본 연구에서는 ZnTe에 S 원자를 소량 첨가한 ZnTe : S 단결정 박막이 열적적층법에 의하여 GaAs(100) 기판 위에 성장되었다. S 원자에 의한 효과를 알기 위하여 ZnTe : S 단결정 박막의 광발광 특성을 조사하였다. 저온 광발광 스펙트럼에서 등전자적 중심(isoelectronic center)으로 보이는 2.339 eV의 피크가 관측되었고, ZnTe 단결정 박막의 광발광 스펙트럼에서 근원을 알 수 없었던 발광 스펙트럼은 관측되지 않았다. 온도에 따른 가벼운 양공 자유 엑시톤의 세기 변화는 외부자기포획(extrinsic self-trapping)으로 설명하였다. 그리고 상온에서 에너지 띠간격 흡수단 근처의 발광선이 관측되었다.
We reported on antireflective ZnSnO (ZTO)/Ag bilayer and ZTO/Ag/ZTO trilayer source/drain (S/D) electrodes for all-transparent ZTO channel based thin film transistors (TFTs). The ZTO/Ag bilayer is more transparent (83.71%) and effective source/drain (S/D) electrodes for the ZTO channel/Al2O3 gate dielectric/ITO gate electrode/glass structure than ZTO/Ag/ZTO trilayer because the bottom ZTO layer in the trilayer increasea contact resistance between S/D electrodes and ZTO channel layer and reduce the antireflection effect. The ZTO based all-transparent TFTs with ZTO/Ag bilayer S/D electrode showed a saturation mobility of 4.54cm2/Vs and switching property (1.31V/decade) comparable to TTFT with Ag S/D electrodes.
$Cu_2ZnSnSe_4$ (CZTSe) is one of candidate to alternate $Cu(In,Ga)Se_2$ as solar absorber material for solar cell. The expensive elements of In and Ga are replaced by Zn and Sn, respectively to lower the material cost. In this study we fabricated CZTSe thin film by selenization of single precursor layer consisted metallic constituent. Precursor compositions ratio were selected to have Cu-poor and Zn-rich content and prepared by RF magnetron sputtering. Thermal processing was applied to introduce selenium into as-deposited films at temperatures ranging from 350 to 500 for time up to 120 minutes. Single precursor films showed amorphous structure and consist of individual elements of Cu, Zn, and Sn. It was confirmed by XRD analysis that synthesis of CZTSe compound is occurred from lower temperature process, although concurrently additional phases such as binary cooper selenides are also existed. The quality of CZTSe crystal was improved as temperature increased. We also investigated the optical and electrical properties of as-selenized CZTSe as well.
We investigated the diffusion behaviors, electrical properties, microstructures, and composition of In-Ga-Zn-O (IGZO) oxide thin films deposited by radio frequency reactive magnetron sputtering with increasing annealing temperatures. The samples were deposited at room temperature and then annealed at 300, 400, 500, 600 and $700^{\circ}C$ in air ambient for 2 h. According to the results of time-of-flight secondary ion mass spectrometry and X-ray photoelectron spectroscopy, no diffusion of In, Ga, and Zn components were observed at 300, 400, 500, $600^{\circ}C$, but there was a diffusion at $700^{\circ}C$. However, for the sample annealed at $700^{\circ}C$, considerable diffusion occurred. Especially, the concentration of In and Ga components were similar at the IGZO thin film but were decreased near the interface between the IGZO and glass substrate, while the concentration of Zn was decreased at the IGZO thin film and some Zn were partially diffused into the glass substrate. The high-resolution transmission electron microscopy results showed that a phase change at the interface between IGZO film and glass substrate began to occur at $500^{\circ}C$ and an unidentified crystalline phase was observed at the interface between IGZO film and glass substrate due to a rapid change in composition of In, Ga and Zn at $700^{\circ}C$. The best values of electron mobility of $15.5cm^2/V{\cdot}s$ and resistivity of $0.21{\Omega}cm$ were obtained from the sample annealed at $600^{\circ}C$.
The ZnO thin films doped with Ga(GZO) and both Ga and Ge(GZO:Ge) were deposited on glass substrate by using RF sputtering system respectively. Structural, morphological and optical properties of the films deposited in the same condition were investigated. Structural properties of the films were investigated by Field Emission Scanning Electron Microscopy, FE-SEM images and X-ray diffraction, XRD analysis. These studies showed shape of films' surface and direction of film growth respectively. It's showed that all films were deposited by vertical orientation strongly. It can be confirmed that all dopants of targets were included in deposited films by results of EDX analysis. UV-Vis spectrometer results showed that all samples had highly transparent characteristics in visible region and have similar 3.28~3.31 eV band gap. It was found that existence of all dopants by EDX analysis. Morphology and roughness of surface of each film were clearly shown by Atomic Force Microscopy, AFM images. It was found in this research that film doped with Ge more dense and stable with hardly any difference in gap energy compared to ZnO films.
