We report an optical second harmonic generation measurement that allows direct probing of dynamical carrier motion in organic field effect transistors. Carrier injection and transport process are discriminated. The mobility and contact resistance of pentacene FETs are determined from the visualized diffusion-like carrier motion.
A direct measurement of an initiation carrier injection for a low voltage discharge is presented. A self-sustained pulsed discharge is utilized to characterize electrical responses of a glow discharge for varying amounts of injected initiation carriers. It is clearly demonstrated that the initiation carrier injection affects the ignition time and the breakdown voltage of the primary discharge. An abrupt reduction in the breakdown voltage for a $300{\mu}m$ gap pin-plate discharge is observed when a threshold carrier density of $3{\times}10^{11}cm^{-3}$ is injected and the breakdown voltage continues to decrease to 250 V with increasing the initiation carrier injection beyond the threshold density.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2016.02a
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pp.230.1-230.1
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2016
본 연구에서는 Host-Dopant system 기반 적색 인광 OLED의 Emitting layer(EML)에서 doping 위치에 따른 특성 변화를 분석하였다. EML은 host 물질로 60 nm 두께의 CBP를 사용하고, 적색 발광을 위해 10 %의 $Ir(btp)_2$를 CBP의 Front, Middle, Back side에 각각 20 nm씩 doping하였다. 본 구조의 적색 인광 OLED는 current density, luminance, efficiency, EL spectrum 등을 통해 전기적, 광학적 특성 변화를 확인하였다. Front, Back side에 doping으로 인한 CBP의 Energy level이 3.6 eV에서 1.9 eV로 감소하여 각각 HTL/EML, EML/HBL의 경계에 carrier direct injection이 활성화 되었고, 이로 인한 charge balance의 저하를 확인하였다. EL spectrum결과 각 소자는 CBP의 618 nm 파장 외에도, 추가적으로 TPBi의 398 nm, NPB의 456 nm의 파장을 보였다. 이를 통해 doping 위치에 따라 exciton이 형성되는 recombination zone이 이동하고 있음을 확인하였고, Front side는 6 V의 인가전압에서는 발광 파장이 398 nm에서 높은 값을 보이나 8 V, 10 V, 12 V에서 618 nm에서 높은 값을 보이는 것으로 인가전압에 의해 recombination zone이 HTL쪽으로 이동되는 것 또한 확인하였다.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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v.2
no.3
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pp.157-163
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2002
A new flash EEPROM device with p^+ poly-Si control gate and n^+ poly-Si floating side gate was fabricated and characterized. The n^+ poly-Si gate is formed on both sides of the p^+ poly-Si gate, and controls the underneath channel conductivity depending on the number of electron in it. The cell was programmed by hot-carrier-injection at the drain extension, and erased by direct tunneling. The proposed EEPROM cell can be scaled down to 50 nm or less. Shown were measured programming and erasing characteristics. The channel resistance with the write operation was increased by at least 3 times.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.297-298
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2011
Metal/poly (4,4'-aminotriphen-ylene hexafluoroisopropylidenediphthalimide) (TP6F PI)/metal structure exhibited an electrically volatile phase transition with high (OFF) or low (ON) resistive states when voltage between electrodes swept. Here, we demonstrate a noble set-up in which holes are injected by photoelectron emission process during the voltage sweep instead of direct charge carrier injection via metal electrode, which enables direct investigation into changed electronic structures of TP6F PI both in ON and OFF states using photoemission spectroscopy methods. In the I-V measurement, TP6F PI shows a non-volatile behavior. In spectroscopic results, this non-volatile behavior is leaded from the structural modification of the O=C double bond in phthalimide of TP6F PI by hole injection.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.266-266
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2013
We show a set-up of poly (4,4'-aminotriphenylene hexafluoroisopropylidenediphthalimide) (6F-TPA PI)/Al sample in which holes are injected by photoelectron emission process instead of direct charge carrier injection via metal electrode. In this process, an irreversible electrical phase transition of 6F-TPA PI is found in contrast to the Al/6F-TPA PI/Al structure, leading to a write-once-readmany behavior. The photoelectron spectroscopy results measured before and after the switching process revealed that the irreversible electrical phase transition of 6F-TPA PI is attributed to the chemical modification of the carbonyl group in phthalimide moiety.
