The voltage holding ratio(VHR) and the residual DC property in the in-plane switching (IPS) cells on a polyimide surface was studied. Several IPS cells which have different concentrations of cyano liquid crystals (LCs) were fabricated. We found that the VHR of the IPS cell was decreased with increasing concentration of cyano LCs. Also, the VHR of the IPS cell was increased with increasing specific resistivity of fluorine LCs. The residual DC voltage of the IPS cell by capacitance-voltage (C-V) hysteresis method was decreased with increasing concentration of cyano LCs. The residual DC property of the IPS cell on the rubbed PI surface can be improved by high polarity of cyano LC.
한국전기전자재료학회 2006년도 영호남 합동 학술대회 및 춘계학술대회 논문집 센서 박막 기술교육
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pp.152-155
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2006
Carbon nitride ($CN_X$) films were prepared by reactive RF magnetron sputtering system at various deposition conditions and the C-V characteristics of MIS(metal - insulator - semiconductor) capacitors that have the structures of Al/$CN_x$/p-Si/Al and Al/$CN_x$/$Si_3N_4$/p-Si/Al were investigated. The resistivity of carbon nitride was above $2.40{\times}10^8{\Omega}{\cdot}cm$ at room temperature. The C-V plot showed a typical capacitance-voltage characteristics of semiconductor insulating layers, while it showed hysterisis due to interface charges. Amorphous carbon nitride (a-$CN_x$) films, that have relatively high resistivity and low dielectric constant could be useful as interlayer insulator materials of VLSI(very large-scale integration) and ULSI(ultra large-scale integration).
The ZnS:Mn thin film electroluminescent(TFEL) devices fabricated by ALE system were investigated. Yellow-orange light emission was observed when the applied voltage exceeded 134 V and luminance increased sharply as the applied voltage increased. Luminance of 568 Cd/c $m^{2}$ was obtained under 1 KHz sinusoidal voltage wave application at the peak applied voltage of 230 V. The peak wavelength of the emissionwas 577 nm. The C-V, Q-V, $Q_{t}$ - $F_{p}$ , L- $Q_{cond}$, and V- $Q_{pol}$ have been measured under theapplication of the trapezoidal wave with its pulse width varying 0 to 75 .mu.sec. The phoshor and the insulator capacitance of the TFEL device under test were 24.3 nF/c $m^{2}$ and 9 nF/c $m^{2}$, respectively. It was observed that the threshold voltage changed from 137V to 100V as the pulse width varied from 0 to 75 .mu.sec. The L- $Q_{cond}$ characteristics showed that the light emission increased in proportion to the $Q_{cond}$. The luminance increased from 386 Cd/ $m^{2}$ to 607 Cd/ $m^{2}$ when the $Q^{+}$$_{cond}$ increased from 1.3 .mu.C/c $m^{2}$ to 2.3 .mu.C/c $m^{2}$. The V- $Q_{pol}$ characteristics showed that the V was inversely proportional to $Q_{pol}$./. th/ was inversely proportional to $Q_{pol}$./. pol/./.
전류밀도, 70mA/cm2와 전류인가시간, 5초, 10초 조건의 양극반응으로 다공성 실리콘을 제작하여 800~110$0^{\circ}C$에서 열산화시킨 후 AI 전극을 증착시켜 만든 MOS(Metal Oxide Semiconductor) 구조의 C-V(Capacilance-Voltage) 특성을 조사하였다. 800, 90$0^{\circ}C$의 저온과 20~30분 이내의 단시간 산화에서는 산화막의 유전상수가 보통의 열산화막보다 크게 나타나고, 산화온도가 110$0^{\circ}C$의 고온과 60분 이상의 장시간 산화의 경우에는 3.9에 근접한 값을 갖는다. 이는 다공성 실리콘 산화막내에 존재하는 산화되지 않은 silicon들에 의한 효과와 표면적 증가에 의한 정전용량의 증가 효과가 복합적으로 작용하는 것이 그 원인이라 생각된다.
In order to evaluate the insulation deterioration in the stator windings of air-cooled gas turbine generators(119.2 MVA, 13.8 kV) which has been operating for more than 15 years, diagnostic test and AC dielectric breakdown test were performed on phases A, B and C. Diagnostic test included measurements of AC current, dissipation factor, partial discharge (PD) magnitude and capacitance. ${\Delta}I$ and ${\Delta}tan{\delta}$ in all three phases (A, B, and C) of generator stator windings showed that they were in good condition but PD magnitude indicated marginally serviceable condition. After the diagnostic test, an AC overvoltage test was performed by gradually increasing the voltage applied to the generator stator windings until electrical insulation failure occurred, in order to determine the breakdown voltage. Although phase A of generator stator windings failed at breakdown voltage of 29.0 kV, phases B and C endured the 29.0 kV. The breakdown voltage in all three phases was higher than that expected for good-quality windings (28.6 kV) in a 13.8 kV class generator.
