Rapid Thermal Process에 의해 형성시킨 얇은 산화막의 전기적 특성
(Electrical Properties of Thin $SiO_2$ Film by Rapid Thermal Process)
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 1994년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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- pp.246-248
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- 1994