• Journal of the Korean Statistical Society
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• 제33권4호
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• pp.435-447
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• 2004

In additive nonparametric regression, Linton and Nielsen (1995) showed that the marginal integration when applied to the local linear smoother produces a rate-optimal estimator of each univariate component function for the case where the dimension of the predictor is two. In this paper we give new formulas for the bias and variance of the marginal integration regression estimators which are valid for boundary areas as well as fixed interior points, and show the local linear marginal integration estimator is in fact rate-optimal when the dimension of the predictor is less than or equal to four. We extend the results to the case of the local polynomial smoother, too.

• 응용통계연구
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• 제21권3호
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• pp.361-375
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• 2008

본 논문에서는 패널의 일부를 규칙적으로 교체하는 4-8-4 교체표본설계에서 발생할 수 있는 항목 무응답을 대체하는 방법에 대하여 연구하였다. 특히 소득이나 취업과 같이 민감한 질문에 대하여 발생할 수 있는 무응답에 대하여 무시할 수 없는 무응답(nonignorable nonresponse) 체계하에서 발생하는 무응답을 가정하였다. 무응답들의 대체방법으로 모형에 기반한 대체방법을 고려하였으며 베이지안 방법을 이용하여 사후확률밀도함수를 최대화하는 최대사후우도추정량(maximum posterior likelihood estimator)을 구하였다. 그리고 대체된 자료를 이용하여 면접시점이 달라질 때 발생하는 편향을 추정하였으며 추정된 편향을 제거한 후 연속적인 두 조사기간에서의 각 칸의 확률과 고정된 시점에서의 주변확률을 계산하였다. 모의실험을 통해 최종적으로 도출된 결과를 평균제곱오차와 편향의 관점에서 비교하였다.

• 한국자기학회지
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• 제22권1호
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• pp.1-5
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• 2012

본 연구에서는 대표적인 수직자기 이방성 물질인 $[Pd/Co]_5$ 초격자 다층박막 구조에서 교환 바이어스 현상을 연구하기 위해 Si/$[Pd/Co]_5$/FeMn 구조의 시료를 제작하고, FeMn 층의 두께 변화에 따른 교환바이어스의 변화에 대한 연구를 자기이력곡선의 측정을 통해 수행하였다. 그리고 수직자기 이방성을 최적화하기 위해 Pd의 두께를 1.1 nm로 고정하고 강자성인 Co의 두께 변화에 따른 수직자기이방성 변화를 고찰하였다. 그 결과, FeMn 층이 없을 때 Co의 두께 0.3 nm에서 가장 큰 보자력을 보였다. FeMn 층의 두께를 고정시킨 후 Co의 두께 변화를 관찰하였을 때도 0.3 nm일 때 가장 큰 교환 바이어스가 관찰되었다. FeMn 층의 두께 변화에 대해서는 FeMn 층의 두께가 5 nm일 때 보자력이 가장 크게 나타났으며, 그 이상에서는 일정한 값을 가졌다. FeMn 층의 두께가 3 nm 이하일 때는 교환바이어스 효과가 관찰되지 않았으며, 15 nm가 될 때까지 지속적으로 증가하는 결과를 관찰하였다.

• 대한전자공학회논문지TC
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• 제40권10호
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• pp.103-109
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• 2003

기존의 Multiple-Subcarrier변조 방식에 4-차원(4-D)신호를 이용한 Optical Wireless통신 방식을 제안하였다. 4-D 신호는 신호파형 최적화 기술 (OSW, Optimization Technique of Signal Waveforms)을 이용하여 유도하고 Multiple-Subcarricr의 block coder에 적용함으로써 출력 신호점 간의 Euclidean distance를 최대화하였다. 그 결과 고정 dc 바이어스를 부가한 상태에서 시스템에서 요구되는 Normalized power를 QPSK에 비해 3 dB, Reserved Subcarrier 나 Minimum Power에 비해 최대 3.3 dB 를 각각 절감하였고 normalized bandwidth 1.125 ∼ 1.25의 범위에서 QPSK에 비해 평균 3 dB, Res. Subcarrier 방식에 비해 2 ∼ 4 dB, Min. Power 방식에 비해 0 ∼ 3 dB를 각각 절감하였다.

• 한국통신학회논문지
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• 제30권8C호
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• pp.832-837
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• 2005

본 논문은 W 비트 입력으로부터 W 비트를 출력하늘 고정길이 제곱기의 디자인 방법을 제안한다. 효율적으로 양자화 오차를 보상하기 위해 modified Booth 인코더의 출력정보를 이용하여 오차보상 바이어스를 생성한다. 절사(truncation)된 부분이 양자화 오차에 미치는 영향에 따라 두 그룹(major/minor group)으로 나누고, 각 그룹에 서로 다른 오차보상 방법을 적용하여 절사된 부분을 보상한다. 시뮬레이션을 통해 제안한 오차보상 방법이 기존의 방법에 비해 절대 양자화 최대오차, 평균오차, 분산과 각은 성능 비교 파라미터에서 각각 $30\%,\;24\%,\;43\%$ 정도 적음을 보인다. 또한, 제안한 고정길이 제곱기는 이상적인 제곱기보다 면적과 전력소모 면에서 각각 약 $28\%,\;27\%$ 까지 적음을 보인다.

