International Journal of Aerospace System Engineering
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제2권2호
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pp.24-28
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2015
Composite materials are highly sensitive to the presence of manufacturing and service-related defects that can reach a critical size during service condition and thereby may affect the safety of the structure. When the structure undergoes some kind of damage, its stiffness reduces, in turn the dynamic responses change. In order to avoid safety issues early detection of damage is necessary. The knowledge of the vibration behavior of a structure is necessary and can be used to determine the existence as well as the location and the extent of damage.
This paper described on the fabrication of SOI(Si-on-insulator) structures with buried cavities by SDB technology and eletrochemical etch-stop. The cavity was fabricated the upper handling wafer by Si anisotropic etch technique. SDB process was performed to seal the fabricated cavity under vacuum condition at -760mmHg. In the SDB process, captured air and moisture inside of the cavities were removed by making channels towards outside. After annaling(100$0^{\circ}C$, 60 min.), the SDB SOI structure was thinned by electrochemical etch-stop. Finally, it was fabricated the SDB SOI structure with buried cavities as well as an accurate control and a good flatness.
This paper presentes the characteristics of Si anisotropic etching and electrochemical etch-stop in aqueous TMAH/IPA/pyrazine solution. (100) Si etching rate of 0.747 $\mu\textrm{m}$/min which faster 86% than TMAH 25 wt.%/IPA 17 vol.% solution was obtained using best etching condition at TMAH 25 wt.%/IPA 17 vol.%/pyrazine 0.1 g and the etching rate of (100) Si was decreased with more additive quantity of pyrazine. I-V curve of p-type Si in TMAH/IPA/pyrazine was obtained. OCP(Open Circuit Potential) and PP(Passivation Potential) were -2 V and -0.9 V, respectively. Si diaphragms were obtained by electrochemical etch-stop in aqueous TMAH/IPA/pyrazine solution.
