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RF Magnetron 스퍼터링법으로 성장시킨 Ba($Zr_{0.2}Ti_{0.8}$)$O_3$ 박막의 특성 (Preparation and Properties of Ba($Zr_{0.2}Ti_{0.8}$)$O_3$ Thin Films Grown by RF Magnetron Sputtering Method)

  • 최원석;장범식;김진철;박태석;이준신;홍병유
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제14권7호
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    • pp.567-571
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    • 2001
  • We investigated the structural and electrical properties of Ba(Zr$_{x}$Ti$_{1-x}$ )O$_3$(BZT) thin films with a mole fraction of x=0.2 and a thickness of 150 nm. BZT films were prepared on Pt/SiO$_2$/Si substrate with the various substrate temperature by a RF magnetron sputtering system. When the substrate temperature was above 50$0^{\circ}C$, we obtained multi-crystalline BZT films oriented to (110), (111), and (200) directions. As the substrate temperature increases, the films are crystallized and their dielectric constants become high. C-V characteristic curve of the film deposited at high temperature is more sensitive than that of the film deposited at low temperature. The parameters of the BZT film are as follows; the dielectric constants(dissipation factors) at 1 MHz are 95(0.021), 140(0.024), and 240(0.033) deposited at 400, 500, $600^{\circ}C$, respectively; the leakage currents at 666.7 kV/cm are 5.73, 23.5, and 72.8x10$^{-8}$ A/$\textrm{cm}^2$ fo the films deposited at 400, 500, and 600 $^{\circ}C$, respectively; the leakage currents at 666.7kV/cm are 5.73, 23.5, and 72.8x10$^{-8}$ A/$\textrm{cm}^2$ for the films deposited at 400, 500, $600^{\circ}C$, respectively. The BZT film deposited at 40$0^{\circ}C$ shows stable electrical properties, but dielectric constant for application is a little small.ll.

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사파이어 웨이퍼 연마공정에서의 표면처리효과에 대한 X-선 회절분석 (X-ray diffraction analysis on sapphire wafers with surface treatments in chemical-mechanical polishing process)

  • 김근주;고재천
    • 한국결정성장학회지
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    • 제11권5호
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    • pp.218-223
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    • 2001
  • 수평 Bridgman 방법으로 성장한 사파이어 인고트를 절단 연마한 후, 사파이어 결정기판의 표면을 우레탄 천 위에서 실리카 졸을 사용하여 폴리싱하였다. 표면의 결정성을 X-선 회절을 통하여 조사하였으며, 2중 결정회절에 의한 반치폭은 200~400 arcsec을 가지며, 결정 인고트의 절편화 또는 양면 연삭 연마에 따른 잔류응력에 의한 표면에서의 기계적인 스트레스에 의해 결정성이 손상되어진다. 화학-기계적인 폴리싱공정을 수행한 수에 표면처리로 $1,200^{\circ}C$로 4시간 열처리 및 산처리를 연속적으로 수행할 경우 결정성이 반치폭 8.3 arcsec까지 줄어들어 향상됨을 확인하였다.

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InGaAsP/InP이종접합구조의 격자부정합이 Photoluinescence효율에 미치는 영향 (Effects of Lattice Mismatch on Photoluminescence Efficiency of InGaAsP/InP Heterostructures)

  • 이종원
    • 한국재료학회지
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    • 제4권5호
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    • pp.516-523
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    • 1994
  • 이논문에서는 metal organic chemical vapor deposition(MOCVD)에 의해서 성장된 InGaAsP/InP이종접합구조의 격자부정합이 Photoluminescence(PL)효율에 미치는 영향을 연구하였다. 격자부정합은 (400)과 {511} x-ray reflection을 통해 측정하였고, 부정합 전위의 유무는 x-ray to-pography와 PL imaging을 통해 확인했다. PL강도 측정결과, 상대적으로 높은 PL강도는 탄성적으로 스트레인을 받은 시료에, 낮은 PL강도는 전위로 인해 비탄성적으로 변형된 시료에서 얻어졌다. 성장온도에서 격자정합된 시료의 PL효율이 실온에서 가장 높은 것을 알 수 있었다. PL강도와 X-ray반치폭과 관계에서, 시료의 광전자 특성이 구조적 특성과 밀접하게 연관됨을 알 수 있었다.

