$Bi_{4}Ti_{3}O_{12}$ (BiT) thin films were grown on the Pt/Ti/$SiO_2$/si substrate using a metal organic decomposition (MOD) method. Effects of oxygen annealing on the structural properties and dielectric properties of the BiT thin films were investigated. The BiT films were well developed when rapid thermal annealed at $>500^{\circ}C$ in oxygen ambient. For the film annealed at $700^{\circ}C$, no crystalline phase was observed under oxygen free annealing atmosphere while its crystallinity was significantly enhanced as the oxygen pressure increased. The BiT film also exhibited a smooth surface with defect free grains. A high dielectric constant and a low dielectric loss were achieved satisfactory in the frequency range from 75 kHz to 1 MHz. Especially, the BiT film, annealed at $700^{\circ}C$ and 10 torr oxygen pressure, showed good dielectric properties: dielectric constant of 51 and dielectric loss of 0.2 % at 100 kHz. Its leakage current was also considerably improved, being as $0.62\;nA/cm^2$ at 1 V. Therefore, it is considered that the oxygen annealing has effects on an enhancement of crystallinity and dielectric properties of the BiT films.
We have investigated dielectric properties depending on bias voltage in organic light-emitting diodes using 8-hydroxyquinoline aluminum $(Alq_3)$ as an electron transport and emissive material. We analyzed the dielectric properties of organic light-emitting diodes using impedance of characteristics. Impedance characteristics was measured complex impedance Z and phase $\theta$ in the frequency range of 40 Hz to $10^8$ Hz. We obtained complex electrical conductivity, dielectric constant, and loss tangent $(tan\delta)$ of the device at room temperature. From these analyses, we are able to interpret a conduction mechanism and dielectric properties contributed by an interfacial and orientational polarization.
$(Ba_{0.6-x}Sr_{0.4}Ca_x)TiO_3$(x=0.10, 0.15, 0.20) ceramics were fabricated by the mixed-oxide method and their structural and dielectric properties were investigated with variation of composition ratio and sintering temperature. As a result of the differential thermal analysis(DTA), exothermic peak was observed at around $1020^{\circ}C$ due to the formation of the polycrystalline perovskite phase. BSCT(50/40/10) specimen sintered at $1500^{\circ}C$ showed the highest average grain size(18.25$[{\mu}m]$). Curie temperature and dielectric constant at room temperature decreased with increasing amount of Ca. BSCT(50/40/10) specimen sintered at $1450^{\circ}C$ showed a good dielectric constant, K, (=4324) and dielectric loss, $tan{\delta}$, (=0.972%) properties at 1[KHz].
The effect of B2O3 addition on the sintering behavior dielectric and ferroelectric properties of Ba0.7Sr0.3TiO3 ceramics were investigated. The sample with 0.5wt% B2O3 was sintered under 115$0^{\circ}C$. The dielectric and ferroelectric properties of BST with 0.5wt% B2O3 was as good as BST without B2O3 sintered at 135$0^{\circ}C$ and its dielectric loss was even better When B2O3 was added over 1.0wt% the overdoped B2O3 remained in the specimens and formed a second phase which degraded the sintering behaivor dielectric properties of BST.
The effect of dopant on microwave dielectric properties of (1-x)MgTiO3-xCaTiO3 ceramics, known to be used as microwave dielectric resonators for global positioning system and personal communication system, has been analyzed in terms of variations in defect concentrations and microstructural features with its addition. The addition of dopants was revealed to result in a significant change in the microstructure as well as defect concentration of the ceramics. For instance, the quality factor is proportional to sintered density of the ceramics by inversely proportional to grain size as well as vacancy concentration. Accordingly, it is believed that the dopant effect on the microwave dielectric properties should be separately analyzed with either microstructural change or the change in vacancy concentration.
