Deposition mechanism of $Bi_4Ti_3O_{12}$ films on Si by MOCVD and property improvement by pulse injection method
(MOCVD $Bi_4Ti_3O_{12}$ 박막의 실리콘 위에서의 증착기구 및 유기 금속원료의 펄스주입법에 의한 박막 특성 개선)
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- Journal of the Korean Vacuum Society
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- v.9 no.4
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- pp.373-378
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- 2000