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SiNx와 금속막을 이용한 플렉시블 OLED 봉지 방법 (Encapsulation Method of Flexible OLED Using SiNx and Metal Film)

  • 이효선;주성후
    • 한국표면공학회지
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    • 제47권3호
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    • pp.99-103
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    • 2014
  • The encapsulation method of flexible organic light emitting devices (OLEDs) was investigated for the structure of ITO / 2-TNATA / NPB / $Alq_3$ : Rubrene (1 vol.%) / $Alq_3$ / LiF / Al / $Alq_3$ / LiF / Al (OLED #1), on which $SiN_x$ thin film was deposited and metal film was attached to protect the damage of OLED from oxygen and moisture. The $SiN_x$ thin film was deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method using $SiH_4$ of 20 sccm and $N_2$ of 15~35 sccm as reactor gases. The optimum $SiN_x$ deposition condition was found to be 20 sccm $SiH_4$ and 20 sccm $N_2$ from the Ca test of the fabricated $SiN_x$ thin film. The life time of OLED #1, OLED #1 / $SiN_x$ 200 nm, OLED #1 / $SiN_x$ 400 nm and OLED #1 / $SiN_x$ 400 nm / metal film was 7, 12, 25, and 45 hours, respectively. In conclusion, it has been shown that the lifetime of OLEDs can be improved more than 6 times by $SiN_x$ film and a metal film encapsulation.

실차시험을 이용한 팬터그래프의 소음기여도 분석 (Noise Contribution Analysis of Pantograph Using Real Train Experiment)

  • 오혁근;노희민;김준곤;박춘수
    • 한국철도학회논문집
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    • 제19권3호
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    • pp.271-279
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    • 2016
  • 팬터그래프의 공력소음은 열차가 고속으로 주행할 때 발생하는 소음의 주요한 원인이다. 본 연구에서는 팬터그래프에 의한 공력소음 기여도를 분석하기 위하여 차세대고속열차(HEMU-430X)를 이용하여 시험을 수행하였다. 실제차량에서의 팬터그래프에 의한 소음의 주파수 특성을 분석하기 위하여, 350km/h와 400km/h 주행 시 전체차량의 음장가시화를 144채널 마이크로폰 어레이를 이용하여 수행하였다. 음장가시화 분석결과 팬터그래프의 소음은 250~400Hz 대역의 저주파 소음이 주로 기여함을 확인하였다. 또한 팬터그래프의 소음 기여도를 분석하기 위하여 팬터그래프의 올림 및 내림 시 소음도 차이를 단일 마이크로폰 시험을 통하여 비교분석하였다. 단일 마이크로폰 시험을 통한 팬터그래프 소음의 주요 주파수 특성은 315~400Hz와 1000~1250Hz 대역임을 확인 하였으며 이는 기존의 연구 결과 및 음장가시화 결과와 잘 일치하였다.

Al-Ta 합금박막의 구조적 인자가 전기적 특성 및 발열 특성에 미치는 영향 (Influences of Structural Features on Electrical Properties and Heating Characteristics of Al-Ta Alloy Thin Films)

  • 송대권;이종원;박인용;김규진
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제11권4호
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    • pp.23-27
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    • 2004
  • 본 연구에서는 RF-Magnetron Sputtering 장치를 이용하여 $Al_xTa_{1-x} (x=0.0{\~}1.0)$ 합금박막을 성장하였고, XRD, AFM, 4탐침법 등을 사용하여 시료의 결정질과 표면형상, 그리고 전기적 특성을 분석하였다. Al 조성을 변화시켜서 Al-Ta 합금박막을 증착하고, 그에 따라 얻어진 결과를 토대로 하여 박막 두께별 ,박막의 폭 별로 합금박막을 성장하였다. 또한 heat controller를 사용하여 시료의 발열특성을 분석하였다. 본 연구의 결과 Al-Ta 합금박막은 Al 조성 $x=6.63at\%$에서 가장 높은 전기저항이 나타났고, 박막두께가 얇아지거나 패터닝된 박막의 폭이 좁을수록 더욱 높은 전기저항이 나타났다. 발열온도는 전기저항의 변화추이와 동일한 양상을 보였고, Al 조성 $x=6.63\%$, 박막두께 d=500 nm, 박막폭 w=1.5 mm에서 가장 높은 발열온도 ($400^{\circ}C$)와 출력 ($12.6W/cm^2$)을 나타냈다.