본 연구에서는 종양이 간원개에 위치한 환자들을 대상으로 Eclipse 치료계획시스템(treatment planning system V8.9 : TPS, Varian)에서 쓰이는 두 종류의 선량계산 알고리즘(pencil beam convolution : PBC, anisotropic Analytical algorithm : AAA)들을 적용하여 육안적종양체적(gross tumor volume : GTV), 내부표적체적(internal target volume : ITV), 계획용표적체적(planning target volume : PTV) 및 주요 관심장기에 전달되는 선량의 변화를 정량적으로 평가하고, 선량분포에 영향을 미칠 수 있는 인자들을 분석하고자 하였다. 본원에서 치료받은 간암환자 20명을 대상으로 하였고 그 중 10명의 환자들에 대해서는 정위적 방사선치료(stereotactic body radiation therapy : SBRT) 기술을 적용, 다른 10명의 환자들에 대해서는 3차원 입체조형 방사선치료(three-dimensional conformal radiation therapy : 3DCRT) 기술을 적용하여 치료하였다. 조사선량은 우선적으로 PBC 알고리즘을 적용하여 선량계산을 하였고 동일한 빔 정렬 및 콜리메이터(Collimator), Monitor Unit (MU) 그리고 Field 가중치를 적용시켜서 AAA 선량계산법으로 다시 계산 한 후, 두 알고리즘에 대한 처방선량 100%에 해당하는 체적(V100)의 lesion coverage factor (CVF) 들을 비교하였다. SBRT 기술을 이용한 환자들의 치료계획에서 전체 PTV에 대한 CVF의 경우, 두 선량계산 알고리즘사이 통계학적으로 유의한 상관관계(p=0.018)를 보였다. 또한, 3DCRT 기술을 이용한 환자들의 치료계획에서는 전체 PTV (p=0.006), 간원개에 위치한 PTV (p=0.013), 전체 ITV (p=0.024)에 대하여 각각 통계학적으로 유의한 상관관계를 보였다. 복부에 위치한 주요 관심장기에 대하여 SBRT 기술을 이용한 환자들의 치료계획에서 정상 간과 신장에 조사되는 최대선량에 대하여 통계학적으로 각각 유의한 상관관계(정상간: p=0.009, 신장: p=0.037)를 보였다. 본 연구에서 선택한 선량변화 예측인자들에 대하여 대응표본 T-검정(paired T-test)을 시행한 결과, 전체 PTV에 대한 간원개에만 위치하는 PTV의 비율($PTV_{dome}$/PTV)과 두 알고리즘에 의한 CVF 비율의 상관관계에 있어서 통계학적으로 유의미한 상관관계를 보였다(p<0.01). 또한, 종양의 크기에 대한 두 알고리즘의 CVF 비율에 있어서 통계학적으로 의미가 있는 상관관계를 보였다(SRS환자 p=0.017, 3DCRT환자 p=0.023). 본 연구에서는 15MV x-ray beam으로 선량을 계산할 때 PBC와 AAA간의 선량계산 차이를 분석하여 선택한 선량변화 예측인자 중 간원개에 위치한 종양의 크기와 계획용 표적체적에 대한 관계성을 알아내었다. 일반적으로 15MV x-ray beam에 의한 선량분포를 정확하게 알아내는 것은 AAA으로도 불충분하다는 것이 일반적인 사실로 받아들여지고 있어 이를 AAA와 PBC간의 차이로 그 정확성을 간접적으로 유추하여 실질적인 선량분포에 대한 치료계획단계에서의 선량분포의 차이의 경향성을 보고자 하였다.
본 논문은 유한차분시간영역법의 mesh truncation을 위한 비둥방성 완전갱합충(APML)에 관하여 연구하였다. APML 방법은 크게 분리형과 비분리형으로 분류할 수 있으며, 분리형의 경우는 평면에 대하여 127M 또는 8 개의 방정식으로 구성되고 비분리형의 경우는 6개의 방정식으로만 구성된다. 따라서 후자의 방법이 전자의 방법 에 비하여 훨씬 간단하다. 본 논문에서 제시된 APML 방정식은 후자의 방법으로서 Chen에 의해 제시된 방법을 3차원적으로 확장하여 Maxwell의 시간도함수 방정식으로부터 직접 유도하였다. 특히 평면을 제외한 모서리와 모퉁이 부분에서 APML 방정식은 Gedney에 의해서 제시된 방법과 Chen의 방법올 조합하여 새롭게 효과적으 로 다루었다. 수치해석의 결과는 여러 파장을 갖는 선형안테나들에 대하여 복사때턴 및 전자장의 시간응답을 나타내며, 그 결과의 비교는 Mur의 1차 흡수경계조건을 사용한 결과 그리고 Kraus의 해석적 결과와 비교하였다. 결과적으로 Mur의 l차 흡수경계조건올 사용하는 경우는 주파수가 높아짐에 따라서 모서리와 모퉁이 부분에서 많은 오차가 있음을 확인하였다. 반면에 Kraus의 해석적 결과와의 비교는 좋은 일치를 보이므로 본 논문의 합당함을 입중할 수있었다.
이 연구의 목적은 MODFLOW를 이용하여 신규 지하수 관정 추가로 인한 영향을 예측하기 위해 지하수의 변화와 지하수두 또는 매개변수 민감도에 미치는 영향을 평가하는 것이다. 이 연구에서는 동해시의 전천유역 하류지역을 대상으로 두 가지 조건을 모의하였다. 첫 관측된 지하수위값을 이용하여 자연상태 정류 흐름을 모의 할 수 있는 매개변수를 결정한 후, 이미 설치되어 있는 관정까지 포함하여 모형을 구축하였다. 구축된 모형을 이용하여 지하수 관정의 추가 설치에 따른 영향을 모의하였다. 두 번째는 동해시의 물 부족 문제를 해결하기 위한 방법으로 관정을 계획하고 모의하였다. 모의 결과, 최대 지하수위 저하는 첫 번째 대수층에서 약 0.35m로 나타났으며, 이는 해수의 침입은 발생하지 않는다는 것과 관정의 계획이 물 부족의 해결책으로 무리가 없다는 것을 나타낸 것이다. 마지막으로 MODFLOW에서 사용되는 매개변수의 민감도 분석을 실시하였다. 민감도 분석 결과에서 초기 수두, 비등방성 계수, 수리전도도 및 일반수두경계가 민감한 매개변수로 판명되었다.
