CRT의 전면에 전자파차폐, 정전기 방지 및 저반사 효과를 위해 코팅되는 $SiO_2$/ITO (Indium Tin Oxide) 이층박막의 반사특성에 관하여 연구하였다. 실리카층 및 ITO층의 두께를 변화시키며 나타나는 반사율의 경향을 고찰하고, 이론적인 2층, 3층 저반사코팅의 디자인에 적용시켜 보았다. 입자 상으로 코팅된 ITO는 두께가 증가할수록 기공에 의해 박막의 불균일성이 증가하면서 이론적인 반사모델과의 차이가 커졌다. 실리카와 ITO의 계면에 존재하는 혼합층의 영향으로 인하여 실제측정반사율은 2층으로 디자인한 이론반사율보다 $SiO_2$/$SiO_2$+ITO/ITO의 3층으로 디자인한 반사모델에 보다 잘 적용되었다. 이론적인 저반사 디자인은 근거로 $SiO_2$/ITO 박막의 두께를 90, 65 nm로 조절한 이층막은 기준파장에서 2.5%의 반사율을 나타내었고, 가시광선 영역에서 이론반사율과 유사한 거동을 보였다.
한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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pp.1145-1148
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2008
The present status and trend of oxide phosphor thin-film development for thin-film electroluminescent (TFEL) device application are presented in this paper. Recently, several newly developed types of bendable or bendable see-through oxide TFEL lamps have been fabricated using the TFEL technology with a newly developed bendable ceramic sheet, glass sheet or sapphire sheet substrate, which has become available on the market. Stable operation at high temperatures was obtained in double-insulating-layer-type TFEL lamps fabricated with a $Zn_2Si_{0.6}Ge_{0.}4O_4$:Mn thin-film emitting layer forming on translucent or transparent bendable sheet substrates.
진공관형 태양열 집열기에서는 열관(heat pipe)과 붕규산염 유리관의 안정된 접합이 이를 장시간 사용하는데 매우 중요하다. 구리와 유리는 그 물리.화학적 성질에 큰 차이가 있어 접합하기가 어려움으로 구리관 표면에 유리와 화학적 결합이 용이한 산화막을 생성시켜 접합하도록 구리의 산화상태, 접합계면 및 접합강도를 XRD, SEM, EDS 및 인정시험기로 측정하였다. 순수 구리는 $600^{\circ}C$ 이하로 열처리하였을 때 Cu$_2$O 산화막을 생성하였으나 그 이상의 온도에서는 CuO 산화막을 형성하였으며 후자의 산화막은 구리와의 접합력이 매우 불량하였다. 그러나 붕사로 표면 처리를 하였을 경우에는 80$0^{\circ}C$에서도 Cu$_2$O 산화막 만이 발견되었다. Cu$_2$O 산화막을 생성시킨 구리관과 붕규산염 유리관을 Housekeeper법으로 접합하였을 경우 354.4N의 접합강도를 얻을 수 있었으며 열충격 저항성도 매우 뛰어났다.
The dielectric properties and microstructure of SrTiO3-based grain boundary layer (GBL) capacitor were investigated, and SrTiO3 GBL capacitor was made by penetrating the Frit (PbO-Bi2O3-B2O3 system). The Nb2O5-doped SrTiO3 ceramics were fired for 4-hours, at 145$0^{\circ}C$ in H2-N2 atomsphere to get semiconductive ceramics. The grain size of SrTiO3 sintered at reduction atmosphere had increased as the amount of Nb2O5 increases and then decreased as the amount of Nb2O5 exceeded 0.2 mole%. Insulating reagents which contained PbO-Bi2O3-B2O3 system frit and oxide mixture were printed on the each semiconductive ceramics and fired at varying temperature and for different holding time. The optimum dielectric properties could be obtained by second heat treatment at 110$0^{\circ}C$ for 1 hour, when frit paste was printed. A SrTiO3-based GBLC had the apparent permitivity of about 3.2$\times$104, the dielectric loss of 0.01~0.02 and the stable temperature coefficient of capacitance. The influence of frit paste on dielectric properties was similiar to that of oxide paste but the stability of temperature property of capacitance was improved.
