• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2003년도 제14회 정기총회 및 03년 동계학술발표회
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• pp.86-87
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• 2003

TiO$_2$ 박막은 높은 유전율과 우수한 화학적 안전성, 가시광선 영역에서 우수한 투과성 및 높은 굴절률을 가지고 있어 광범위한 분야에 중요한 물질로써 사용되어져 왔다. 일반적으로 TiO$_2$는 rutile, anatase, brookite의 세 가지 결정형태를 가진다. 이런 TiO$_2$ 박막을 제작하기 위해 sputtering, e-beam evaporation, sol-gel method, chemical vapor deposition(CVD) 등과 같은 물리적, 화학적인 방법이 이용되고 있다. 이러한 제조방법들 중에서 스퍼터링 방법은 박막을 형성하는 이온들의 이온에너지를 높여주어 덩어리에 가까운 성질을 가지기 때문에 조밀한 박막을 제작하는데 이용되며, 박막의 대면적 코팅과 표면 경도가 우수한 박막을 제작할 수 있는 장점을 가지고 있다. (중략)

• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제16권1호
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• pp.112-115
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• 2017

ITO thin films were grown on the glass substrate under various oxygen gas flow and substrate temperature by using FTS (Facing Target Sputtering) system. To investigate properties of as-prepared films for transparent electrical devices, we employed four-point probe, UV-VIS spectrometer, X-ray diffractometer (XRD), scanning electron microscopy (SEM), Hall Effect measurement system and Atomic Force Microscope (AFM). As a results, all of prepared samples has high transmittance of over 80 % in the visible range (300-800 nm). Their resistivity increased as a function of oxygen gas flow and substrate temperature due to their crystal structure and oxygen defect in the films. As-prepared films have a resistivity of under $10^{-4}({\Omega}-cm)$.

• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제15권3호
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• pp.30-34
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• 2016

We investigated magnetic field, discharged voltage, and as-deposited film uniformity at facing targets sputtering (FTS) system with magnetic field type: i) concentrated and ii) distributed magnetic field type. And Al doped ZnO (AZO) films were prepared at two magnetic field type such as concentrated magnetic field type and distributed magnetic field type, respectively. Discharge voltage at the distribution type is lower than concentration type due to low magnetic flux (middle magnetic flux: Concentration 1200 G and Distribution 600 G). The films deposited at the distributed magnetic field were more uniform than concentration type. All of prepared AZO films had a resistivity of under $10^{-4}[{\Omega}{\cdot}cm]$ and a transmittance of more than 85 % in the visible range.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제17권6호
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• pp.602-607
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• 2004

This paper describes the characteristics of Ru-Zr alloy gate electrodes deposited by co-sputtering. The various atomic composition was made possible by controlling sputtering power of Ru and Zr. Thermal stability was examined through 600 and 700 $^{\circ}C$ RTA annealing. Variation of oxide thickness and X-ray diffraction(XRD) pattern after annealing were employed to determine the reaction at interface. Low and relatively stable sheet resistances were observed for Ru-Zr alloy after annealing. Electrical properties of alloy film were measured from MOS capacitor and specific atomic composition of Zr and Ru was found to yield compatible work function for nMOS. Ru-Zr alloy was stable up to $700^{\circ}C$ while maintaining appropriate work function and oxide thickness.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제24권3호
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• pp.224-228
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• 2011

This research, integratable capacitive relative humidity sensor was produced using polyimide on glass substrate. Also, at the time of upper electrode formation, upper electrode grain size was affected by giving changes to sputtering condition. Through this analyzing electrical characteristics affect from capacitive relative humidity sensor was possible. Capacitance of capacitive relative humidity sensor was 330 pF, linearity of 0.6%FS and it showed less than 3% of low hysterisis. Specially, hysterisis was affected more from interface than interstitial. Also was affected by the grain size which is one of the formation condition of upper electrode.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
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• 한국표면공학회 2009년도 추계학술대회 초록집
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• pp.161-162
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• 2009

하이브리드 코팅장비를 이용해 WC-CO기판위에 Ti-Si-N박막을 증착 시켰다. 이 연구는 Ti-Si-N박막의 기계적 성질에 온도와 바이어스가 미치는 영향에 대해 실험을 하였다. 증착온도가 $300^{\circ}C$까진 Ti-Si-N박막의 미세경도와 탄성률은 증가했지만 증착온도가 $300{\sim}350^{\circ}C$에서는 탄성률은 감소하고 결정 성장으로 인해 미세경도는 감소하였다. 기판 바이어스는 박막과 미세구조에 압축 잔류 응력을 야기 시킨다. 그러나 기판바이어스가 -400V 이상에서는 re-sputtering에 의해 Si함량이 감소한다. Ti-Si-N 박막의 가장 우수한 기계적 성질은 $300^{\circ}C$, -100V에서 얻을 수 있었다.