PLZT ceramics having two nominal compositions, $Pb_{1-3x/2}La_xV_{x/2}(Zr_{03}Ti_{03})O_3$ and $Pb_{1-x}La_x(Zr_{0.2}Ti_{0.5})_{1-x/4}V_{x/4}O_3$ (V: vacancy) with x=0.00~0.30, were prepared. The physical, structural, and dielectric properties were investigated by X-ray diffraction, scanning electron microscopy, Raman spectroscopy, and measurements of bulk density and dielectric constant. The two series with A-stie and B-site vacancies showed different physical, structural, dielectric properties, and, specially, Curie temperature. In comparison to PLZT with B-site vacancies, PLZT with A-site vacancies showed high Curie temperatures and low maxima of dielectric constant. Consequently, it is evident that the properties of PLZT ceramics depend on the vacancy formula adopted as a batch composition in preparation.
Dielectric properties of quartz glass and $Si_3N_4$ are investigated using the waveguide method from room temperature to $800^{\circ}C$. For the case of dielectric constant, $Si_3N_4$ showed similar increase with quartz glass up to $300^{\circ}C$, but less increase from $300^{\circ}C$ to $800^{\circ}C$. For the case of loss tangent, those showed gradual increase with temperature except of some temperature points. The loss tangent of $Si_3N_4$ and quartz glass increased up to 18.2% and 12.5% respectively. Through these researches, high temperature dielectric properties of silicon nitride materials are characterized.
Ferroelectric Pb(Fe1/2Nb1/2)O3 thin films were successfully fabricated on ITO/Glass substrate by sol-gel proces-sing and characterized to determine the dielectric and electric properties. Viscosity of PEN sol measured to investigate rheological properties was 3.25 cP which was proper for coating. The sol also showed Newtonian behavior. RTA(Rapid Thermal Annealing) was used for the annealing of the thin film and 1200~1700$\AA$ thick PEN thin films were fabricated by repeating the intermediate and the final annealing. After the deposition of Pt as top electrode by vacuum evaporation dielectric and electric properties were measured. Dielectric properties of FFN thin film were enhanced by increasing the perovskite phase fraction with increasing the annealing temperature. Measured dielectric constant of 1700$\AA$ PFN thin film annealed at $650^{\circ}C$ was 890 at 1kHz Capacitatnce density and dielectric loss were 47 fF/${\mu}{\textrm}{m}$2 and 0.47 respectively. As a result of measuring Curie temperature PFN thin films had Curie point with a rang of 110~12$0^{\circ}C$ and showed broad dielectric peak at that point. Leakage current of the PFN thin films were increased with increasing the annealing tempera-ture.
An alkoxide-based sol-gel method was used to fabricate $(Pb_{x},Sr_{1-x})$TiO3 (PST) thin films on a Pt/Ti/SiO2/Si substrate, and the dielectric properties of the PST thin films were investigated as a function of the Pb/Sr composition for use in tunable microwave device applications. The dielectric properties of the PST films were strongly dependent on the Pb/Sr ratio. The dielectric constant and dielectric loss of the PST films increased with increasing Pb content, and the figure of merit (FOM) reached a maximum value of 27.5 at a Pb/Sr ratio of 4:6. The tunability increased with increasing Pb content. The dielectric constant, loss factor, and tunability of PST (50/50) thin films were 404, 0.023, and 51.73%, respectively. From the result, the PST films with good dielectric properties are useful candidates for tunable microwave device.
Epoxy resin is widely used in high voltage apparatus as insulation. Fillers are often added to epoxy resin to enhance its mechanical, thermal and chemical properties. The addition of fillers can deteriorate electrical performance. With the new development in nanotechnology, it has been widely anticipated that the combination of nanoparticles with traditional resin systems may create nanocomposite materials with enhanced electrical, thermal and mechanical properties. In the present paper we have carried out a comparative study on dielectric properties, space charge and dielectric breakdown behavior of epoxy resin/nanocomposites with nano-fillers of $SiO_2$ and $Al_2O_3$. The epoxy resin (LY556), commonly used in power apparatus was used to investigate the dielectric behavior of epoxy resin/nanocomposites with different filler concentrations. The epoxy resin/nanocomposite thin film samples were prepared and tests were carried out to measure their dielectric permittivity and tan delta value in a frequency range of 1 Hz - 1 MHz. The space charge behaviors were also observed by using the pulse electroacoustic (PEA) technique. In addition, traditional epoxy resin/microcomposites were also prepared and tested and the test results were compared with those obtained from epoxy resin/nanocomposites.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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