This study was aimed to both enhance the fluoride removal and to reduce the phosphorus removal in treating semiconductor wastewater using $Ca(OH)_2$ at low pH so as to facilitate struvite crystallization reaction. The struvite crystallization could be introduced after fluoride removal by retaining the phosphorus source. As the results, the method applied in this study achieved high fluoride removal efficiency (about 91%) with retardation of phosphorus removal at pH 4, compared to conventional methods where the removal of fluoride and phosphorus were done at pH 11. Therefore, the fluoride removal at low pH would contribute to the enhancement of nitrogen and phosphorus removals in a consecutive struvite crystallization reactor. Treatment of semiconductor wastewater at low pH using $Ca(OH)_2$ also had lower (about 20%) water content of precipitated sludge compared to conventional method. As the molar ratio of Ca to F increased the removal efficiencies of fluoride and phosphorus increased. Although the amount of seed dosage didn't affect the removal of fluoride and phosphorus, its increase reduced the water content of precipitated matter. Finally, considering consecutive struvite reaction, the optimum condition for the removal of fluoride and phosphorus was as follow: pH: 4, the molar ratio of Ca:F: 1:1.
치아우식의 예방을 목적으로 불소가 사용되어오고 있으며, 전문가 불소도포용으로 acidulated phosphate fluoride(APF) gel이 널리 사용되고 있다. 그러나 최근에는 fluoride varnish의 사용이 점차로 늘고 있으며, 이것은 유럽과 스칸디나비아에서 널리 사용되고 있다. 본 연구의 목적은 fluoride varnish와APF gel이 인공우식 병소에 미치는 영향을 비교연구하는 것이다. 소의 건전한 법랑질에 인공우식을 유발시킨 60개의 시편을 각 군당 20개씩, 세 군으로 나누었다. 1군은 대조군으로 어떠한 처치도 시행하지 않았다. 2군은 fluoride varnish를 도포후 1시간 후에 제거하였고, 3군은 APF gel을 도포후 1분 후에 제거하였다. 그리고 나서 생체외에서 매일 인공우식 용액에 3시간씩, 그리고 인공타액에 21시간씩 시편을 담그고 재광화/탈회 순환(remineralization/demineralization cycling)을 시행한 후 각각 5일 후와 15일 후에 미세경도를 측정하여 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 5일 후에 미세경도를 측정한 결과 2군과 3군은 1군에 비해 통계학적으로 유의성 있게 높았다(p<0.05). 그리고 15일 후에 측정한 결과도 2군과 3군이 1군에 비해 통계학적으로 유의성 있게 높았다(p<0.05). 2. 5일 후 2군과 3군의 미제경도를 비교시 각 군간 유의한 차이가 있었으며, 15일 후에도 각 군간 유의한 차이가 없었다. 3. 미세경도의 면화에 있어서 2군은 5일 후와 15일 후에 유의한 차이가 없었으며, 3군에서도 유의한 차이가 없었다. 그러나, 1군은 5일 후와 15일 후에 측정한 미세경도가 유의성 있게 감소하였다(p<0.05).
불소는 구강내에서 치아 우식의 예방 및 초기 우식의 재광화를 유도하기 위한 목적으로 널리 사용되고 있으며, 불소가 유리되는 수복물을 이용하게 되면, 수복물 주위의 이차 우식 및 구강내의 우식 감수성을 감소시킬 수 있다. 현재 소아치과 영역에서 주로 사용되고 있는 불소유리 수복재로는, 전통적인 글라스 아이오노머와 레진 강화형 글라스 아이오노머, 컴포머 등이 있는데, 본 연구에서는 현재 소아치과 영역에서 많이 사용되고 있는 불소를 유리하는 수복재의 불소 유리량 및 불소 적용방법에 따른 불소유리량의 변화를 비교하고 확인하고자 한다. 복합레진으로 $Z-250^{TM}$ (Group I)과 컴포머로 $Dyract^{(R)}$ AP(Group II) 레진 강화형 글라스 아이오노머로 Fuji II $LC^{(R)}$ (Group III), 자가중합형 글라스 아이오노머로 Fuji IX GP $Fast^{(R)}$(Group IV)를 실험대상으로 선정하였다. 각 재료별로 동일한 크기의 디스크를 제작하여, 31일 동안 매일 새로운 용액으로 교환하면서 불소 유리량을 측정하였다(실험 I). 이후 수복재료별로 불소 적용 방법에 따라 4군으로 나누는데, A군은 대조군(No treatment)으로, B군은 불소가 함유된 치약(500ppm, Stages, $Oral-B^{(R)}$, Holland)을 3분간 3회 적용하고, C군은 1.23% APF Foam(1000ppm, Sultan Topex, #31150, Canada)을 1회 적용하며, D군은 B군과 동일한 치약을 3회 적용하고, 1.23% APF Foam을 1회 적용하였다. 불소 적용 후 7일 동안 불소 유리량을 측정하였다(실험 II). 실험 I에서, 실험 개시일부터 7일까지 불소 유리량이 급속히 감소하고, 이후 일정한 불소 유리량을 보였다. III군 (Fuji II-$LC^{(R)}$)과 IV군 (Fuji IX GP $Fast^{(R)}$)이 다른 군에 비해 높은 불소 유리량을 보였으며, III군과 IV군 사이에서는 유의한 차이를 보이지 않았다. 실험 II에서, 불소 적용 후 II, III, IV군에서 불소 유리 량이 증가한 양상을 보이는데, II군에서는 불소 적용 후 2일, III군에서는 5일, IV군에서는 4일부터 초기 불소 유리량 수준으로 돌아갔다.