• 노동경제논집
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• 제39권3호
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• pp.99-124
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• 2016

본 연구는 한국노동패널 자료를 사용하여 노동조합이 우리나라 여성근로자들의 임금에 미치는 영향을 실증분석하였다. 분석에는 여성근로자들의 임금함수 추정과정에서 경제활동참여에 의한 선택편의를 고려하였고, 종업원 수가 무응답인 경우 그 값을 보정하여 분석하였으며, 직장에 노동조합이 있고 노동조합에 가입한 조합원 근로자와 가입하지 않은 비조합원 근로자를 직장에 노동조합이 없는 근로자와 비교하여 분석하였다. 그 결과, 고정효과 모형 추정에서 조합원 및 비조합원 더미변수 모두 통계적으로 유의하지 않은 것으로 나타났다. 이로부터 OLS 모형 추정에서 나타난 노동조합의 임금효과는 능력이 높은 여성근로자들이 유노조 사업체에 취업하는 것을 더 선호한 결과이며, 비조합원의 무임승차 효과는 없다고 보는 것이 타당하다는 결론을 도출하였다.

• 한국표면공학회지
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• 제41권3호
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• pp.83-87
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• 2008

This study described the effects of RF power, DC bias voltage, chamber pressure and gas mixing ratio on the etch rates of TiN thin film and selectivity of TiN thin film to $SiO_2$ with $BCl_3$/Ar gas mixture. When the gas mixing ratio was $BCl_3$(20%)/Ar(80%) with other conditions were fixed, the maximum etch rate of TiN thin film was 170.6 nm/min. When the DC bias voltage increased from -50 V to -200 V, the etch rate of TiN thin film increased from 15 nm/min to 452 nm/min. As the RF power increased and chamber pressure decreased, the etch rate of TiN thin film showed an increasing tendency. When the gas mixing ratio was $BCl_3$(20%)/Ar(80%) under others conditions were fixed, the intensity of optical emission spectra from radical or ion such as Ar(750.4 nm), $Cl^+$(481.9 nm) and $Cl^{2+}$(460.8 nm) was highest. The TiN thin film was effectively removed by the chemically assisted physical etching in $BCl_3$/Ar ICP plasma.

• Journal of Korean Dental Science
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• 제15권1호
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• pp.19-30
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• 2022

Purpose: The purpose of the study was to assess the validity of three-dimensional (3D) facial scan taken with facial scanner and digital photo wrapping on the cone-beam computed tomography (CBCT). Materials and Methods: Twenty-five patients had their CBCT scan, two-dimensional (2D) standardized frontal photographs and 3D facial scan obtained on the same day. The facial scans were taken with a facial scanner in an upright position. The 2D standardized frontal photographs were taken at a fixed distance from patients using a camera fixed to a cephalometric apparatus. The 2D integrated facial models were created using digital photo wrapping of frontal photographs on the corresponding CBCT images. The 3D integrated facial models were created using the integration process of 3D facial scans on the CBCT images. On the integrated facial models, sixteen soft tissue landmarks were identified, and the vertical, horizontal, oblique and angular distances between soft tissue landmarks were compared among the 2D facial models and 3D facial models, and CBCT images. Result: The results showed no significant differences of linear and angular measurements among CBCT images, 2D and 3D facial models except for Se-Sn vertical linear measurement which showed significant difference for the 3D facial models. The Bland-Altman plots showed that all measurements were within the limit of agreement. For 3D facial model, all Bland-Altman plots showed that systematic bias was less than 2.0 mm and 2.0° except for Se-Sn linear vertical measurement. For 2D facial model, the Bland-Altman plots of 6 out of 11 of the angular measurements showed systematic bias of more than 2.0°. Conclusion: The facial scan taken with facial scanner showed a clinically acceptable performance. The digital 2D photo wrapping has limitations in clinical use compared to 3D facial scans.

• 대한치과교정학회지
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• 제53권6호
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• pp.374-392
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• 2023

Objective: Assess and evaluate the different indicators of oral health-related quality of life (OHRQoL) among patients treated with clear aligners (CAs) versus those treated with conventional fixed orthodontics (FAs). Methods: An electronic search was performed on the database is Web of Science, Scopus, and Embase databases. Randomized and non-randomized control trials, cross-sectional, prospective cohort and retrospective trials were included. Quality was assessed with risk of bias tool and risk of bias in non-randomised studies. Meta-analyses were performed with random effects models, estimating the standardized and non-standardized mean differences, odds ratio and risk ratio as the measure of effect. The effect on time was determined using a meta-regression model. Results: Thirty one articles were included in the qualitative synthesis and 17 in the meta-analysis. CAs had a significantly lower negative impact on QoL, with an "important" effect size, while the influence of time was not significant. Periodontal indicators plaque index (PI), gingival index (GI), probing depth (PD), and bleeding on probing show significantly better values in patients treated with CAs, with moderate to large effect sizes. PI and GI have a significant tendency to improve over time. In microbiological indicators, CAs present a lower biofilm mass without differences in the percentage of patients with high counts of Streptococcus mutans and Lactobacilli bacteria. The risk of white spot lesion onset is ten times lower in carriers of CAs. Conclusions: Patients wearing CAs show better periodontal indicators, less risk of white spot development, less biofilm mass and a better QoL than patients with FAs.

• 한국표면공학회지
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• 제42권6호
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• pp.251-255
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• 2009

In this study, the plasma etching of the TaN thin film with $O_2/BCl_3$/Ar gas chemistries was investigated. The equipment for the etching was an inductively coupled plasma (ICP) system. The etch rate of the TaN thin film and the selectivity of TaN to $SiO_2$ and PR was studied as a function of the process parameters, including the amount of $O_2$ added, an RF power, a DC-bias voltage and the process pressure. When the gas mixing ratio was $O_2$(3 sccm)/$BCl_3$(6 sccm)/Ar(14 sccm), with the other conditions fixed, the highest etch rate was obtained. As the RF power and the dc-bias voltage were increased, the etch rate of the TaN thin film was increased. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) was used to investigate the chemical states of the surface of the TaN thin film.