ZnO and phosphorus doped ZnO thin films (ZnO:P) are deposited by pulsed laser deposition grown on (001) $Al_{2}O_{3}$. ZnO/ZnO:P/ZnO/$Al_{2}O_{3}$ (multi-layer) structure was used for phosphorus doped ZnO fabrication. This multi-layer structure thin film was annealed at $400^{\circ}C$ for 40 min. The electron concentration of that was changed from $10^{19}$ to $10^{16}/cm^{-3}$ after annealing. ZnO thin films with encapsulated structure showed the enhanced structural and optical properties than phosphorus doped ZnO without encapsulated layer. In this study, encapsulated ZnO structure was suggested to enhance electrical, structural and optical properties of phosphorus doped ZnO thin film and it was identified that encapsulated structure could be used to fabricate high quality phosphorus doped ZnO thin film.
The microstructure and electrical properties of the nonlinear ZnO varistor with A1$_{2}$$O_{3}$ additions is investigated. The variation of nonlinear behavior with A1$_{2}$$O_{3}$ additions is indicated from J-E and C-V measurement to be a result of the change of the interface defects density $N_{t}$ at the grain boundaries and the donor concentration $N_{d}$ in the ZnO grains. The optimum composition which has the nonlinear coefficients of -57 was observed in the sample with 0.005wt% A1$_{2}$$O_{3}$ additions. The conduction mechanism at the pre-breakdown region is consistent with a Schottky thermal emission process obeying a relation given by $J^{\var}$exp[-(.psi.-.betha. $E^{1}$2/)kT] and the conduction process at the breakdown region follows a Fowler-Nordheim tunneling mechanism of the form $J^{\var}$exp(-.gamma./E).
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2016.02a
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pp.283.2-283.2
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2016
최근 ZnO는 무독성, 저가격, 수소 플라즈마에 대한 내구성 및 열적 안정성 등의 활발히 연구되고 있으며, III족 원소(Al, Ga, In) 불순물을 도핑하여 전기적 성질의 열적 불안정성을 해결하고 전기적 성질을 향상 시키고 또한 밴드갭 에너지가 3.3 eV 이상으로 증가하여 가시광선 영역에서 광투과율이 높은 투명도 전성 재료를 제공할 수 있다. 본 연구에서는 RF Magnetron Sputtering을 이용하여 내열성과 광학적 측면에서 우수한 성능을 가지는 PES 기판에 표면 에너지를 높이고 치밀한 구조의 박막을 증착하기 위해서 $O_2$ 플라즈마 처리를 하여 ZnO계 투명 전도막을 제작함으로써 투명전극에서 요구하는 $10^{-3}{\Omega}{\cdot}cm$ 이하의 낮은 비저항과 80% 이상의 광투과율을 가지는 방안에 대하여 연구하였다. PES 기판 위에 고밀도 $O_2$ 플라즈마를 이용하여 전 처리를 실시한 후 4인치의 Al-doped ZnO(ZnO 98 wt% : $Al_2O_3$ 2 wt%), AZO의 타겟을 이용하여 상온에서 RF Magnetron Sputtering 법으로 AZO 박막을 증착하였다. PES 기판상의 AZO 박막 두께가(100~400nm) 증가함에 따라 캐리어 농도와 홀 이동도가 점차 증가하는 경향을 보였다. 이는 박막 두께가 증가할수록 면저항과 비저항은 감소하며 결정립 크기가 커지고 결정입계에서 산란이 줄어들기 때문에 전기적 특성이 개선된 것으로 판단된다. 고밀도 $O_2$ 플라즈마 표면처리 시간이 증가함에 따라 플라스틱 기판의 결합에너지와 부착력이 증가하여 AZO 박막의 결정립 크기를 증가시키며, 접촉각은 감소하였다. 또한 급속열처리 온도가 증가함에 따라 전기적 특성과 광학적 특성이 향상됨을 확인할 수 있었다. 제작된 AZO 박막은 급속열처리 시간 10분에서 온도 $200^{\circ}C$일 때, 캐리어 농도 $2.32{\times}10^{21}cm^{-3}$, 홀 이동도 $4.3cm^{-2}/V$로 가장 높은 것을 확인할 수 있었고, 가장 낮은 비저항 $1.07{\times}10^{-3}{\Omega}{\cdot}cm$과 가시광 영역(300 nm ~ 1100 nm)에서의 AZO 박막의 광 투과율은 약 86%를 얻을 수 있었다.
PARK, JIHYE;BAEK, JEONG HUN;JO, GWANG HUI;RASHEED, HAROON UR;YI, KWANG BOK
Journal of Hydrogen and New Energy
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v.30
no.2
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pp.95-102
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2019
In order to investigate the effect of water treatment on activity of WGS catalyst, $Cu/ZnO/MgO/Al_2O_3$ (CZMA) catalysts were synthesized by co-precipitation method. The prepared catalysts were water-treated at two different temperature (250, $350^{\circ}C$). Synthesized catalysts were characterized by using BET, SEM, $N_2O$ chemisorption, XRD, $H_2-TPR$ and XPS analysis. The catalytic activity tests were carried out at a GHSV of $28,000h^{-1}$ and a temperature range of $180-320^{\circ}C$. The reduction temperature decreased with water treatment and CZMA_250 catalyst showed the lowest reduction temperature and retained a large amount of $Cu^+$. Water-treated catalysts showed increased reactivity compared to untreated catalyst and the CZMA_250 catalyst showed higher catalytic activity on WGS reaction.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2001.11a
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pp.525-528
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2001
ZnO:Al thin film can be used as a transparent conducting oxide(TCO) which has low electric resistivity and high optical transmittance for the front electrode of amorphous silicon solar cells and display devices. This study of electrical, crystallographic and optical properties of Al doped ZnO thin films prepared by Facing Targets Sputtering (FTS), where strong internal magnets were contained in target holders to confine the plasma between the targets, is described. Optimal transmittance and resistivity was obtained by controlling flow rate of O$_2$ gas and substrate temperature. When the of gas rate of 0.3 and substrate temperature 200$^{\circ}C$ , ZnO:Al thin film had strongly oriented c-axis and lower resistivity(<10$\^$-4/Ω-cm).