In this paper, we have fabricated 4H-SiC schottky diodes utilizing a metal-oxide overlap structure for electric filed termination. The barrier height and Ideality factor were measured by current-voltage, capacitance-voltage characteristics. Schottky barrier height(SBH) were 1.41ev for Ni and 1.35eV for Pt, 1.52eV for Pt/Ti at room temperature and Pt/Ti Schottky diode exhibited Ideality factor was 1.06 to 1.4 in the range of $25^{\circ}C{\sim}200^{\circ}C$. To improve the reverse bias characteristics, an edge termination technique is employed for Pt/Ti/4H-SiC Schottky rectifiers and the device show excellent characteristics with higher blocking voltage up to 780V compared with unterminated devices.
Analyzing pentacene field effect transistors (FETs) with Au source and drain electrodes as Maxwell-Wagner effect elements, electron and hole injection from the Au electrodes into the FET channel were examined using current-voltage (I-V), capacitance-voltage (C-V) and optical second harmonic generation (SHG) measurements. Based on these results, a mechanism of the hole and electron injection into pentacene from the Au electrodes and subsequently recombination mechanism with light-emitting in the pentacene layer are discussed, with taking into account the presence of trapped charges.
Embedded capacitor technology can improve electrical perfomance and reduce assembly cost compared with traditional discrete capacitor technology. To improve the capacitance density of the $Al_2O_3$ based embedded capacitor on Cu cladded fiber reinforced plastics (FR-4), the specific surface area of the $Al_2O_3$ thin films was enlarged and their surface morphologies were controlled by anodization process parameters. From I-V characteristics, it was found that breakdown voltage and leakage current were 23 V and $1{\times}10^{-6}A/cm^2$ at 3.3 V, respectively. We have also measured C-V characteristics of $Pt/Al_2O_3/Al/Ti$ structure on CU/FR4. The capacitance density was $300nF/cm^2$ and the dielectric loss was 0.04. This nano-porous $Al_2O_3$ is a good material candidate for the embedded capacitor application for electronic products.
We have fabricated insulating thin films using p-hexadecoxyphenol(p-Hp) that was formed phenol-formaldehyde resin of crosslinked structure from reaction with formaldehyde by LB technique. For fabricated MIM device, the possibility for insulating layers of electronic were investigated by electrical properties of their LB films according to crosslinking of LB films current-voltage (I-V) properties and frequency-capacitance (C-F) characteristics. We have provided evidence for the high insulating performance of phenol-formaldehyde thin films by the LB method. Conductivity of their LB films was as follows: pure water > 1 % aq. Formaldehyde > heat treatment, in the current-voltage (I-V) characteristics. It is demonstrated that insulation properties of crosslinked p-HP LB films were improved. In capacitance-frequency properties, the heat-treated p-HP LB films for crosslinking showed a low relative dielectric constant.
The oxide films formed on etched aluminum foils play an important role as dielectric layers in aluminum electrolytic capacitors. $Y_2O_3$-doped $ZrO_2$ (YZ) films were coated on the etched aluminum foils by sol-gel dip coating, and the electrical properties of YZ-coated Al foils were characterized. YZ films annealed at $450^{\circ}C$ were crystallized into a cubic phase, and as the $Y_2O_3$ doping content increased, the unit cell of $ZrO_2$ expanded and the grain size decreased. The etch pits of Al foils were filled by YZ sol when it dried at atmospheric pressure after repeating for several times, but this step could essentially be avoided when being dried in a vacuum. YZ-coated foils indicated that the specific capacitance and dissipation factor were $2-2.5{\mu}F/cm^2$ and 2-4 at 1 kHz, respectively, and the leakage current and withstanding voltage of films approximately 200 nm thick were $5{\times}10^{-4}A$ at 21 V and 22 V, respectively. After being anodized at 500 V, the foils exhibited a specific capacitance and dissipation factor of $0.6-0.7{\mu}F/cm^2$ and 0.1-0.2, respectively, at 1 kHz, while the leakage current and withstanding voltage were $2{\times}10^{-4}-3{\times}10^{-5}A$ at 400 V and 420-450 V, respectively. This suggests that YZ film is a promising dielectric that can be used in high voltage Al electrolytic capacitors.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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