• 제목/요약/키워드: Xe

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I-123 핵종생산장치 시스템 설계 (Design of I-123 Nuclide production system)

  • 정현우;유재준;김병일;전권수;이지섭;박현;최준용;오세영;방상권;이동훈
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국정보통신학회 2014년도 춘계학술대회
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    • pp.496-499
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    • 2014
  • 30MeV Cyclotron의 양성자가 Xe-124 기체 표적 시스템에 조사될 때 가능한 핵반응을 적용하여 Xe Gas를 GPM으로부터 Target으로 까지 전송하는 시스템을 설계하고 제작하였다. 시스템 설계는 크게 4파트로 나누어 설계하였다. 각각의 하드웨어 부분은 솔리드웍스를 이용하여 설계하였다. Target은 헬륨으로 Havor Foil을 쿨링시키게 설계했고 물은 타겟에 들어간 Xe Gas를 조사 시 높아지는 온도를 식혀주는 역할을 하게 제작하였고 온도센서와 압력센서를 장착하여 눈으로 확인할 수 있게 제작하였다. GPM(Gas Process Manifold)은 Xe Gas를 운반하도록 준비하는 부분이며 Xe Gas를 담고있는 부분과 불순물을 제거하는 부분이 있다. HCS(Helium Circulation System)은 헬륨을 이용하여 각파트를 클리닝 하고 냉각시켜 준다. 이러한 각 부분들을 PLC로 제어하게 하여 유지보수시의 편리성을 추구하였고 PC Vue를 사용하여 SIEMENS PLC를 더욱더 안전하게 인터페이스하게 하였다.

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무전극 램프의 방전가스 연구 (A Study on discharge gas of Fluorescent Induction Lamp)

  • 김근;전병훈
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2009년도 제40회 하계학술대회
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    • pp.1481_1482
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    • 2009
  • Pure Xe, Kr and Ne atoms and Mixures of Xe-Ne used in fluorescent induction lamps(FILs). However standard regulation of FILs is not made up until now. Therefore, the electron transport coefficients, the electron drift velocity W, the longitudinal diffusion coefficient NDL and the ionization coefficient $\alpha$/N in pure Xe, Kr, Ne gases and Xe-Ne mixtures(1:9, 5:5, 7:3) were calculated over the wide E/N range from 0.01 to 500 Td at 1 Torr by two-term approximation of the Boltzman equation.

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AC-PDP에서 Ne-Xe의 2원 혼합기체와 He-Ne-Xe의 3원 혼합기체의 Xe 혼합비와 가스 압력에 따른 VUV 발광 특성 (Vacuum ultraviolet emission characteristics of binary and ternary gas mixtures with xenon concentration and gas pressure in AC-PDPs)

  • 유나름;정규봉;이준호;이수범;한용규;정세훈;이혜정;손창길;임정은;오필용;문민욱;정진만;고병덕;조광섭;엄환섭;최은하
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2005년도 춘계학술대회 논문집 디스플레이 광소자 분야
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    • pp.142-145
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    • 2005
  • AC-PDP에서 발광 휘도와 발광 효율의 개선은 매우 중요한 과제중의 하나이다. 높은 발광 휘도와 발광 효율을 위해선 VUV의 높은 발광 효율이 요구되어진다. 이 실험에서는 AC-PDP에서 Ne-Xe의 2원 혼합기체와 He-Ne-Xe의 3원 혼합기체의 VUV 발광 세기를 측정하였다. 기체 압력은 200 Torr, 300 Torr, 400 Torr, 500 Torr로 유지하였고, Xe 혼합비는 1%, 2%, 4%, 7%, 10%, 15%를 사용하였다. 진공자외선 발광 세기는 He-Ne-Xe의 3원 혼합기체가 Ne-Xe의 2원 혼합기체보다 발광 세기가 훨씬 높다는 것을 알 수 있었다. 그리고 Xe 함량이 증가함에 따라 공명선인 147 nm의 발광 세기는 Xe 혼합비가 약 10%까지는 증가하다가 10% 이후에는 포화되고, 반면 분자선인 173 nm은 Xe 함량과 가스 압력이 증가함에 따라 발광 세기가 증가하였다.