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The Recovery Phenomena of the Cold Worked Pure Zirconium

  • Jung, Dae-Young;Yoon, Jong-Kyu
    • Nuclear Engineering and Technology
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    • 제7권1호
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    • pp.15-23
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    • 1975
  • 냉간 압축가공한 순수 지르코늄의 회복현상을 X-ray line broadening과 미소경도 (microhardness)를 측정하여 연구하였다. Isochronal 소둔한 결과에서 경도나 X-ray line breadth가 30$0^{\circ}C$이하에서는 감소하지 않는다는 것을 알 수 있었다. 같은 크기의 냉간가공도에서 X-ray line breadth의 회복속도는 경도의 회복속도와 다르게 나타났으며 가공도에 상관없이 X-ray line breadth의 회복에 필요한 활성화 에너지는 경도의 회복에 필요한 활성화 에너지보다 작은 것을 알 수 있었다. 8%, 19%, 28% 냉간가공한 지르코늄에서의 X-ray line breadth의 회복에 필요한 활성화 에너지는 각각 64,800cal/gram atom, 56,400 cal/gram atom, 48,500 cal/gram atom이였으며 경도의 회복에 필요한 활성화 에너지는 72,800 cal/gram atom, 64,300 cal/gram atom, 58,600 cal/gram atom인 것으로 나타났다.

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선량 및 선량률 변화에 따른 말초혈액 임파구의 염색체 이상의 빈도 (The Frequency of Chromosomal Aberrations of Peripheral Lymphocytes according to Radiation Dose and Dose Rate)

  • 정태식;백흠만;신병철;문창우;김미향;이용환;염하용
    • Radiation Oncology Journal
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    • 제18권2호
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    • pp.138-149
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    • 2000
  • 목적 : X-선 조사 후 이동원 염색체와 환형 염색체의 빈도가 피폭 선량과 비례하는지를 확인하고, X-선 조사시 선량률의 변화가 생물학적 선량 측정에 영향을 주는지를 찾아서 보정인자로 작용하는지를 알아보았다. 대상 및 방법 : 28세의 건강한 성인남자에서 2회에 걸쳐 각각 16 ml와 18 ml의 전혈을 정맥으로부터 무균채취하여 이미 해파린(heprin) 처리되어 있는 10 ml의 vacutainer (삼화공사, 한국)에 2 ml씩 분주하였다. 분주한 혈액 시료를 1개는 정상대조 군으로 16개는 실험 군으로 총 17개를 실험에 사용하였으며, 방사선 조사는 조사야 10${\times}$10 cm$^{2}$로 분당 240 cGy 의 일정한 선량률로 50, 100, 200, 300, 400, 600, 800 cGy의 선량을 각 1회 조사하였다. 나머지 9개의 실험 군은 동일한 선량(400 cGy)에서 선량률 변화만 주어 20, 40, 60, 80, 100, 160, 240, 320, 400 cGy/min의 각 선량률로 1회 조사하였다. 관찰 시 염색체의 개수가 46${\times}$2개 되는지 여부를 확인하고 또한 염색체의 밀도나 염색체 형태가 염색체 이상 빈도 확인에 적합한지 확인한 후 해당되는 경우에 한해서만 계측하였다. 각 표본에서 최소 50개의 림프구를 관찰하려고 하였다. 통계처리는 SPSS를 이용하여 평균값 비교와 회귀곡선의 기울기 값을 구하였다. 결과 : 방사선 조사된 림프구의 관찰된 총 수에 대한 염색체 이상을 가진 림프구의 비율(yield)은 선량이 50, 100, 200, 300, 400, 600, 800 cGy일 때 각각 0, 9, 20, 27, 55, 88, 100%이었다. 선량변화에 따른 염색체 이상(이동원 및 환형 염색체)의 평균빈도는 50, 100, 200, 300, 400, 500, 800 cGy일 때 각각 0.000, 0.093, 0.200, 0.354, 0.612, 2.040, 2.846이었다. 관찰된 총림프구에서 이동원 염색체와 환형 염색체의 빈도(Ydr)는 선량이 50, 100, 200, 300, 400, 600, m cGy일 때 각각 0.000, 0.093, 0.200, 0.364, 0.613, 2.040, 2.846이었다. 방사선량과 Ydr의 관계는 Ydr=$\alpha$D+$\beta$D$^{2}$에 의한 Liner-quadratic model을 따를 때 Ydr=0.188${\times}$10$^{-2}$ D/Gy+0.422${\times}$10$^{-4}$/Gy$^{2}$${\times}$D$^{2}$로 나타났다. 이동원 염색체와 환형 염색체 이상을 가지는 림프구에서 이동원 염색체와 환형 염색체의 빈도(Qdr)는 50, 100, 200, 300, 400, 600, 800의 선량일 때 각각 0.000, 1.000, 1.000, 1.333, 1.118, 2.318, 2.846 이었으며 이는 앞의 Ydr값으로부터 구한 값과 거의 일치하였다. 선량율을 각각 20, 40, 60, 80, 100, 160, 240, 320, 400 cGy/min으로 달리하여 총 선량을 400 cGy를 각각 조사했을 때 임파구에서 나타난 염색체이상(이동원, 환형, 무동원체단편 염색체)의 빈도의 차는 없었다. 결론 : 방사선의 급성 피폭에 의한 손상은 선량률에 의한 영향은 미미하며 대부분 피폭된 총 선량에 의해 좌우된다. 염색체 이상을 이용한 생물학적 선량측정방법은 피폭 선량이 증가함에 따라 비교적 규칙적으로 증가하므로 피폭 선량 측정을 위한 유용한 방법이라고 생각한다. 그러나 일회 피폭인 급성 피폭 시는 선량률 변화가 보정인자로써 작용하지는 않았다.