Diffusion coefficient of Fe in polycrystalline host ZnSe as a mid-IR gain medium has been measured in the annealing temperature ranges of 850 to $950^{\circ}C$. The synthesis of the samples was carried out in quartz ampoule in which the Fe thin film deposited by physical vapor evaporation method on the ZnSe. One can realize that the diffusion coefficient strongly depends on the surface active surfactants through the cleaning process and the substrate temperature during the thin film deposition leading to $2.04{\times}10^{-9}cm^2/s$ for $Fe^{2+}:ZnSe$. The Annealing temperature dependence of the Fe ions diffusion in ZnSe was used to evaluate the activation energy, $E_a$=1.39 eV for diffusion and the pre-exponential factor $D_0$ of $13.5cm^2/s$.
$Zn_xSr_{1-x}S$ 박막을 sputtering법에 의해 제작하여 결정구조, 결합상태, 광학적 특성 등의 분석에 의해 고용체 유무를 판단하고 유전체 이론과 비교.검토하였다. 실험 결과 $0.86~0.93{\leq}x{\leq}1$에서 zincblende구조, $0{\leq}x{\leq}0.29$ 범위에서 rocksalt 구조의 고용체로 되었으며, 이들 영역에서는 격자정수, 결합에너지 및 흡수단은 조성에 따라 거의 직선적으로 변화했다. 상분리 영역을 포함한 miscibility gap은 $0.3{\leq}x{\leq}0.86~0.91$범위에서 존재하고 이 영역에서의 격자정수, 결합에너지 및 흡수단은 경계 조성의 값으로 일정했다. 상전이에 관한 실험결과는 Phillips의 유전이론에 기초한 이온성과 일치하였다.
$Zn_xSr_{1-x}S$ 박막을 sputtering법에 의해 제작하여 결정구조, 결합상태, 광학적 특성 등의 분석에 의해 고용체 유무를 판단하고 유전체 이론과 비교.검토하였다. 실험결과 $0.86~0.93{\leq}x{\leq}1$에서 zincblende 구조, $0{\leq}x{\leq}0.29$범위에서 rocksalt구조의 고용체로 되었으며, 이들 영역에서는 격자정수, 결합에너지 및 흡수단은 조성에 따라 거의 직선적으로 변화했다. 상분리 영역을 포함한 miscibility gap은 $0.3{\leq}x{\leq}0.86~0.91$범위에서 존재하고 이 영역에서의 격자정수, 결합에너지 및 흡수단은 경계 조성의 값으로 일정했다. 상전이에 관한 실험결과는 Phillips의 유전이론에 기초한 이온성과 일치하였다.
The stochiometric mix of evaporating materials for the $ZnGa_{2}Se_{4}$ single crystal thin films was prepared from horizontal furnace. To obtain the single crystal thin films, $ZnGa_{2}Se_{4}$ mixed crystal was deposited on thoroughly etched semi-insulating GaAs(100) substrate by the Hot Wall Epitaxy (HWE) system. The source and substrate temperature were $610^{\circ}C$ and $450^{\circ}C$, respectively. The crystalline structure of single crystal thin films was investigated by the photoluminescence and double crystal X-ray diffraction (DCXD). The carrier density and mobility of $ZnGa_{2}Se_{4}$ single crystal trun films measured from Hall effect by van der Pauw method are $9.63{\times}10^{17}cm^{-3}$, $296cm^{2}/V{\cdot}s$ at 293 K, respectively. From the photocurrent spectrum by illumination of perpendicular light on the c axis of the $ZnGa_{2}Se_{4}$ single crystal thin film, we have found that the values of spin orbit splitting $\Delta$ So and the crystal field splitting $\Delta$Cr were 251.9 meV and 183.2 meV at 10 K, respectively. From the photoluminescence measurement on $ZnGa_{2}Se_{4}$ single crystal thin film, we observed free excition (Ex) existing only high quality crystal and neutral bound exiciton $(A^{0},X)$ having very strong peak intensity. Then, the full-width-at -half-maximum(FWHM) and binding energy of neutral acceptor bound excition were 11 meV and 24.4 meV, respectivity. By Haynes rule, an activation energy of impurity was 122 meV.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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