$Cl_2/Ar$ 유도 결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 $N_2$ 가스 첨가 효과
(The Effect Of Additive $N_2$ Gas In Pt Film Etching Using Inductively Coupled $Cl_2/Ar$ Plasmas)
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- 대한전자공학회논문지SD
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- 제37권7호
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- pp.1-6
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- 2000