Park, Ji Yeon;Kim, Daejong;Lee, Hyeon-Geun;Kim, Weon-Ju;Pouchon, Manuel
한국세라믹학회지
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제55권5호
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pp.498-503
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2018
Using the thermal ablation method, the oxidation behavior of $SiC_f/SiC$ composites was investigated in air and in the temperature range of $1,300^{\circ}C$ to $2,000^{\circ}C$. At the relatively low temperature of $1,300^{\circ}C$, passive oxidation, which formed amorphous phase, predominantly occurred in the thermal ablation test. When the oxidation temperature increased, SiO (g) and CO (g) were formed by active oxidation and the dense oxide layer changed to a porous one by vaporization of gas phases. In the higher temperature oxidation test, both active oxidation due to $SiO_2$ decomposition on the surface of the oxide layer and active/passive oxidation transition due to interfacial reaction between oxide and base materials such as SiC fiber and matrix phase simultaneously occurred. This was another cause of high temperature degradation of $SiC_f/SiC$ composites.
The high temperature oxidation behaviors of titanium nitride films prepared by PACVD technique were studied in the temperature range of from 50$0^{\circ}C$ to 80$0^{\circ}C$ under air atmosphere. Ti0.88Al0.12N film, which showed the excellent microhardness from the previous work, was investigated on its oxidation resistance compared with pure TiN film. Ti-Al-N film showed superior oxidation resistance up to $700^{\circ}C$, whereas TiN film was fast oxidized into rutile TiO2 crystallites from at 50$0^{\circ}C$. It was found that an amorphous layer having AlxTiyOz formula was formed on the surface region due to outward diffusion of Al ions at the initial stage of oxidation. The amorphous oxide layer played a role as a barrier against oxygen diffusion, protected the remained nitride layer from further oxidation, and thus, resulted in the high oxidation resistive characteristics of Ti-Al-N film.
In a salb-preheating furnace of steel-making industry, the oxidation/degradation behavior of Cr3C2 ceramic composited dkid button reaction with scale in Fe-oxide system occurs and was thermodynamically examined. The reaction of scale with Cr3C2 skid button produces Cr3C2(s) and C(s), and Co gas is then evolved from the reaction of C(s) with Fe-scale. Cr3C2(s) from oxidation of Cr3C2(s) reacted with Fe-oxide(s) becomes high-melting chromite. The chromite acts as protection layer against further oxidation and improves resistance of the reaction of Cr3C2 skid button with Fe-scale.
Unite cell of soid oxide fuel cell (SOFC) that consists of a dense yttria-stabilized zirconia(YSZ) electrolyte a porous nickel-YSZ cermet anode and a porous strontium- doped lanthanum manganate(LSM) cathod was fabricated from using pore former through co-firing technique. Initial sintering shrinkage rates of each layer were identified for fabricating SOFC. Heterogenous sintering was very effective in tailoring shrinkage rate for three layers. The powder tailoring necessary for shrinkage rate matching are as follows ; electrolyte of 60% TZ8YS/ 40% TZ8Y mixture anode of 51wt% NiO/49 wt% (70wt% TZ8YS/30 wt% UT ZrO2) mixture and cathode of 80% LSM/20% UT ZrO2 mixture . The overall sintering shrinkage rate differences of three layers using these compositions were maintained in a few percent.
Synthesis and compaction of Al-base nano powders by pulsed discharge method were investigated. The aluminum based powders with 50 to 200 nm of diameter were produced by pulsed wire evaporation method. The powders were covered with very thin oxide layer. The perspective process for the compaction and sintering of nanostructured metal-based materials stable in a wide temperature range can be seen in the densification of nano-sized metal powders with uniformly distributed hard ceramic particles. The promising approach lies in utilization of natural uniform mixtures of metal and ceramic phases, e.g. partially oxidized metal powders as fabricated in our synthesis method. Their particles consist of metal grains coated with oxide films. To construct a metal-matrix material from such powder, it is necessary to destroy the hard oxide coatings of particles during the compaction process. This goal was realized in our experiments with intensive magnetic pulsed compaction of aluminum nanopowders passivated in air.
In this work, we studied a fluorite structure oxides: Yttria stabilized zirconia, (YSZ); Gd doped $CeO_2$ (GDC); erbia stabilized $Bi_2O_3$ (ESB); Zr doped erbia stabilized $Bi_2O_3$ (ZESB); Ca doped erbia stabilized $Bi_2O_3$ (CESB) in the temperature range of 250 to $600^{\circ}C$ using electrochemical impedance spectroscopy (EIS). As is well known, grain boundary blocking effect was observed in YSZ and GDC. However, there is no grain boundary effect on ESB, ZESB, and CESB. The Nyquist plots of these materials exhibit a single arc at low temperature. This means that there is no space charge effect on ${\delta}-Bi_2O_3$. In addition, impedance data were analyzed by using the brick layer model. We indirectly demonstrate that grain boundary ionic conductivity is similar to or even higher than bulk ionic conductivity on cubic bismuth oxide.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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