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$Y_{1-X}G_X$, $Y_{1-X}P_X$ 칼라필터를 통한 시감도 최적화 연구 (Research on Optimizing Luminosity Factor Through Color Filter $Y_{1-X}G_X$, $Y_{1-X}P_X$)

  • 김용근;박현주
    • 한국안광학회지
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    • 제14권1호
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    • pp.47-56
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    • 2009
  • 목적: 시감도가 최적화된 투과필터의 칼라위치를 추정한다. 방법: 시감도 최적화를 위한 칼라를 Y(Yellow), G(green)과 P(Red)를 이용하여 CR-39에 담그기 법으로 $Y_{1-x}G_{x}$, $Y_{1-x}P_{x}$를 제작하였다. 투과광에서 최종 비시감도의 추정방법 모델은 파장에 따른 눈의 시감도와 렌즈의 투과율 세기의 곱($P_f$ ($P_f({\lambda}=T({\lambda}){\cdot}P({\lambda}).)$.)으로 나타낸다. 400~700 nm 영역에서 투과광의 평가는 비시감도 곡선의 면적, Peak, 폭, 최고높이 값으로 평가한다. 결과: $Y_{1-x}G_{x}$에서 x=0.04, x=0.08, x=0.10, x=0.12, x=0.14, x=0.5에서 ${\beta}=S_1/S_0{\cdot}100$ 값은 각각 76.1, 77.9, 80.7, 81.6, 80.2, 18.6을 갖는다. $Y_{1-x}P_{x}$에서 x=1.00, x=0.2, x=0.6, x=0.8에서 ${\beta}=S_1/S_0{\cdot}100$ 값은 각각 74.3, 74.0, 70.5, 33.0을 갖는다. 투과광의 면적과 최고높이를 평가한 결과는 $Y_{1-x}P_{x}$보다 $Y_{1-x}G_{x}$가 더 큰 값을 갖게 되어 비시감도 최적화에 접근하였다. 결론: 비시감도 최적화는 $Y_{1-x}G_{x}$에서 X=0.12~0.14의 값을 갖는다.

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방사선 조사선량에 따른 생쥐 난소의 TUNEL 염색반응에 관한 형태학적 연구 (Morphological Study on the TUNEL Reaction of Mouse Ovary by X-ray Irradiation)

  • 윤철호;장병수
    • Applied Microscopy
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    • 제37권2호
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    • pp.135-142
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    • 2007
  • 본 연구는 6 MeV LINAC에서 발생한 X-선을 생쥐 생체에 조사한 후 난소에서 난포의 형태적 변화 양상과 난포의 세포자연사가 일어나는 과정을 TUNEL 염색방법을 이용하여 광학현미경으로 관찰하였다. 정상난포와 퇴화난포 및 방사선이 조사된 난포에서 세포예정사가 발생하는 것을 확인하기 위해서 TUNEL 염색을 실시한 결과, 정상난소의 퇴화난포에서 양성반응을 보이는 과립층세포들은 갈색을 띠고 있었고, 핵은 응축되어 나타났다. 그러나, 정상난포에서는 양성반응이 나타나지 않았다. X-선을 조사한 난소의 난포는 TUNEL 염색에 강한 양성반응이 나타났고, 600 cGy의 X-선 조사에서 난모세포는 이미 세포예정사가 진행되어 파괴되었음을 확인할 수 있었다. 그리고 난포막을 형성하고 있는 난막세포의 핵들도 양성반응으로 나타나, 갈색으로 염색이 되었으며, 수질의 결합조직세포들의 핵도 갈색으로 염색되어 관찰되었다. 또한, 대부분의 세포들은 세포예정사가 진행되어 있으며, apoptotic body들이 난포 내에 산재되어 있었다. 이 시기의 난소조직의 전반적인 염색도는 저선량의 X-선 조사에서보다 더 현저히 강한 염색성이 나타났다.