Kim, Yun-Hak;Park, Sun-Mi;Gwon, Sun-Nam;Kim, Jeong-Won
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.02a
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pp.380-380
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2010
Currently, organic light-emitting diodes (OLEDs) have been proven of their readiness for commercialization in terms of lifetime and efficiency. In accordance with emerging new technologies, enhancement of light efficiency and extension of application fields are required. Particularly inverted structures, in which electron injection occurs at bottom and hole injection on top, show crucial advantages due to their easy integration with Si-based driving circuits for active matrix OLED as well as large open area for brighter illumination. In order to get better performance and process reliability, usually a proper buffer layer for carrier injection is needed. In inverted top emission OLED, the buffer layer should protect underlying organic materials against destructive particles during the electrode deposition, in addition to increasing their efficiency by reducing carrier injection barrier. For hole injection layers, there are several requirements for the buffer layer, such as high transparency, high work function, and reasonable electrical conductivity. As a buffer material, a few kinds of transition metal oxides for inverted OLED applications have been successfully utilized aiming at efficient hole injection properties. Among them, we chose 2 nm of $WO_3$ between NPB [N,N'-bis(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine] and Au (or Al) films. The interfacial energy-level alignment and chemical reaction as a function of film coverage have been measured by using in-situ ultraviolet and X-ray photoelectron spectroscopy. It turned out that the $WO_3$ interlayer substantially reduces the hole injection barrier irrespective of the kind of electrode metals. It also avoids direct chemical interaction between NPB and metal atoms. This observation clearly validates the use of $WO_3$ interlayer as hole injection for inverted OLED applications.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.02a
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pp.244-244
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2012
Polymer memory devices have attracted considerable attention because of their advantages such as low cost potential, good scalability, flexibility, simplicity in structure, and large capacity for data storage. Metal/poly (4,4'-aminotriphenylene hexafluoroisopropylidenediphthalimide) (6F-TPA PI)/metal system has been found to show an electrical bi-stable behavior. Here, we show a novel set-up of 6F-TPA PI/Al sample in which holes are injected by photoelectron emission process instead of direct charge carrier injection via metal electrode. In this process, an irreversible electrical phase transition of 6F-TPA PI is found, leading to a write-once-read-many (WORM) behavior. The photoelectron spectroscopy results measured before and after the switching process revealed that the irreversible electrical phase transition of 6F-TPA PI is attributed to the chemical modification of the carbonyl group in phthalimide moiety.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.02a
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pp.374-374
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2010
Charge transfer mechanism of poly(4,4'-aminotriphenylene hexafluoroisopropylidenediphthalimide) (TP6F PI) which exhibits bistable ON and OFF switching has been studied using photoemission electron spectroscopy (PES) and near-edge x-ray absorption fine structure (NEXAFS). Here, we demonstrate novel set-up in which holes are injected by photoemission process instead of direct charge carrier injection via metal electrode. The accumulated charges on the PI surface in the OFF state abruptly flow across the PI film when the bias voltage of a back electrode reaches a specific value, indicating that the film is changed to the ON state. Core level and x-ray absorption spectra probed at charge injection region via photoemission process do not show any evidences implying structural modification of TP6F PI during the phase change. Whereas, in valence band spectra, the highest occupied molecular orbital (HOMO) is shifted toward Fermi level, responsible for improved hole-mobility of TP6F PI of ON state.
The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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v.19
no.12
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pp.2426-2438
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1994
In this paper we present for the first time the electric circuit model for direct frequrncy modulation(FM) response of the conventional distributed-feedback(DFB) semiconductor laser diodes. Especially, in this paper, the proposed model includes not only the carrier density modulation effect, but also the temperature modulation effect determining the DFM characteristics of DFB characteristics of DFB semiconductor lasers. The DFM response due to injection current modulation was obtained as a function of modulation frequency from DC to a few GHz. The circuit model representing the temperature modulation effect is obtained from the structure of DFB LD chip and the simulation results are compared with the published experimental results. The circuit model representing the temperature modulation effect is obtained from the structure of DFB LD chip and the simulation results are compared with the published experimental results. The circuit model representing carrier density modulation effect is obtained from the rate equations of DFB lasers and the simulation results are compared with the results that were obtained by the conventional numerical analysis approach. The results showed good agreements.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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