• 제목/요약/키워드: bias field

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고전압 SiO2 절연층 nMOSFET n+ 및 p+ poly Si 게이트에서의 Positive Bias Temperature Instability 열화 메커니즘 분석 (Analysis of Positive Bias Temperature Instability Degradation Mechanism in n+ and p+ poly-Si Gates of High-Voltage SiO2 Dielectric nMOSFETs)

  • 윤여혁
    • 한국정보전자통신기술학회논문지
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    • 제16권4호
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    • pp.180-186
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    • 2023
  • 본 논문은 4세대 VNAND 공정으로 만들어진 고전압 SiO2 절연층 nMOSFET의 n+ 및 p+ poly-Si 게이트에서의 positive bias temperature instability(PBTI) 열화에 대해 비교하고 각각의 메커니즘에 대해 분석한다. 게이트 전극 물질의 차이로 인한 절연층의 전계 차이 때문에 n+/nMOSFET의 열화가 p+/nMOSFET의 열화보다 더 클 것이라는 예상과 다르게 오히려 p+/nMOSFET의 열화가 더 크게 측정되었다. 원인을 분석하기 위해 각각의 경우에 대해 interface state와 oxide charge를 각각 추출하였고, 캐리어 분리 기법으로 전하의 주입과 포획 메커니즘을 분석하였다. 그 결과, p+ poly-Si 게이트에 의한 정공 주입 및 포획이 p+/nMOSFET의 열화를 가속시킴을 확인하였다.

전계효과에 의한 칼코게나이드 박막에서의 광유기 복굴절 특성 (The Properties of Photoinduced Birefringence in Chalcogenide Thin Films by the Electric Field Effects)

  • 장선주;박종화;여철호;정홍배
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제14권1호
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    • pp.58-63
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    • 2001
  • We have investigated the photoinduced birefrinence by the electric field effects in chalcogenide thin films. The electric field effects have investigated the various applied bias voltages(forward and reverse) in chalcogenide thin films. A pumping (inducing) and a probing bean were using a linearly polarized He-Ne laser light (633nm) and semiconductor laser light (780nm), respectively. The result was shown that the birefringence had a higher value in DC +2V than the others, Also, we obtained the birefringence in the electric field effects by various voltages. In addition, we have discussed the anisotropy property of chalcogenide thin films by the electric field effects.

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Effective Channel Mobility of AlGaN/GaN-on-Si Recessed-MOS-HFETs

  • Kim, Hyun-Seop;Heo, Seoweon;Cha, Ho-Young
    • JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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    • 제16권6호
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    • pp.867-872
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    • 2016
  • We have investigated the channel mobility of AlGaN/GaN-on-Si recessed-metal-oxide-semiconductor-heterojunction field-effect transistors (recessed-MOS-HFET) with $SiO_2$ gate oxide. Both field-effect mobility and effective mobility for the recessed-MOS channel region were extracted as a function of the effective transverse electric field. The maximum field effect mobility was $380cm^2/V{\cdot}s$ near the threshold voltage. The effective channel mobility at the on-state bias condition was $115cm^2/V{\cdot}s$ at which the effective transverse electric field was 340 kV/cm. The influence of the recessed-MOS region on the overall channel mobility of AlGaN/GaN recessed-MOS-HFETs was also investigated.

유전율 이방성이 음인 액정을 이용한 Fringe-field Switching Twisted Hematic 모드의 전기광학 특성 연구 (Study on Electro-optic Characteristics of Fringe-field Switching Twisted Nematic Mode using a Liquid Crystal with Negative Dielectric Anisotropy)

  • 송일섭;신성식;이종문;이승희
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제17권5호
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    • pp.530-535
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    • 2004
  • We have studied 90$^{\circ}$ twisted nematic mode switching by fringe electric field(F-TN mode) using a liquid crystal (LC) with negative dielectric anisotropy. In the device, two polarizers are parallel each other, electrodes exist only on bottom substrate, and one of rubbing direction is coincident with polarizer axis. Therefore, the cell shows a black state before a voltage is applied. With a bias voltage generating fringe-electric field, the LC twists perpendicular to fringe electric field such that the LCs are almost homogeneously aligned except near the bottom surface since the negative type of the LC is used. Consequently, the new device exhibits much wider viewing angle than that of the conventional TN mode due to in-plane switching and relatively high transmittance since the LC director above whole electrode area aligns parallel to the polarizer axis.

Electron Holography of Advanced Nanomaterials

  • Shindo, D.;Park, H.S.;Kim, J.J.;Oikawa, T.;Tomita, T.
    • Applied Microscopy
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    • 제36권spc1호
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    • pp.63-69
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    • 2006
  • By utilizing a field emission gun and a biprism installed on a transmission electron microscope (TEM), electron holography is extensively carried out to visualize the electric and magnetic fields of nanomaterials. In the electric field analysis, the distribution of electric potential in a sharp tip made of W coated with $ZrO_2$ is visualized by applying the voltage to the tip. Denser contour lines due to the electric potential are observed with an increase in the bias voltage. In the magnetic field analysis by producing the strong magnetic field with a sharp magnetic needle made of a permanent magnet, the in situ experiment is carried out to investigate the magnetization of hard magnetic materials. The results of these experiments clearly demonstrate that electron holography is a promising advanced transmission electron microscopy technique to characterize the electric and magnetic properties of nanomaterials.