Various fluoride films were investigated for a gate insulator of thin film transistor application. Conventional oxide containing materials like $SiO_2\;Ta_2O_5\; and \; Al_2O_3$ exhibited high interface states which lead to an increased threshold voltage and poor stability of TFT. In this paper, we investigated gate insulators using a binary matrix system of fluoride such as $CaF_2,\; SrF_2\; MgF_2,\; and\; BaF_2$. These materials exhibited an improvement in lattice mismatch, interface state and electrical stability. MIM and MIS devices were employed for an electrical characterization and structural property examination. Among the various fluoride materials, $CaF_2$ film showed an excellent lattice mismatch of 5%, breakdown electric field higher than 1.2MV/cm and leakage current density of $10^{-7}A/cm^2$. MIS diode having $Ca_2$ film as an insulation layer exhibited the interface states as low as $1.58\times10^{11}cm^{-2}eV^{-1}$. This paper probes a possibility of new gate insulator materials for TFT applications.
지난 수십 년간 소아의 치아우식증 예방과 성인의 지각과민증 둔화에 여러가지 국소불소도포를 이용하면서, 보다 효과적이면서도 사용이 용이하고 다양하게 적용될 수 있는 최선의 방법을 모색하고자 노력해왔다. 이에 본 연구에서는 불소이온영동 시 전류와 시간에 따라 법랑질에 흡수된 불소농도의 차이를 분석해보기 위함이다. 구강에서 교정치료를 위해 발거한 건전한 치아 40개를 선택하여 0.2 mA와 0.5 mA의 전류에서 시행한 실험군과 1개의 대조군으로 분류한 후, 각 실험군은 3개의 아군(1, 3, 및 5분군)으로 재분류하여 한 군당 5~6개의 치아를 선정하였고, 2% 불화나트륨 용액으로 이온영동을 시행하여 법랑질 표면적이 $9mm^2$($3{\times}3mm$)가 되도록 시료를 제작하였다. 법랑질 표면의 불소농도는 X-선 광전자분광분석과 주사전자현미경 관찰로 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 불소이온영동된 시료의 X-선 광전자분광분석 결과, 법랑질 표면의 원소 중 불소의 비율은 대조군이 0.49%임에 비해 '1분', '3분' 및 '5분' 동안의 실험 군에서는 02전류에서 각각 2.67%, 2.79%, 3.04%이었고, 0.5 mA전류에서는 2.71, 2.87 및 3.80%로 나타났다. 2. 주사전자현미경적 소견으로 불소이온영동 초기에는 법랑질 표면에 불규칙하고 석회화된 결정체 입자들이 침착된 형상으로 나타났고, 불소이온영동 시간이 경과될수록 법랑질 내에서 반응이 일어나 새로운 기반이 형성되어 균질한 양상을 나타냈다. 이상의 연구결과로 0.5 mA 의 전류에서 '5분' 동안 불소이온영동을 시행할 시 법랑질 표면에 불화인회석이 형성되는 양상으로 나타났다.
