The characteristics of a titanium oxide layer prepared using a plasma electrolytic oxidation (PEO) process were investigated, using an extended gate ion sensitive field effect transistor (EG-ISFET) to confirm the layer's capability to react with hydrogen ions. The surface morphology and element distribution of the PEO-processed titanium oxide were observed and analyzed using field-emission scanning-electron microscopy (FE-SEM) and energy-distribution spectroscopy (EDS). The titanium oxide prepared by the PEO process was utilized as a hydrogen-ion sensing membrane and an extended gate insulator. A commercially available n-channel enhancement MOS-FET (metal-oxide-semiconductor FET) played a role as a transducer. The responses of the PEO-processed titanium oxide to different pH solutions were analyzed. The output drain current was linearly related to the pH solutions in the range of pH 4 to pH 12. It was confirmed that the titanium-oxide layer prepared by the PEO process could feasibly be used as a hydrogen-ion-sensing membrane for EGFET measurements.
Thin films of CrAlSiN were deposited on SKD11 tool steel substrate using Cr and AlSi cathodes by a cathodic arc plasma deposition system. The influence of process parameters on the deposited film properties were investigated. The oxidation characteristics of the films were studied at temperatures ranging from 800 and 1000+C up to 50 h in air. The films showed superhardness and good oxidation resistance..
시멘트 산업의 질소산화물 배출량 감축을 위해 소성로에 다단연소공정을 적용할 경우, 질소산화물을 질소로 환원시키고 미연소 물질을 완전히 연소시켜 연소효율을 증대할 수 있는 산화/환원 구간이 필수적이다. 이에 본 연구에서는 시멘트 소성로 calciner에 산화/환원 구간 설정 시 최종 생산품인 시멘트 클링커의 품질안정성을 확보할 수 있는 최적 산화/환원 소성분위기를 거시적으로 관찰하고자 하였으며, 소성조건에 따른 원료물질의 질량변화, 탈탄산률, 소성완료율 등을 조사하였다. 실험결과, 대체로 환원분위기보다 산화분위기에서 원료물질의 열분해가 촉진되는 경향을 나타내며, 원료물질 자체 성분특성에 따라 비교적 CaO 함량이 높은 석회석의 열분해가 시멘트 조합원료보다 늦게 진행되는 것을 알 수 있었는데 이는 소성로 내 CO2 분압에 의한 현상으로 생각된다. 산화/환원 소성분위기에 따른 원료물질의 열분해 특성은 일반적인 석회석 열분해 온도보다 낮은 온도범위에서 비교적 큰 차이를 보였는데, 소성온도 750℃ 구간에 산화분위기 형성에 따라 원료물질의 열효율 향상을 기대할 수 있을 것으로 생각된다. 다만, 본 연구의 경우 실험실 규모의 연구로서 현장공정과는 차이가 있기 때문에, pilot plant 규모의 실검증결과가 필요한 것으로 판단된다.
The UV/chlorine process is a UV-based advanced oxidation process for removing various organic pollutants in water. The process is becoming increasingly popular because of its effectiveness in practice. It is important to the safe and efficient operation of a UV/chlorine process that the optimal operating conditions for both target removal objective and saving energy are determined. Treatment efficiency of target compounds in UV/chlorine process was mainly affected by pH and scavenging factor. In this study, kinetic based mathematical model considering water characteristics and electrical energy dose calculations model was developed to predict of treatment efficiency and optimal operating conditions. The model equation was validated for the UV/chlorine process at the laboratory scale and in pilot tests at water treatment plants.
Peroxone 공정은 정수처리 공정에서 기존의 염소와 오존 공정들의 여러 가지 한계점들을 극복할 수 있는 공정이다. 과산화수소와 오존에 의해 생성되는 OH 라디칼은 다양한 유기성 오염물질들에 대해 빠른 산화분해 및 높은 제거효율을 나타낸다. Peroxone 공정을 운영하는데 있어 주요 과제는 OH 라디칼 생성을 저해시키는 또는 생성된 OH 라디칼을 소모시키는 scavenger들과 공존할 때 peroxone 공정의 효율을 높일 수 있는 방안을 강구하는 것이다. Bromate와 같은 무기성 산화 부산물의 생성을 최소화할 수 있는 방안과 peroxone 공정 처리 후 염소 소독시 생성되는 염소 소독부산물들의 생성을 보다 저감할 수 있는 방안에 대해서도 많은 연구가 필요하다. 또한, 수중에 잔류하는 과산화수소에 대한 문제이다. 잔류 과산화수소를 on-line으로 측정할 수 있는 정밀한 측정장비의 개발 및 보급이 우선되어야 peroxone 공정의 운영에 있어서 안전성이 확보될 수 있다. 이러한 과제들이 해결이 된다면 peroxone 공정은 보다 다양한 목적으로 정수처리에 효율적으로 적용될 수 있을 것이다.
