an increased threshold voltage and poor stability of TFT. To improve TFT performances, we must reduce interface trap charge density between Si and gate insulator. In this paper, we investigated gate insulators such as such as $CaF_2$, $SrF_2$, $MgF_2$ and $BaF_2$. These materials exhibited an improvement in lattice mismatch, difference in thermal expansion coefficient, and electrical stability MIM and MIS devices were employed for an electrical characterization and structural property examination. Among the various fluoride materials, $CaF_2$ film showed an excellent lattice mismatch of 0.737%, breakdown electric field higher than 1.7MV/cm and leakage current density of $10^{-6}A/cm^2$. This paper probes a possibility of new gate insulator material for TFT application.
본 연구의 목적은 치간삭제 후 불소 및 수산화인회석 페이스트의 치면 도포에 대한 법랑질 표면의 결정구조 및 재광화를 평가하고자 하였다. 치간삭제 후 1.23% 인산화 불소 및 10% 수산화인회석 페이스트를 치면에 도포한 후 법랑질 표면의 결정구조 변화를 주사전자현미경으로 관찰하고, 법랑질 표면의 칼슘, 인, 불소 함량 등의 변화를 energy dispersive X-ray spectroscopy (ESD)로 분석하였다. 실험결과 10% 수산화인회석 페이스트 도포한 군에서 칼슘함량이 증가하였고 (p < 0.01), 치간 삭제 후 거칠었던 법랑질 표면이 매끄럽고 부드러워졌으며 법랑질 결정구조가 작고 치밀해짐을 관찰할 수 있었다. 이상의 결과는 치간삭제 후 불소 및 수산화인회식 도포가 치면 결정구조 및 재광화에 유리하다는 것을 의미한다.
The effect of topical application on the number of S. mutans was tested in a group of 44 orthodontic patients (mean age, 12Y 3M). They were divided into 5 groups according to the method using NaF and $SnF_2$. The number of S. mutans CFU were counted in stimulated saliva of each subject at baseline, and after one, two, three, and eight weeks. The following results were obtained. 1. In NaF rinsing group, and NaF topical application and NaF rinsing group, the number of S. mutans per ml saliva was not significantly changed. 2. In $SnF_2$ topical application group, and $SnF_2$ topical and NaF rinsing group, the number of S. mutans per ml saliva was significantly reduced. 3. After 8 weeks, there were no significant reduction of the number of S. mutans in comparison with baseline.
본 임상연구는 상아질지각과민증을 치료하기 위한 여러 가지 방법 중 효과적인 방법의 하나로 알려져 있는 불소(NaF)를 이용하여 불소테이프(SCMC-T-5)를 개발, 제조하고, 이를 이용하여 상아질 지각과민 치료 효과를 기존의 불소바니쉬(Cavity $Shield^{TM}$)와 비교, 평가하였다. 상아질 지각과민증이 있는 건강한 20대 남녀 22명(88개 치아)이 본 임상연구에 참가하였으며, 각각 11명씩 불소테이프를 부착시킨 실험군과 불소바니쉬를 도포한 대조군으로 분류하였다. 불소 제제는 제조사의 지시에 따라 적용되었으며, 불소 제제 도포 전, 도포 3일후, 1주일 후, 4주일 후 대상치아에 압축공기와 얼음막대를 이용하여 자극을 가한 뒤 visual analog scale(VAS)을 이용하여 통증 정도를 표시하도록 하였다. 실험군에서 VAS scores는 초기에 38.636(air), 62.273(ice), 3일 후 30.273(air), 49.545(ice), 1주일 후 28.182(air), 40.000(ice), 4주일 후 26.364(air), 37.727(ice)이었으며, 초기 VAS socres에 비해 모든 VAS scores는 통계학적으로 유의성 있게 감소되었다. 대조군에서 VAS scores는 초기에 42.274(air), 65.909(ice), 3일 후 34.091(air), 55.909(ice), 1주일 후 28.636(air), 40.909(ice), 4주일 후 27.727(air), 31.364(ice)이었으며, 3일 후에 시행된 압축공기에 의한 자극검사를 제외한 모든 VAS scores는 초기 VAS socres와 비교했을 때 통계학적으로 유의성 있게 감소되었다. 본 임상연구에 사용된 불소테이프와 불소바니쉬는 상아질 지각과민증을 효과적으로 감소시켰고, 두 약제간의 치료효과의 차이는 없었다.
We have fabricated a high-Tc superconductive transistor with polyvinylidene fluoride (PVDF) gate electrode on MgO bicrystal Josephson junction by spin-coating method. The PVDF ferroelectric film is found to be suitable fur a gate electrode of the superconductive transistor since it has not only small leakage current but also high dieletric constant at low temperature. For the application of superconducting-FET, we investigated millimeter wave properties (60 GHz band) of the Josephson junction with PVDF gate electrode.
Kang, Young-Jea;Lutz, Christopher;Hong, Sung-A;Sung, Da-Yeon;Lee, Jae-Seon;Shin, Jae-Ho;Nam, Hak-Hyun;Cha, Geun-Sig;Meyerhoff, Mark E.