The use of fluoride is one of the most effective methods for caries prevention. Fluoridation of public water supply has been recognized, for many years, as an effective way to reduce dental caries. The fluoride supplement has been recommended when the natural fluoride was unavailable or below the optimal range. However the mechanism of caries prevention by fluoride has not yet been clarified and it is well known that an overdose of fluoride results inacute and chronic toxicity, especially dental fluorosis. Fluoride mouthrinsing solution is widely used in dentistry due to its effectiveness in carrying anticariogenic action. Understanding the effects of fluoride mouthrinsing solution on human gingival fibroblasts will provide the safety rationale for its use during the caries preventive therapy. The purpose of this study was to evaluate the cytotoxic effect of fluoride mouthrinsing solution on the human gingival fibroblast in vitro. The human gingival fibroblasts were cultured from healthy gingiva on the extracted deciduous teeth of children. Cells were inoculated into a 24-well plate with $1{\times}10^4cells/well$ of medium at $37^{\circ}C$, 100% humidity, 5% $CO_2$ incubator for 24 hours. And the cells were counted by using the hemocytometer at each designed study. Human gingival fibroblasts were cultured in growth medium after one minute application range of 0.02%-0.2% NaF solution and 0.1% $SnF_2$ solution. The cells used in this study were between fifth to eighth passage number. The cell morphology was examined by inverted microscope and cell proliferation was measured by incorporating $[^3H]$-thymidine into DNA. DNA synthesis by human gingival fibroblasts was assessed by $[^3H]$-thymidine uptake assays while the cell activity was measured by MTT assay. Each concentrated fluoride mouthrinsing solution was estimated for its biocompatability with fibroblasts by the tissue culture technique. The results of this study were as follows : 1. It was observed that at 0.05%, 0.2% NaF mouthrinsing solution the cytoplasmic processes became globular. When 0.1% $SnF_2$ mouthrinsing solution was applied, the cytoplasmic process and cell morphology were disappeared. 2. DNA synthetic activity was reduced regardless of the concentration of the fluoride mouthrinsing solution. However, the result is statistically insignificant except 0.1% $SnF_2$ mouthrinsing solution(p<0.05). 3. Our results indicate that 0.02%, 0.05% concentrations of NaF mouthrinsing solution caused minimal cytotoxicity. But 0.2% NaF and 0.1% $SnF_2$ concentration were a significant difference between the cell activity in the experimental group and control group (p<0.05). 4. After appling 0.05% & 0.02% NaF fluoride mouthrinsing solution, cell activity was restored to the control groups level according to incubating time. The results suggest that direct exposure to fluoride solution inhibits gingival fibroblast activity. Therefore, for the most effective use of fluoride use, lowering the concentration of fluoride mouthrinsing is advisable because it maintains biocompatability and free ion in the oral fluid.
불소도포와 치면열구전색은 치아우식을 예방하기 위한 목적으로 임상에서 널리 병용하여 사용되고 있지만, 불소가 치면열구전색제의 표면 구조를 변화시켜 미생물이 서식할 조건을 마련하여 수복물의 수명을 단축시키는 원인이 될 수 있다. 이에 본 연구에서는 현재 치과 임상에서 많이 사용되고 있는 레진계 실란트 Concise와 Eco-S를 사용하였고, 대표적인 불소도포제재 1.23% APF gel과 5% NaF Fluoride Varnish가 치면열구전색제의 표면 구조에 미치는 영향을 평가하기 위해 제작된 치면열구전색제시편을 각각 5군으로 불소제재를 처리하지 않은 I군, APF gel 1분간 처리한 II군, APF gel 4분간 처리한 III군, Fluoride Varnish 1분간 처리한 IV군, Fluoride Varnish 4분간 처리한 V군으로 분류하여 마모실험에 의한 무게변화를 측정하였고, 광학현미경을 이용하여 표면구조를 관찰하여 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. 치면열구전색제 Concise를 이용한 마모실험에서 불소제재를 처리하지 않은 I군에 비하여 APF gel 4분간 처리한 III군에 무게 감소가 증가하였으며, Fluoride Varnish 4분간 처리한 V군에서 무게 감소가 적으며(p<0.05), Eco-S를 이용한 마모실험 결과 또한 같았다(p<0.05). 2. 광학현미경으로 표면의 변화를 관찰한 결과 APF gel을 도포한 경우 기질의 소실로 필러가 두드러진 양상을 보였으며, 각 군 별로는 APF gel 4분간 처리한 III군, APF gel 1분간 처리한 II군, 불소제재를 처리하지 않은 I군, Fluoride Varnish 1분간 처리한 IV군, Fluoride Varnish 4분간 처리한 Ⅴ군의 순으로 표면 거칠기가 감소되는 결과를 보였다. 결론적으로, 치면열구전색과 불소도포를 당일 시행하는 경우, 불소도포제를 1.23% APF gel 사용 시 4분 보다 1분 도포하며, 1.23% APF gel보다는 5% NaF Fluoride Varnish 도포하는 것이 치면열구전색제의 표면 구조에 영향을 줄일 수 있다고 사료된다.