Micro parts are usually used of producing by micro-electro-mechanical systems(MEMS). In this paper, we present some fundamental results concerning on the MEMS, extrusion condition on the micro forming characteristics and new micro forward extrusion machine has been developed. In the first step, we manufactured micro dies in two kinds of sections. One is a circle section, another is a cross section. The process for fabricating micro dies combines a deep UV-lithography, anisotropic etching techniques and metal electroplating with bulk silicon based on Ni with a thickness of $50{\mu}m$. The outer diameter of Ni-micro dies is 3mm and the diameter of extrusion section is $270{\mu}m$ for a cross section, $500{\mu}m$ for a circle section. The low linear density polyethylene(LLEPD) in the shape of a pellet has been used of micro extrusion. The billet was placed in a container manufactured by electric discharge machining and extruded through the micro die by a piezoelectric actuator. The micro extrusion has succeeded in a forming such micro parts as micro bars, micro cross shafts.
Superparamagnetic regions and magnetic anisotropic properties in randomly orientated Co nano dots(NDs) were investigated as a function of dot diameter, spacing, and density. The Co NDs were fabricated by intentionally exposing a laser source on ultra thin film. Various dot sizes are ultimately realized by changing laser power, scan condition, and intial film thickness. Magnetic hysteresis loops, angle-dependent magnetization, and temperature dependence magnetization of the Co NDs were measured with a superconducting quantum interference device. The analysis of magnetization and hysteresis loops was effectively used to determine superparamagnetic regions of the Co NDs. Up to now, the experimentally observed results repeal that room temperature superparamagnetic limit of our Co NDs was about 30 nm in diameter, with the confirmation of high resolution transmission electron microscope.
본고는 팽장성 암석들의 시간의존적변형의 측정을 위한 실험장치와 실험고과에 관해서 설명한다. 새로운 실험장치들은 개선된 일축벽축하의 팽난시험, 일축 인장하의 인창시험과 이축 응력하의 팽 복시험을 위해서 제작하였다. 본 실험장치들은 암반파착시 지반에 작용하는 단순화된 헌력상태하에 있는 암반의 시간의존적 변형을 제 수직방향에서 측정한다. 지난 몇년간에 걸쳐서 얻은 실험결과에 의하면 본 실험장치들은 세공적으로 작동하는 것으로 나타났다. 실험결과로 보면, 퀸스톤 체일(Queenston shale)의 자유변형조건하에서의 시간의존적 변형 거동은 층리면과 수직인 방향에서는 층리면과 평행인 방향에서보다 약간 더 많은 역접이 일어나는 이방성적 거동을 보인다. 한 방향에 응력을 받을 때에는 응력이 작용하는 방향은 물론 그와 수직되는 방향의 역장성변형이 억제된다.
This paper reports a potential problem in the electrical performance of the silicide film to silicon contacts with respect to the scaling trend in integrated circuit (IC) devices. The effects of elastic strain on the agglomeration of the coherent silicide film embedded in an infinite matrix are studied employing continuum linear elasticity and finite-difference numerical method. The interface atomic diffusion is taken to be the dominant transport mechanism where both capillarity and elastic strain are considered for the driving forces. Under plane strain condition with elastically homogeneous and anisotropic system with cubic symmetry, the dilatational misfit and the tetragonal misfit in the direction parallel to the film thickness are considered. The numerical results on the shape evolution agree with the known trend that the equilibrium aspect ratio of the film increases with the elastic strain intensity. When the elastic strain intensity is taken to be only a function of the film size, the flat film morphology with a large aspect ratio becomes increasingly unstable since the equilibrium aspect ratio decreases, as the film scales. The shape evolution results in a large decrease in contact to silicon area, and may deteriorate the electrical performances.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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