클로로포름($CHCl_3$ )을 첨가한 고농도 폴리실리콘 이방성 식각 기술
(Anisotropic Etching Technology of Highly Doped Polysilicon by Mixed Chloroform)
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- 한국전기전자재료학회논문지
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- 제11권2호
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- pp.101-105
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- 1998