본 연구는 접착층을 통한 자이오머(Beautifil Injectable)와 컴포머($Dyract^{(R)}$ XP)의 불소 유리를 직접적으로 평가하고 비교하였다. 자이오머와 컴포머 그리고 불소를 함유하지 않은 복합레진의 원통형 시편을 각각 20개씩 제작하였다. 20개 중 10개의 시편은 접착제(Scotchbond Multi-Purpose)를 균일하게 도포하였다. 각 시편은 2 mL 탈이온수에 넣어 $37^{\circ}C$에서 보관하였으며 1, 3, 7, 14, 21, 28일째 유리된 불소를 측정하였다. 접착제를 적용한 추가적인 시편을 제작하여 주사전자현미경으로 접착제가 균일하게 도포되었는지 확인하였다. 자이오머와 컴포머에 접착제를 도포한 군은 3일째까지 불소가 검출되지 않았으나 7일째부터는 불소가 검출되었다. 접착제는 불소의 유리를 완전히 차단하지 못하였으며, 접착제를 투과하는 자이오머와 컴포머의 불소 유리량은 유의하게 감소하였다(p < 0.05). 불소의 유리량 감소는 컴포머보다 자이오머에서 더 현저했다.
필름 형태의 새로운 불소 delivery system을 개발하고 이에 대한 치아 우식증 예방효과를 기존의 전문가 불소 도포 제재인 APF gel 및 불소 바니쉬와 비교 평가해 보고자 하였다. 소의 법랑질 시편에 APF gel(60 seconds taste$^{(R)}$, 1.23% APF, PASCAL, USA)과 불소 바니쉬(CavityShield$^{TM}$, 5% sodium fluoride, Ominii Pharmaceuticals, USA), 그리고 최근 개 발된 3% 불소 함유 필름, 5% 불소 함유 필름 시제품을 도포한 후 인공 우식을 유발시켜 표면미세경도와 병소깊이를 측정하 여 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 실험군과 대조군의 표면미세경도의 차이는 II군, IV군, III군, I군의 순으로 컸으며, I군은 II군, III군, IV군에 비해 유의 한 차이가 있었으나, II군, III군, IV군 간에는 유의한 차이가 없었다. 2. 실험군과 대조군의 병소 깊이의 차이는 II군이 가장 컸으며(P<0.05), I군이 가장 작았다(P<0.05). III군과 IV군은 유의한 차이가 없었다. 이상의 결과로 미루어 보아 새로 개발된 불소 전달 시스템인 불소 함유 필름은 불소 젤보다 치아 우식증 예방효과가 우수한 것으로 나타났으며, 불소 바니쉬와 유사한 효과를 나타내었다.
치간 삭제 후 재광화 및 치아우식 예방법을 찾기 위한 노력의 일환으로 1.23% 인산화불소 젤 또는 5%, 10% 수산화인회석함유 페이스트를 치간 삭제된 법랑질 표면에 도포하였고, 그 후 젖산탈회용액으로 처리하였다. 법랑질 표면의 재광화 및 탈회 후 결정구조 변화를 주사전자현미경으로 관찰하고 칼슘, 인, 불소 함량 등의 변화를 energy dispersive X-ray spectroscopy로 분석해서 비교하였다. 치간 삭제 후 5%, 10% 수산화인회석함유 페이스트를 도포한 군에서 칼슘과 인 함량이 증가하였고, 1.23% 인산화불소 젤 도포 군에서는 불소 함량이 증가하였다. 또한 모든 재광화 제제에서 법랑질 표면이 매끄럽고 부드러워졌으며 결정구조가 작고 치밀해짐을 관찰할 수 있었다. 10% 수산화인회석함유 페이스트로 재광화한 군은 탈회 후에도 칼슘과 인 함량이 증가된 채로 유지되었고, 5% 수산화인회석함유 페이스트로 재광화한 군은 탈회 후 인 함량이 증가된 채로 유지되었다. 치간 삭제 후 탈회 처리 시 대조군의 법랑질은 파괴양상이 심해 거친 굴곡으로 이루어진 불규칙한 표면 상태를 나타내었으나 불소 및 수산화인회석으로 재광화한 군에서는 법랑질의 파괴양상이 적어 작은 결정입자들과 미세공극이 유지되었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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