Many studies have been investigated on high density plasma source (Electron Cyclotron Resonance, Inductively Coupled Plasma, Helicon plasma) for large area source after It is announced that productivity of plasma process depends on plasma density. In this presentation, we will propose the new concept of the multiple source, which consists of a parallel connection of ICP sources and helicon plasma sources. For plasma uniformity, equivalent power (especially, equivalent current in ICP & Helicon) should distribute on each source. We design power feeding line as coaxial transmission line with same length of ground line in each source for equivalent power distribution. And we confirm the equivalent power distribution with simulation and experimental result. Based on basic study, we develop the plasma source for oxidation in semiconductor process. we will discuss the relationship between the processing parameters (With or WithOut magnet, operating pressure, input power ). In ICP, plasma density uniformity is uniform. In ICP with magnet (or Helicon) plasma density is not uniform. As a result, new design (magnet arrangement and gas distributor and etc..) are needed for uniform plasma density in ICP with magnet and Helicon.
The Advanced Oxidation Process (AOP) is being increasingly used to oxidize complex organic constituents in treated effluents from domestic wastewater treatment plants. Generally, ${NO_3}^--N$ concentrations ranges between 5 and 8 mg/L for biologically well-treated effluents. However, nitrate ions, ${NO_3}^-$, affects on oxidation as not only a well-known strong absorber of UV light below 250 nm of wavelength but also as an OH radical scavenger. The objective of this study was to evaluate the AOP systems for degradation of 2,4-DCP, and to delineate the effect of nitrate ions on UV oxidation of 2,4-DCP by conducting a bench-scale operation at various reaction times and initial concentrations of $H_2O_2$. The experimental results indicated that 2,4-DCP could be completely oxidized by $UV/H_2O_2$ process with an initial $H_2O_2$ concentration of 20 mg/L at a retention time of 1.0 min or longer. Nitrate ions did not show any adverse effect on 2,4-DCP oxidation at this high $H_2O_2$ concentration, and the practical initial $H_2O_2$ concentration and reaction time for the 80% oxidation turned out to be 5 mg/L and 1.0 min, respectively.
The electrodeposition of indium onto a copper electrode from an aqueous sulfate solution containing $In^{3+}$ was studied by means of cyclic voltammetry and chronoamperometry. Reduction and oxidation of indium on copper were investigated by using cyclic voltammograms at different negative limiting potentials and at different scan rates in cumulative cycles. Cyclic voltammograms indicated that reduction and oxidation processes of indium could involve various reactions. Chronoamperometry was carried out to analyze the nucleation mechanism of indium in the early stage of indium electrodeposition. The non-dimensional plot of the current transients at different potentials showed that the shape of the plot depended on the applied potential. The nucleation of indium at potential step of -0.6~-0.8 V was close to progressive nucleation limited by diffusion. However the non-dimensional plot of current transients for the indium nucleation showed different behaviors from theoretical curves at the potential step lower than -0.8 V.
Electrochemical properties of self-dopable poly(aniline N-butylsulfonate)s in various acidic medium were investigated by spectroelectrochemical techniques. Cyclic voltammetric study showed more than two reversible process of one electron transfer, the potential and peak intensity of which were dependent on the acid concentration and dopant ion. Spectroscopic study at different oxidation level indicated that the electrochromic switching of the poly(aniline N-alkylsulfonate)s film involves structural changes from benzenoid ring to quinoid ring. Spectrocyclic voltammetry together with impedance spectra of the PANBUS film in 0.1 M $LiClO_4$ solution of acetonitrile containing 0.46 M of perchloric acid showed two types of highly conductive states at the intermediate oxidation levels, which can be related to the metallic polaron states doped by two different process.
Structural changes during oxidation of anisotopic mesophase carbon fiber(AMCFs) have been observed with TEM and XRD. It was shown that the AMCFs are three dimensionally stacked structure of turbostratic layers, and are non-homogeneous structure which consist of the highly ordered areas and the random areas. The $d_{ 002}$, Lc, and La of AMCFs which were measured by XRD were 3.44, 146, and $135\AA$, respectively. It was observed that the oxidation initiated at the random areas, because the $d_{002}$ / decreased to the value of 3.41 $\AA$ during initial oxidation stage. It was also observed that the La of the oxidized AMCFs increased up to 182 $\AA$ during the whole oxidation process, and the $d_{002}$ of that increases up to 9.44 $\AA$ when the burn-off is over the degree of 20%. Therefore, it was suggested that the micro-crystalline grew up by heat treatment effects during the fibers were oxidized, In addition, it was shown that there was difference in the measured value of La by XRD and TEM, in case of 39% oxidized fibers for example, the measured La was $ 165\AA$ by XRD and in the range of 180∼220 $\AA$ by TEM.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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