• 한국표면공학회:학술대회논문집
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• 한국표면공학회 2012년도 춘계학술발표회 논문집
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• pp.207-208
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• 2012

GZO( Ga-doped ZnO) 및 ZTO (zinc tin Oxide) 박막을 DC, RF magnetron sputtering 공정을 이용하여 증착한 후, 대기 및 진공상태에서 200, $300^{\circ}C$ 조건으로 30분 동안 열처리하였다. ZTO/GZO 박막의 전기적 특성은 ZTO 층과 GZO 층의 두께 비에 의존함을 확인 할 수 있었다. 본 연구에서는 GZO단일 박막과 ZTO/GZO double layer 박막의 열처리 온도에 따른 구조적, 전기적, 광학적 특성을 비교검토 하였다.

• 한국재료학회지
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• 제7권1호
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• pp.69-75
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• 1997

$SiO_{2}/CoNiCr/Cr$ 합금 박막을 RF magnetron sputtering 법으로 Cr의 두께를 변화시키면서 제조하였다. 제조된 박막을 진공 열처리하여 열처리 온도에 따른 포화자화, 보자력, 각형비를 조사하였다. $SiO_{2}/CoNiCr/Cr$ 합금 박막에서 포화자화 값은 Cr 하지층의 두께가 증가함에 따라 감소하고 보자력은Cr 하지층의 두께가 증가함에 따라 증가하였다. 이러한 박막의 포화자화 값은 600 emu/cc, 최대 보자력은 550 Oe를 나타내었다. $SiO_{2}/CoNiCr/Cr(1700{\AA})$ 합금 박막에서는 열처리 온도가 증가함에 따라 포화자화 값은 급격히 감소하고 보자력은 증가하였다. 열처리 온도가 $650^{\circ}C$에서 포화자화 값은 as-deposited상태보다도 1/10로 감소하였고 보자력은 1600 Oe로 최대값ㅇ르 나타내었다. Cr 하지층의 두께와 열처리 온도의 증가에 따른 포화자화의 감소는 하지층에서 자성층으로 Cr이 확산하므로써 자기 모멘트의 감소에 의한 것으로 판단된다. 또한 보자력의 증가는 박막 면에 수직한 방향으로 급격한 결정 성장에 기인한 것이다.

• 한국자기학회지
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• 제8권5호
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• pp.300-307
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• 1998

Co90Fe10 단일박막층은 고진공 RF magnetron sputtering 장비를 이용하여 여러 가지 기판(glass, Si, polyimide) 위에 적층되었고 ~1000$\AA$ 두께를 가진 Co90Fe10 박막은 우수한 고주파 자기특성을 나타내었다. 10$\times$[100 nm co90Fe10/ 100 nm SiO2] 다층 박막의 자화값은 예측된 값과 거의 일치하였으며 Han값(=124 Oe)도 예측된 30$\leq$Han$\leq$125 Oe 범위 내에 있음을 알 수 있었다. 자성 다층 박막의 자화율(=$\mu$,=$\mu$,-j$\mu$r")의 주파수 특성은 자성 다층 박막과 도체로 이루어진 층상구조를 갖는 microstrip line을 network analyzer에 연결하여 전송 특성(S11, S21 파라미터)을 측정함으로써 얻어졌다. $\mu$,"의 주파수 특성은 S-파라미터로 분석되는 magnetic absorption으로부터 얻어졌다. 또한 $\mu$r'의 주파수 특성은 Kramers-Kronig 관계식을 사용하여 $\mu$r"의 주파수 특성으로부터 계산되었다. 이와 같이 얻어진$\mu$r의 주파수 특성 (static 자화율, 공진 주파수)은 계산에 의해서 얻어진 값들과 잘 일치된다는 것을 확인하였다.일치된다는 것을 확인하였다.

• Journal of Magnetics
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• 제2권4호
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• pp.147-156
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• 1997

An artificially modulated magnetic Co/Pd multilayer is one of the promising candidates for high density magneto-optic (MO) recording media, due to a large Kerr rotation angle in the wavelength of a blue laser beam. However, since multilayer structure, as well as amorphous structure, is a non-equilibrium state in terms of free energy and a MO recording technology is a kind of thermal recording which is conducted around Curie temperature (Tc) of the recording media, when the Co/Pd mulilayer is used for the MO recording media, changes in the magnetic properties are occurred as the amorphous structure do. Therefore, the assessment of the magnetic properties in the Co/Pd multilayer during interdiffusion is crucially important both for basic research and applications. As the parameter of the magnetic properties in this research, saturation magnetization and perpendicular magnetic anisotropy energy of the Co/Pd multilayer are measured in terms of Ar sputtering pressure and heat treatment temperature. Form the results of the research, we find out that the magnetic exchange energy between Co and Pd sublayers strongly affects the changes in the magnetic properties of the Co/Pd multilayers during the interdiffusion in ferromagnetic state. This discovery will provide the understanding of the magnetic exchange energy in the Co/Pd multilayer structure and suggest the operating temperature range for MO recording in the Co/Pd multilayer for the basic research and applications, respectively.