A rapid and selective co-extraction systems of copper and zinc-thiocyanate complex into various types of alkylamine for the simultaneous determination of two metal ions by atomic absorption spectrometry and ion chromatograph have been proposed. The quantitative extractions of Cu(II) and Zn(II) at 0.1 M-thiocyanate and 0.1 M-HCI were achieved with Aliquat 336-$CHCl_3$. The detection limits of Cu and Zn were 2 ppb and 0.9 ppb respectively.
Zinc phosphating for cold forming of steel was studied with emphasis on decreasing phosphating temperature. To lower phosphating temperature, some techniques, such as adding Cu ion into bath, using activator in the form of pre-dip, and aeration in bath, instead of using conventional accelerator, namely oxidizing agent, have been tried. It was revealed that phosphating, leading to coatings of Improved uniformity and fine crystal size, can be carried out using above techniques at lower temperature ($55^{\circ}C$) compared to conventional phosphating temperature ($80 ~ 90^{\circ}C$ ). Under present condition, it was seen that optimum concentrations of Cu ion in phosphating bath and activator in pre-dip are 0.015% (w/w) and 2.0 g/1, respectively. The coating weight was within the range of 15 ~ 20 g/$\m^2$. When lubricant was applied into phosphating coatings, the amount of lubricating component (total soap) was found to be 6 ~ 10 g/$\m^2$ and the lubricated panel revealed excellent lubricating properties.
Zinc phosphating for cold forming of steel was studied with emphasis on decreasing phosphating temperature. To lower phosphating temperature, some techniques, such as adding Cu ion into bath, using activator in the form of pre-dip, and aeration in bath, instead of using conventional accelerator, namely oxidizing agent, have been tried. It was revealed that phosphating, leading to coatings of improved uniformity and fine crystal size, can be carried out using above techniques at lower temperature (55$^{\circ}C$) compared to conventional phosphating temperature ($80∼90^{\circ}C$). Under present condition, it was seen that optimum concentrations of Cu ion in phosphating bath and activator in pre-dip are 0.015 % (w/w) and 2.0 g/1, respectively. The coating weight was within the range of $\15∼20 g/m^2$. When lubricant was applied into phosphating coatings, the amount of lubricating component (total soap) was found to be$ 6∼10 g/\m^2$ and the lubricated panel revealed excellent lubricating properties.
Gentamicin sulfate reacted with pyridoxal and zinc (II) ion in pyridine-methanol solution to yield highly fluorescent zinc(II) chelates of N-pyridoxylidene derivatives. This fluorescence reaction was sensitive and showed excitation maximum at 398nm, and emission maximum at 482nm. The effects of reagent concentration, reaction time and temperature, standing time and temperature were studied. And a new fluorophotometric method for the determination of gentamicin sulfate was developed. A good result was obtained and this method was applied to various preparations.
Allylations of N-benzyl and N-methyl cyclic imides were accomplished successfully under mild Barbier type conditions using zinc metal, allyl bromide and catalytic amount of $PbBr_2$. Subsequent coupling reactions with some carbon nucleophiles afforded 1,2- and 1,4-addition products in moderate to high yields.
Sahoo, N.G.;Kumar, E.Shiva;Das, C.K.;Panda, A.B.;Pramanik, P.
Macromolecular Research
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제11권6호
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pp.506-510
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2003
A Zn ion-coated nanosilica filler has been developed and tested, in chlorosulfonated polyethylene (CSPE) and polychloroprene (CR), as a vulcanizing activator, cum was reinforcing filler. In this study, ZnO was replaced by the Zn ion-coated nanosilica filler with an aim of studying the dual role of this nanofiller in CSPE and CR. In the case of CSPE vulcanizates, the presence of MgO deteriorated the state and rate of cure when the Zn ion-coated nanosilica filler was used, but in the case of CR it improved the state of cure and enhanced the modulus and tensile strength. The Zn ion-coated filler proved to be a better reinforcing-cum-curing agent than was externally added ZnO and NA-22 also proved to be a better curative in the presence of the Zn ion-coated nanosilica filler for both CSPE and CR.
Indium gallium zinc oxide (IGZO)는 차세대 디스플레이 평판 패널에 사용되는 반도체 화합물의 일종으로 최근 주목받고 있는 물질의 하나이다. 기존의 IGZO를 사용하여 박막을 증착한 뒤 표면 처리를 통해 박막의 특성 변화에 대한 연구들이 진행되어 왔으며, 기존의 연구들은 plasma 환경에 노출을 시켜 간접적인 plasma treatment를 통해 박막의 특성을 향상시켜 왔다. 본 연구에서는 기존의 plasma treatment에서 발견된 방식인 ion beam treatment를 통해 플라즈마를 직접적으로 표면에 조사하여 박막의 특성 변화를 알아보았다. 한국표준과학연구원에서 자체 제작한 chamber를 이용하여 RF sputter로 Si wafer 위에 IGZO 박막을 증착하고 수소 ion beam treatment를 한 뒤, SEM과 XPS를 사용하여 박막 표면의 물성 변화를 분석하였다. 실험에 사용된 chamber에는 sputter gun과 ion beam이 함께 장착되어 있으며, scroll pump와 TMP를 사용하여 pressure를 유지하였다. 실험 시 base pressure는 $1.4{\times}10^{-6}Torr$였다. RF power 150 W. ion beam power 2,000 V에서 실험을 진행하였다.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제11권3호
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pp.116-119
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2010
The etching characteristics of zinc oxide (ZnO) were investigated, including the etch rate and the selectivity of ZnO in a $Cl_2/BCl_3$/Ar plasma. It was found that the ZnO etch rate, the RF power, and the gas pressure showed non-monotonic behaviors with an increasing Cl2 fraction in the $Cl_2/BCl_3$/Ar plasma, a gas mixture of $Cl_2$(3 sccm)/$BCl_3$(16 sccm)/Ar (4 sccm) resulted in a maximum ZnO etch rate of 53 nm/min and a maximum etch selectivity of 0.89 for ZnO/$SiO_2$. We used atomic force microscopy to determine the roughness of the surface. Based on these data, the ion-assisted chemical reaction was proposed as the main etch mechanism for the plasmas. Due to the relatively low volatility of the by-products formed during etching with $Cl_2/BCl_3$/Ar plasma, ion bombardment and physical sputtering were required to obtain the high ZnO etch rate. The chemical states of the etched surfaces were investigated using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). This data suggested that the ZnO etch mechanism was due to ion enhanced chemical etching.
Zn-ion supercapacitors (ZICs) show high energy densities with long cycling life for use in electronic devices. Porous Zn electrodes as anodes for ZICs are fabricated by chemical etching process using optimized conditions. The structures, morphologies, chemical bonding states, porous structure, and electrochemical behavior are examined. The optimized porous Zn electrode shows a root mean square of roughness of 173 nm and high surface area of $153{\mu}m^2$. As a result, ZIC using the optimized porous Zn electrode presents excellent electrochemical performance with high specific capacitance of $399F\;g^{-1}$ at current density of $0.5A\;g^{-1}$, high-rate performance ($79F\;g^{-1}$ at a current density of $10.0A\;g^{-1}$), and outstanding cycling stability (99 % after 1,500 cycles). The development of energy storage performance using synergistic effects of high roughness and high surface area is due to increased electroactive sites by surface functionalization of Zn electrode. Thus, our strategy will lead to a rational design and contribute to next-generation supercapacitors in the near future.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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