Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.41
no.6
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pp.279-286
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2008
Numerical analysis is done to investigate which would be the most influencing process parameter in determining the uniformity of deposition thickness in TiN ICP-CVD(inductively coupled plasma chemical vapor deposition). Two configurations of ICP antenna are modeled; side and top planar. Side and top gas inlets are considered with each ICP antenna geometries. Precursor for TiN deposition was TDMAT(Tetrakis Diethyl Methyl Amido Titanium). Two step volume dissociation of TDMAT is used and absorption, desorption and deposition surface reactions are included. Most influencing factors are H and N concentration dissociated by electron impact collisions in plasma volume which depends on the relative positions of gas inlet and ICP antenna generated hot plasma region. Low surface recombination of N shows hollow type concentration, but H gives a bell type distribution. Film thickness at substrate edges is sensitive to gas flow rate and at high pressures getting more dependent on flow characteristics.
Dissolution characteristics of flurbiprofen solvent deposited on ${\alpha}-cyclodextrin$, ${\beta}-cyclodextrin$, lactose and corn starch were studied to evaluate the pharmaceutical aspects of solvent deposition method where drug was solvent deposited on the surface of excipients. In a solvent deposition system, the drug to excipient ratio and kind of excipient affect much on dissolution rates of flurbiprofen. The solvent deposition system formation was confirmed by scanning electron microscope. By increasing the amounts of matrix, it was possible to enhance the dissolution rate of flurbiprofen solvent deposition system. The amount of flurbiprofen dissolved from ${\beta}-cyclodextrin$ deposition system (1:10) at 60 minutes was enhanced 6.5 times in water and 28 times in simulated gastric juice compared with flurbiprofen alone. Flurbiprofen solvent deposited system (1:10) enhanced dissolution rate greater than inclusion complex and dispersion system.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.28
no.4
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pp.481-488
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2004
Laser chemical vapor deposition can be used as a new approach for a rapid prototyping technique. The purpose of the study is to fabricate several 3-dimensional objects that are relatively simple as well as to find the characteristics of SiC rod growth that is the first step in developing a new rapid prototyping technique with laser chemical vapor deposition. In the study, SiC rods were generated with varying precursor pressure for 5 minutes. Deposition rates with varying precursor pressure, shapes of rods, surface roughness and component organization were investigated, in particular. Finally, several simple objects like a branch or a propeller were successfully fabricated using laser chemical vapor deposition.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.52
no.12
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pp.573-578
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2003
In this study, new type of induction charging system for electrostatic spraying was manufactured and proposed to improve the electrical safety and charging efficiency. And parameters of proposed system to generate the maximum deposition current with electrical safety were selected and investigated. The selected parameters were frequency of square pulse and thickness of insulation material, outer diameter of device and thickness and positions of electrode. Charging quantity of water drop was measured by deposition current detected from sensing plate indirectly. The maximum deposition current for each parameter were 3.5[uA] at the frequency of 15[kHz] and thickness of 0.25[mm] insulating layer. And maximum deposition currents were 2.8[uA] and 3.0[uA] at 25[mm] outer diameter of charging device and 0.25[mm] thickness of electrode each. Effects of electrode position from spraying nozzle on deposition current was a little.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.29
no.1
s.232
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pp.14-21
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2005
Laser chemical vapor deposition can be an effective technique for a rapid prototyping with ceramic materials, in particular. The objective of the study is to fabricate several 3-dimensional objects by stacking multi-layers as well as to find out some basic aspects of a rapid prototyping with laser chemical vapor deposition such as deposition characteristics with traversing speed of the laser, possible problems in stacking multi-layers etc. The limit speed of the laser that can grow a tilted SiC rod was found in this study, and laser directing writing that occurs over the limit speed was also investigated. Finally, a zigzag-shaped rod, a spiral-shaped rod, a wall and a square duct were successfully fabricated with laser chemical vapor deposition of tetramethylsilane
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2003.07a
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pp.185-190
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2003
In this paper, it was demonstrated that the organic thin film transistors were fabricated by the organic gate insulators with vapor deposition polymerization (VDP) processing. In order to form polyimide as a gate insulator, vapor deposition polymerization process was also introduced instead of spin-coating process, where polyimide film was co-deposited by high-vacuum thermal evaporation from 4,4'-oxydiphthalic anhydride (ODPA) and 4,4'-oxydianiline (ODA) and 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane dianhydride (6FDA) and ODA, and cured at $150^{\circ}C$ for 1hr. Electrical output characteristics in our organic thin film transistors using the staggered-inverted top-contact structure obtained to the saturated slop in the saturation region and the subthreshold non-linearity in the triode region. Field effect mobility, threshold voltage, and on-off current ratio in $0.45\;{\mu}m$ thick gate dielectric layer were about $0.17\;cm^2/Vs$, -7 V, and $10^6\;A/A$, respectively. Details on the explanation of compared to organic thin-film transistors (OTFTS) electrical characteristics of ODPA-ODA and 6FDA-ODA as gate insulators by fabricated thermal co-deposition method.