Theoretical Study of the Strong Field Emission of Electrons inside a Nanogap Due to an Enhanced Terahertz Field

  • Choi, Soo Bong;Byeon, Clare Chisu;Park, Doo Jae
    • Current Optics and Photonics
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    • 제2권6호
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    • pp.508-513
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    • 2018
  • We report the development of a theoretical model describing the strong field tunneling of electrons in an extremely small nanogap (having a width of a few nanometers) that is driven by terahertz-pulse irradiation, by modifying a conventional semiclassical model that is widely applied for near-infrared wavelengths. We demonstrate the effects of carrier-envelope phase difference and strength of the incident THz field on the tunneling current across the nanogap. Additionally, we show that the dc bias also contributes to the generation of tunneling current, but the nature of the contribution is completely different for different carrier-envelope phases.

기판 bias 전압이 a-C:H 박막의 특성에 미치는 영향 (Effect of substrate bias voltage on a-C:H film)

  • 유영조;김효근;장홍규;오재석;김근식
    • 한국진공학회지
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    • 제6권4호
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    • pp.348-353
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    • 1997
  • DC saddle-field plasma enhanced chemical vapor deposition(PECVD) 장치를 이용 하여 상온에서 p-type Si(100) 기판위에 hydrogenated amorphous carbon(a-C:H) 박막을 증 착하고 기판의 bias 전압 변화에 따른 박막의 미세구조 변화와 광학적 특성을 연구하였다. 본 실험시 CH4 가스의 유량은 5sccm, 진공조의 $CH_4$ 가스압력은 90mtorr로 일정하게 유지 하였으며 기판의 bias 전압($V_s$)은 0V에서 400V까지 변화시켰다. Rutherford backscattering spectroscopy(RBS)와 elastic recoil detection(ERD) 측정결과 증착된 a-C:H박막의 증착율은 $V_s$=0V에서 $V_s$=400V로 증가함에 따라 45$\AA$/min에서 5$\AA$/min으로 크게 감소하였지만 박막 내의 수소 함유량은 15%에서 52%까지 크게 증가하였다. a-C:H박막내의 수소 함유량이 증 가함에 따라 a-C:H박막은 sp3CH3구조의 polymer like carbon(PLC) 구조로 변환되는 것을 FT-IR로 확인하였으며 Raman 측정 결과 $V_s$=100V와 $V_s$=200V에서 증착한 a-C:H 박막에서 만 C-C결합에 의한 disorder 및 graphite peak를 볼 수 있었다. Photoluminescence(PL) 측 정 결과 $V_s$=200V까지는 기판의 bias 전압이 증가함에 따라 PL세기는 증가하였으나 그 이 상의 인가전압에서는 PL세기가 점점 감소하였다. 특히 $V_s$=200V에서 제작한 a-C:H박막의 PL특성은 상온에서도 눈으로 보일 만큼 우수한 발광 특성을 보였으며, 기판 bias전압이 증 가함에 따라 PL peak 위치가 청색으로 편이하는 경향을 보였다. 이러한 발광 세기의 변화 는 $V_s$=0V부터 $V_s$=200V까지는 기판의 bias전압이 증가함에 따라 상대적으로 박막의 표면에 충돌하는 이온에너지의 감소로 인해 a-C:H박막내에 비발광 중심으로 작용하는 dangling bond가 감소하여 발광의 세기가 증가하였으며 $V_s$=300V이상에서는 박막내의 수소 함유량이 증가함에 따라 dangling bond수는 감소하나 발광 중심으로 작용하는 탄소간의 $\pi$결합을 포 함하는 cluster가 줄어들어 PL세기가 감소한 것으로 생각된다.

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NiFe/FeMn 이중박막의 증착시 자기장에 의한 교환결합력 이방성 효과 (Anisotropy Effect of Exchange Bias Coupling by Unidirectional Deposition Field of NiFe/FeMn Bilayer)

  • 박영석;황도근;이상석
    • 한국자기학회지
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    • 제18권5호
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    • pp.180-184
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    • 2008
  • 이온빔 증착법으로 제작한 코닝유리(Corning glass)/Ta(5 nm)/NiFe(7 nm)/FeMn(25 nm)/Ta(5 nm) 다층박막 구조에서 반강자성체 FeMn층 증착시 인가한 일축 이방성 자기장 방향에 따른 강자성체 NiFe층의 자화 스핀배열 의존성을 조사하였다. NiFe층과 FeMn 층 증착시 인가한 자기장 방향을 달리한 각도는 각각 $0^{\circ},\;45^{\circ},\;90^{\circ}$였다. 용이축 MR(magnetoresistaice) 곡선으로부터 얻은 교환결합세기(Hex)는 증착 자기장 각도가 $45^{\circ}$일 때 40 Oe로, $90^{\circ}$일 때는 거의 0 Oe로 감소하였다. 반면에 곤란축 MR 곡선으로부터 얻은 $H_{ex}$ 값은 증착 자기장 각도가 $45^{\circ}$일 때 35 Oe로, 90o일 때는 79 Oe로 증가하였다. 강자성체 층의 용이축과 반강자성체 층의 일축 이방성 방향이 $90^{\circ}$ 차이가 나는 계면에서도 FeMn층이 NiFe층의 자기모멘트 스핀방향을 회전시켜 교환결합 이방성 효과가 발생함을 알 수 있었다.

Wavelet Smoothing을 이용한 MRI 데이터에서의 Intensity Non-uniformity 보정

  • 김양현;류완석;정성택
    • 대한자기공명의과학회:학술대회논문집
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    • 대한자기공명의과학회 2003년도 제8차 학술대회 초록집
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    • pp.75-75
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    • 2003
  • 목적: MR 영상에 나타나는 bias field, 즉 영상의 특정 부분이 주위보다 어둡거나 밝게 나타나는 현상을 보다 균일하게 보정시키는 방법으로 제시된 N3 방법에서 Gaussian kernel을 사용한 smoothing 방법 대신에 Wavelet(Daubechies, D4)함수를 smoothing기법으로 사용했을 때 어느 정도 균일함에 향상이 일어나는지를 알아보는 것이다.

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