BAEK, JEONG HUN;JEONG, JEONG MIN;PARK, JI HYE;YI, KWANG BOK;RHEE, YOUNG WOO
Journal of Hydrogen and New Energy
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v.26
no.5
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pp.423-430
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2015
$Cu/ZnO/Al_2O_3$ catalysts for water gas shift (WGS) reaction were synthesized by co-precipitation method with the fixed molar ratio of Cu/Zn/Al precursors as 45/45/10. Copper and zinc precursor were added into sodium carbonate solution for precipitation and aged for 24h. During the aging period, aluminum precursor was added into the aging solution with different time gap from the precipitation starting point: 6h, 12h, and 18h. The resulting catalysts were characterized with SEM, XRD, BET surface measurement, $N_2O$ chemisorption, TPR, and $NH_3$-TPD analysis. The catalytic activity tests were carried out at a GHSV of $27,986h^{-1}$ and a temperature range of 200 to $400^{\circ}C$. The catalyst morphology and crystalline structures were not affected by aluminum precursor addition time. The Cu dispersion degree, surface area, and pore diameter depended on the aging time of Cu-Zn precipitate without the presence of $Al_2O_3$ precursor. Also, the interaction between the active substance and $Al_2O_3$ became more stronger as aging duration, with Al precursor presented in the solution, increased. Therefore, it was confirmed that aluminum precursor addition time affected the catalytic characteristics and their catalytic activities.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.8
no.3
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pp.472-476
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2007
In this study, we investigated methods for p-type ZnO deposition as well as stability enhancement of its properties. The film was prepared by co-depositing AlAs and ZnO in a RF magnetron sputtering system. Property variation was monitored with photoluminescence and Hall measurements by stressing the films at $250^{\circ}C$ for various duration upto 144 hours. Results indicated that co-deposition is a useful method for p-type ZnO preparation. In particular, pre-treatment in 30% $H_2O_2$ for 1min was observed to be effective in reducing the property variation taking place during the subsequent high temperature processes.
We present a novel and simple method to enable spatially selective $ZnAl_2O_4$ nanocrystal formation on the surface of $B_2O_3$-$Al_2O_3$-ZnO-CaO-$K_2O$ glass by employing localized laser heating. Optimized precipitation of glass-ceramics containing nanocrystals doped with $Eu^{3+}$ and $Yb^{3+}$ ions was performed by controlling $CO_2$ laser power and scan speed. Micro-x-ray diffraction and transmission electron microscopy revealed the mean size and morphology of nanocrystals, and energy dispersive x-ray spectroscopy showed the lateral distribution of elements in the imaged area. Laser power and scan speed controled annealing temperature for crystalization in the range of 1.4-1.8 W and 0.01-0.3 mm/s, and changed the size of nanocrystals and distribution of dopant ions. We also report more than 20 times enhanced downshift visible emission under ultraviolet excitation, and 3 times increased upconversion emission from $Eu^{3+}$ ions assisted by efficient sensitizer $Yb^{3+}$ ions in nanocrystals under 980 nm excitation. The confocal microscope revealed the depth profile of $Eu^{3+}$ ions by showing their emission intensity variation.
KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications
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v.2C
no.6
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pp.314-320
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2002
Three different ZnO nanomaterials (nanobelts, nanorods, and nanowires) were synthesized at 138$0^{\circ}C$ from ball-milled ZnO powders by a thermal evaporation procedure with an argon carrier gas without any catalysts. Transmission electron microscopy (TEM) revealed that the ZnO nanobelts are single crystalline with the growth direction perpendicular to the (010) lattice plane, and that the ZnO nanorods and nanowires are single crystalline with the growth directions perpendicular to the (001) and (110) lattice Planes, respectively. In cathodoluminescence (CL), the energy Position of the near band-edge (NBE) peak is 3.280 eV for the 100-, 250-, and 500-nm thick nanobelts, 3.262 eV for the 100- and 250-nm thick nanorods, and 3.237 eV for the 500-nm thick nanorods. The synthesized ZnO nanorods were coated conformally with aluminum oxide (Al$_2$O$_3$) material by atomic layer deposition (ALD). $Al_2$O$_3$films were then deposited on these ZnO nanorods by ALD at a substrate temperature of 300 $^{\circ}C$ using trimethylaluminum (TMA) and distilled water ($H_2O$). Transmission electron microscopy (TEM) images of the deposited ZnO nanorods revealed that 40nm-thick $Al_2$O$_3$ cylindrical shells surround the ZnO nanorods.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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