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Xe 절대분압에서 가스 압력과 전극 간격에 따른 AC PDP의 방전 특성 고찰 (A study on the discharge characteristics by gas pressure and discharge gap in Xe absolute partial pressure of AC PDP)

  • 김동환;조현민;하창승;옥정우;조성용;김동현;이해준;이호준;박정후
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2009년도 제40회 하계학술대회
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    • pp.1360_1361
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    • 2009
  • 일반적으로 AC PDP는 Xe+Ne이 동작가스로 사용된다. 본 연구에서는 Xe 분압을 50, 60, 80, 100 Torr로 고정한 상태에서 전체 가스압력을 변화시키고 Short 방전 갭으로 $80{\mu}m$를, Long 방전 갭으로 $180{\mu}m$ 적용함으로써 나타나는 AC-PDP의 방전특성을 분석하였다. 여기에 Xe 분압을 Short 방전 갭에서는 80, 100 Torr로, Long 방전 갭에서는 50, 60, 80 Torr로 각각 고정하고, Ne 압력을 변화시킴에 따라 나타나는 방전개시전압, 소비전력, 휘도, 발광효율을 측정하여 높은 휘도와 효율을 가지면서 방전개시전압을 최대한 낮출 수 있는 적정 조합을 연구하였다. 실험결과, Short 방전 갭 패널은 소비전력이 26% 낮았고, Long 방전 갭 패널은 휘도가 45% 높았다. 휘도, 소비전력 등 여러 가지 측면을 고려하였을 때, 방전개시전압이 가장 낮은 Short 방전 갭, Xe 절대분압 80 Torr, Xe 35%(Xe+Ne=286 Torr)에서의 방전 특성이 가장 우수하였다.

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The Influence of Xe Content on Wall Voltage Transfer Behavior

  • Baik, Bong-Joo;Choi, Kwang-Yeol;Min, Wong-Kee;Hong, Mun-Heon;Lee, Dong-Woo;Min, Byung-Kuk;Kim, Weo-Dong
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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    • pp.1555-1558
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    • 2008
  • Various approaches were undertaken by major PDP makers in order to improve the luminous efficacy of the plasma discharge cells. There have been many reports that state that using a high Xe content PDP is one of the most promising key technologies available to improve the luminous efficacy. In the case of the higher Xe content panel, the higher address and sustain voltage were needed to drive the panel under the same reset condition. In this study, a variety of Xe content panels were investigated in order to examine wall voltage transfer behaviors. The transferred wall voltage status after addressing discharge at the same driving condition was analyzed by comparing Vt close curve of high and low Xe content panels. Through this analysis of Vt close curve difference, the driving waveform of a high Xe panel was quantitatively adjusted Under the same address voltage condition, results showed that the amount of the transferred wall voltage and Vt close curve after addressing discharge was matched for the first sustain discharge. Taking these results into consideration, we conclude that the driving waveform for different Xe content panels could be designed for the desired addressing discharge condition and the wall voltage state of the cell could be quantitatively controlled and measured through these approaches.

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횡방향 전자빔여기 XeCl 엑시머 레이저의 출력특성 (Output Ccharacteristics of XeCl Excimer Laser Excited by Transeverse-Electron-Beam)

  • 류한용;이주희;김용평
    • 한국광학회지
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    • 제5권3호
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    • pp.386-393
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    • 1994
  • XeCl 엑시머 레이저를 횡방향의 전자빔으로 여기하여 이의 출력특성을 조사하였다. 전자빔의 출력은 880kV, 21kA(70ns, FWHM)이며 전자빔의 전류밀도는 다이오드(A-K) 간격과 공진기 외부에 설치한 펄스자계코일(4.7kG)로 제어하였다. 레이저 매질에 주입되는 전자빔의 축적에너지는 35J(4기압)이다. 축적에너지는 Radcolor film의 감광면적과 압력상승법에 의해 측정한 가스매질의 상승압력으로부터 환산된 수치이며, 이 때의 여기체적은 $320cm^{3}$이었다. 레이저 가스의 혼합비율은 HCl/Xe/Ar=0.2/6.3/93.5%이고 총압력이 3기압일 때, 최대효율 1.7%를 얻었다. 이 때의 출력에너지, 특성에너지는 각각 0.52J, 1.7J/l이었다. 실험결과의 분석을 위해 컴퓨터 시뮬레이션코드를 완성하였다. 시뮬레이션 결과는 실험결과와 잘 부합하고 있음을 확인하였고 그 결과를 이용하여 XeCl의 형성채널, 완화채널, 308nm의 흡수채널을 이론적으로 설명하였다.