The relationships between MgO deposition conditions and firing voltage of AC PDP were investigated as a function of ambient temperature. Substrate temperature and growth rate were selected as the major parameters that can affect the properties of MgO most significantly. Firing voltages increase with increasing temperature regardless of deposition conditions of the MgO layer. However, the relative magnitude of the firing voltage variation decrease with increasing substrate temperature and decreasing deposition speed. It was also found that the sample obtained at the condition of lower deposition rate shows better dynamic margin characteristics.
Kim, Sun-Hee;Kim, Bong-June;Kim, Do-Heyoung;Lee, June-Key
Korean Journal of Materials Research
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v.18
no.6
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pp.302-306
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2008
Polycrystalline germanium (Ge) thin films were grown by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) using tetra-allyl germanium [$Ge(allyl)_4$], and germane ($GeH_4$) as precursors. Ge thin films were grown on a $TiN(50nm)/SiO_2/Si$ substrate by varying the growth conditions of the reactive gas ($H_2$), temperature ($300-700^{\circ}C$) and pressure (1-760Torr). $H_2$ gas helps to remove carbon from Ge film for a $Ge(allyl)_4$ precursor but not for a $GeH_4$ precursor. $Ge(allyl)_4$ exhibits island growth (VW mode) characteristics under conditions of 760Torr at $400-700^{\circ}C$, whereas $GeH_4$ shows a layer growth pattern (FM mode) under conditions of 5Torr at $400-700^{\circ}C$. The activation energies of the two precursors under optimized deposition conditions were 13.4 KJ/mol and 31.0 KJ/mol, respectively.
The authors derived the criteria on the process parameters of laser depositions with metal powers(SUS316L & IN718) by evaluating the surface and cross-section properties of the deposition layers. The surface characteristics of the deposition layer are investigated through optical microscopy by controlling the process parameters of laser output, powder feeding rate and gas feeding rate. The cross-section characteristics were also analyzed after polishing and chemical etching process. As the gas feeding rate increased, the amount of powder loss increased and the difference in the dilution ratio and heat affected zone depending on laser outputs was observed. In addition, the powder feeding rate used in the experiment did not interfere with the energy absorption of the base material.
Lee, Joeun;Han, Moon Hee;Kim, Eun Han;Lee, Cheol Woo;Jeong, Hae Sun
Journal of Radiation Protection and Research
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v.45
no.3
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pp.101-107
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2020
Background: An important lesson learned from the Fukushima accident is that the transition to the mid- and long-term phases from the emergency-response phase requires less than a year, which is not very long. It is necessary to know how much radioactive material has been deposited in an urban area to establish mid- and long-term countermeasures after a radioactive accident. Therefore, an urban deposition model that can indicate the site-specific characteristics must be developed. Materials and Methods: In this study, the generalized urban deposition velocity and the subsequent variation in radionuclide contamination were estimated based on the characteristics of the Korean urban environment. Furthermore, the application of the obtained generalized deposition velocity in a hypothetical scenario was investigated. Results and Discussion: The generalized deposition velocities of 137Cs, 106Ru, and 131I for each residence type were obtained using three-dimensional (3D) modeling. For all residence types, the deposition velocities of 131I are greater than those of 106Ru and 137Cs. In addition, we calculated the generalized deposition velocities for each residential types. Iodine was the most deposited nuclide during initial deposition. However, the concentration of iodine in urban environment drastically decreases owing to its relatively shorter half-life than 106Ru and 137Cs. Furthermore, the amount of radioactive material deposited in nonresidential areas, especially in parks and schools, is more than that deposited in residential areas. Conclusion: In this study, the generalized urban deposition velocities and the subsequent deposition changes were estimated for the Korean urban environment. The 3D modeling was performed for each type of urban residential area, and the average deposition velocity was obtained and applied to a hypothetical accident. Based on the estimated deposition velocities, the decision-making systems can be improved for responding to radioactive contamination in urban areas. Furthermore, this study can be useful to predict the radiological dose in case of large-scale urban contamination and can support decision-making for long-term measurement after nuclear accident.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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