A Comparative Study on the Characteristics of TiN Films Deposited by Plasma-Assisted CVD, Ion Plating and Reactive Sputtering (플라즈마 화학증착법, 이온 플레이팅법 및 반응성 스퍼터링법에 의해 증착된 TiN 박막의 특성 비교 연구)
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- Journal of the Korean Ceramic Society
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- v.31 no.7
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- pp.731-738
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- 1994