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KOMPSAT-5 위성 영상을 활용한 라오스 세피안-세남노이 댐 붕괴에 따른 수계변화 탐지 (Detection of Change in Water System Due to Collapse of Laos Xe pian-Xe namnoy Dam Using KOMPSAT-5 Satellites)

  • 김윤지;이명진;이선민
    • 대한원격탐사학회지
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    • 제35권6_4호
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    • pp.1417-1424
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    • 2019
  • 최근 전지구적으로 재난재해가 빈번하게 발생하고 있으며, 재난재해는 규모가 크게 나타나고, 접근하기 어려운 특징이 있어 위성영상을 활용한 재난재해 연구는 꾸준히 진행되어 왔다. 2018년 라오스 세피안-세남노이 댐 붕괴 역시 인명 및 경제적으로 많은 피해를 발생시켰다. 본 연구에서는 세피안-세남노이 댐 붕괴로 인해 변화된 수계를 탐지하고, 이를 통해 향후 침수가 예상되는 지역을 도출해보고자 하였다. 이를 위하여, 정량적으로 수계변화를 탐지하고자 댐 붕괴 전후의 KOMPSAT-5 amplitude영상 각각으로부터 수계를 추출하여 비교해본 결과, 댐 붕괴 후 10배 이상으로 수계면적이 증가하였음을 확인하였다. 또한, 새롭게 생성된 수계는 고도가 낮은 지역으로 두껍게 생성되었음을 확인할 수 있었다. 이러한 결과는 향후, 기존 운영되는 댐의 이상징후 및 이슈 발생에 대한 사전 대응을 체계화하는 데 활용이 가능할 것이라고 생각된다.

XeCl 엑시머 레이저에서의 Pulse Stretching 효과 (Pulse Stretching Effect in XeCl Excimer Laser)

  • 주홍;김동환;이수만;전영민;최상삼;박대윤
    • 한국광학회지
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    • 제4권4호
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    • pp.447-451
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    • 1993
  • 용량이행형 방전회로를 이용하여 장펄스 XeCl 엑시머 레이저를 발진 시켰으며, 펄스폭은 150ns(FWHM)이었다. 펄스폭에 영향을 미치는 가스분압 및 capacitance의 비에 따른 펄스폭의 변화를 관측 하였으며, 이로부터 단펄스에서 장펄스로의 발진을 쉽게 얻을 수 있음을 알았다. 일정 가tm 혼합 비율([Xe]/[HCl]=15)의 상태에서 HCl과 Xe가스의 분압이 감소함에 따라 광 펄스폭의 최대 변화량은 125ns이었고, 일정 압력 하에서의 capacitance비(Cm/Cp) 변화에 늘어나는 광 펄스폭의 변화량은 60ns이었다.

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이불화제논 기상 식각에 의한 실리콘 기판의 표면 텍스쳐링 특성 (Characterizations of Surface Textured Silicon Substrated by XeF2 Etching System)

  • 김선훈;기현철;김두근;나용범;김남호;김회종
    • 전기학회논문지
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    • 제59권4호
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    • pp.749-753
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    • 2010
  • We investigated the haze and the surface roughness of textured Si substrates etched by $XeF_2$ etching system with the etching parameters of $XeF_2$ pressure, etching time, and etching cycle. Here the haze was obtained as a function of wavelength from the measured reflectance. The haze of textured Si substrates was strongly affected by the etching parameter of etching cycle. The surface roughness of textured Si substrates was calculated with the haze and the scalar scattering theory at the wavelength of 800 nm. Then, the surface roughness was compared with that measured by atomic force microscope. The surce roughness obtained by two methods was changed with the similar tendency n terms of $XeF_2$ etching conditions.

AC PDP의 전기광학적 특성과 동작 Gas $Xe_x+Ne_y+He_{1-y)$의 상관관계에 관한 연구 (A Study on the Relationships Between the Electrooptical Characteristics and Working Gas Xe+Ne+He)

  • 박정후;유수복;이해준;이호준;김재성;이돈규
    • 전기학회논문지
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    • 제56권9호
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    • pp.1619-1625
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    • 2007
  • The gas mixture ratio of PDP discharges plays a very important role in the discharge characteristics of a plasma display panel. The increase of Xe contents results in the increases of luminance and luminous efficiency while it also results in the increase of the breakdown voltage. The addition of He gas increases the brightness and the luminous efficiency. Especially, the luminance and the luminous efficiency have a maximum value when the partial pressure of He is about 10% of the total pressure for a standard plasma display panel with Xe fraction of $10\sim30%$.