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제31권6호
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pp.1601-1608
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2010
A scandium(III) porphyrin-based fluoride-selective potentiometric sensor and its application in the analysis of hydrofluoric acid is described. Scandium(III) octaethylporphyrin, an ionophore recently developed for the optical fluoride sensor, was employed as a host molecule for the selective binding with fluoride in the plasticized PVC membrane. Nernstian response for $F^-$ between $10^{-4.6}$ to $10^{-1}$ M was observed at a glycine-phosphate buffer (pH 3.0). The selectivity pattern was observed as $F^-$, salicylate $\gg$$SCN^-$ > $Cl^-$, $Br^-$, $NO_3{^-}$, $ClO_4{^-}$, which is consistent with the binding constant data measured in the plasticized PVC membrane based on a sandwich membrane method. This highly selective and reversible fluoride-sensitive electrode was employed for the analysis of hydrofluoric acid (HF). A disposable differential-type HF sensor was fabricated on the screen-printed electrode and demonstrated its ability to detect the neutral HF in the acidic solution.
Silicon surface nanostructures, which can be easily prepared by electrochemical etching, have attracted considerable attention because of its useful physical properties that facilitate application in diverse fields. In this work, electrochemical and electrochemical-scanning tunneling microscopic (EC-STM) techniques were employed to study the evolution of surface morphology during the electrochemical etching of Si(111)-H in a fluoride solution. The results exhibited that silicon oxide of the Si(111) surface was entirely stripped and then the surface became hydrogen terminated, atomically flat, and anisotropic in the fluoride solution during chemical etching. At the potential more negative than the flat band one, the surface had a tendency to be eroded very slowly, whereas the steps of the terrace were not only etched quickly but the triangular pits also deepened on anodic potentials. These results provided information on the conditions required for the preparation of porous nanostructures on the Si(111) surface, which may be applicable for sensor (or device) preparation (Nanotechnology and Functional Materials for Engineers, Elsevier 2017, pp. 67-91).
The use of mouth-rinses containing sodium fluoride after tooth brushing has been proposed as a potentially useful measure for the prevention of dental caries in the practice of public health. About 700 middle school girls rinsed their mouths in the school once a week with sodium fluoride sodution after tooth-brushing. Tooth brushing was practiced everyday after meals and the rinses were carried out under the supervision of the teachers. The procedure consisted of gargling 10cc of fluoride solution for one minute and immediately followed by a second rinse with tap water. The rinsing was started in May 1976 and continued for one year. The results were as follows: 1) The inhibition of the 'D' Person rate was 76.04%, 'M' person rate was 80.79%, 'F' person rate was 4.06% and, 'D.M.F.' person rate was 76.86%. 2) the reduction of the 'D.T.' Index was 81.94%, 'M.T.' Index was 85.71%, 'F.T.' Index was 7.69% and, 'D.M.F.T.' Index was 76.83%. 3) Mouth rinsing with 0.3% NaF solution and tooth brushing are of value in the mass control of dental caries.
구강내의 불소농도를 증가시키는 여러 방법에는 불화된 상수도를 섭취하거나 불소보조제를 복용하는 전신적 투여방법과 불소치약, 불소양치액, 불소젤의 도포와 같은 국소적 투여방법이 있다. 그동안 다양한 delivery system을 통한 국소도포용 불소제제가 임상적으로 우식증을 예방하는데 도움이 된다는 사실이 확인되었다. 최근의 연구에서 불소의 항우식효과는 치아주위의 oral fluid environment속에서 불소의 중요성을 지적하고 있다. 비자극성 전타액내 불소농도는 주어진 시간동안 치면과 상호작용이 가능한 aqueous phase의 불소를 나타낸다고 한다. 따라서 타액내의 불소 농도를 조사함으로써 간접적으로 우식예방효과에 대한 정보를 얻을 수 있다. 우식증예방을 위해 환자에게 여러 가지 국소도포방법 중 한 가지를 추천하기에 앞서 이들 각 방법이 타액내 불소농도를 증가시키는데 얼마나 효과적인지 알 필요가 있다. 이에 저자는 국소적 불소도포후 구강내 불소의 잔류량과 시간별 농도를 비교하고자 현재 국내에서 많이 쓰이고 있는 서로다른 네가지 불소제제를 사용하고 난 뒤 시간변화에 따른 타액내 불소농도를 HMDS를 이용한 확산법과 불소이온전극을 사용하여 측정하고 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 비자극성 혼합타액내 평균 불소농도는 $0.0152ppm{\pm}0.0091ppm$이었으며, 비자극성 타액분비율은 0.34-0.36ml/min으로 각군간에 통계적 유의차는 없었다. 2. 불소제제 사용직후를 제외하고는 모든 구간에서 타액내 불소 농도는 APF gel군>neutral gel군>불소양치액군>불소치약군의 순이었고, 불소처치 120분 경과후 불소치약군의 타액내 불소농도가, 180분 경과후 불소양치액군의 불소농도가 대조군과 통계적 유의차를 보이지 않은 반면, 6시간 경과후까지 APF gel군과 neutral gel군의 타액내 불소농도가 대조군에 비해 유의성있게 높게 유지되었다(p<0.05). 3. 불소제제 사용직후부터 120분 경과후까지 타액내 잔류불소량($AUC_{0-120min}$)은 neutral gel군>APF gel군>불소양치액군>불소치약군의 순이었고, neutral gel군과 APF gel군이 대조군과 나머지 두 군에 비해 유의하게 높은 값을 보였다(p<0.05).
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[게시일 2004년 10월 1일]
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