Kim, Bohkyung;Lee, Sang Gil;Park, Young-Ki;Ku, Chai Siah;Pham, Tho X.;Wegner, Casey J.;Yang, Yue;Koo, Sung I.;Chun, Ock K.;Lee, Ji-Young
Nutrition Research and Practice
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제10권5호
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pp.494-500
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2016
BACKGROUND/OBJECTIVES: Evidence indicates that berry anthocyanins are anti-atherogenic, antioxidant, and anti-inflammatory. However, berries differ vastly in their anthocyanin composition and thus potentially in their biological and metabolic effects. The present study compared hypolipidemic, antioxidant, and anti-inflammatory properties of blueberry (BB), blackberry (BK), and blackcurrant (BC) in a diet-induced obesity (DIO) mouse model. MATERIALS/METHODS: Male C57BL/6J mice were fed a high fat (HF; 35% fat, w/w) control diet or a HF diet supplemented with freeze-dried 5% BB, 6.3% BK or 5.7% BC for 12 weeks (10 mice/group) to achieve the same total anthocyanin content in each diet. Plasma lipids, antioxidant status and pro-inflammatory cytokines were measured. The expression of genes involved in antioxidant defense, inflammation, and lipid metabolism was determined in the liver, epididymal adipose tissue, proximal intestine, and skeletal muscle. Histological analysis was performed to identify crown-like structure (CLS) in epididymal fat pads to determine macrophage infiltration. RESULTS: No differences were noted between the control and any berry-fed groups in plasma levels of liver enzymes, insulin, glucose, ferric reducing antioxidant power, superoxide dismutase, and tumor necrosis factor ${\alpha}$. However, BK significantly lowered plasma triglyceride compared with the HF control and other berries, whereas BC significantly reduced F4/80 mRNA and the number of CLS in the epididymal fat pad, indicative of less macrophage infiltration. CONCLUSIONS: The present study provides evidence that BB, BK and BC with varying anthocyanin composition differentially affect plasma lipids and adipose macrophage infiltration in DIO mice, but with no differences in their antioxidant capacity and anti-inflammatory potential.
최근, 비정질 산화물 반도체를 이용한 TFT는 투명성, 유연성, 저비용, 저온공정이 가능하기 때문에 차세대 flat-panel 디스플레이의 back-plane TFT로써 다양한 방면에서 연구되고 있다. 산화물 반도체 In-Zn-O-시스템에서는 Gallium (Ga)을 suppressor로 사용한 a-In-Ga-Zn-O (a-IGZO) 뿐만 아니라, Magnesium (Mg), Hafnium (Hf), Tin (Sn), Zirconium (Zr) 등의 다양한 물질이 연구되었다. 그 중 Silicon (Si)은 Ga, Hf, Sn, Zr, Mg과 같은 suppressor에 비해 구하기 쉬우며 가격적인 측면에서도 저렴하다는 장점이 있다. solution 공정으로 제작한 산화물 반도체 TFT는 진공 시스템을 사용한 공정보다 공정시간이 짧고, 저비용, 대면적화가 가능하다는 장점이 있다. 하지만, 투명하고 유연한 device를 제작하기 위해서는 저온 공정과 low thermal budget은 필수적이다. 이러한 측면에서 MWI (Microwave Irradiation)는 저온공정이 가능하며, 짧은 공정 시간에도 불구하고 IZO 시스템의 산화물 반도체의 전기적 특성 향상을 기대할 수 있는 효율 적인 열처리 방법이다. 본 연구에서는 In-Zn-O 시스템의 TFT에서 silicon (Si)를 Suppressor로 사용한 a-Si-In-Zn-O (SIZO) TFT를 제작하여 두 가지 열처리 방법을 사용하여 TFT의 전기적 특성을 확인하였다. 첫 번째 방법은 Box Furnace를 사용하여 N2 분위기에서 $600^{\circ}C$의 온도로 30분간 열처리 하였으며, 두 번째는 MWI를 사용하여 1800 W 출력 (약 $100^{\circ}C$)에 2분간 열처리 하였다. MWI 열처리는 Box Furnace 열처리에 비해 저온 공정 및 짧은 시간에도 불구하고 향상된 전기적 특성을 확인 할 수 있었다.
Si, SiO/sup 2/, TiN, W/sup 2/N 기판 위에 (hfac)Cu(VTMS) 유기금속 전구체로 증착된 구리 핵을 조사하였다. 증착온도가 증가함에 따라, 기판 종류에 상관없이 180。C에서 구리 핵이 클러스터링으로 성장하는 메커니즘을 관찰하였다. 또한, HF용액으로 세척한 TiN 과 SiO/sup 2/가 공존하는 기판에서 구리 핵의 선택성이 향상됨을 관찰하였다. TiN을 H/sup 2/O/sup 2/로 세척한 후 Dimethyldichlorosilane 처리했을 때 표면이 passivation됨을 확인하였다.
This paper reports the results of a study on the optimization of the etching profile, which is an important factor in deep-reactive-ion etching (DRIE), i.e., dry etching. Dry etching is the key processing step necessary for the development of the Internet of Things (IoT) and various microelectromechanical sensors (MEMS). Large-area etching (open area > 20%) under a high-frequency (HF) condition with nonoptimized processing parameters results in damage to the etched sidewall. Therefore, in this study, optimization was performed under a low-frequency (LF) condition. The HF method, which is typically used for through-silicon via (TSV) technology, applies a high etch rate and cannot be easily adapted to processes sensitive to sidewall damage. The optimal etching profile was determined by controlling various parameters for the DRIE of a large Si wafer area (open area > 20%). The optimal processing condition was derived after establishing the correlations of etch rate, uniformity, and sidewall damage on a 6-in Si wafer to the parameters of coil power, run pressure, platen power for passivation etching, and $SF_6$ gas flow rate. The processing-parameter-dependent results of the experiments performed for optimization of the etching profile in terms of etch rate, uniformity, and sidewall damage in the case of large Si area etching can be summarized as follows. When LF is applied, the platen power, coil power, and $SF_6$ should be low, whereas the run pressure has little effect on the etching performance. Under the optimal LF condition of 380 Hz, the platen power, coil power, and $SF_6$ were set at 115W, 3500W, and 700 sccm, respectively. In addition, the aforementioned standard recipe was applied as follows: run pressure of 4 Pa, $C_4F_8$ content of 400 sccm, and a gas exchange interval of $SF_6/C_4F_8=2s/3s$.
Titanium and its alloys are widely used as implants in orthopedics, dentistry and cardiology due to their outstanding properties, such as high strength, high level of hemocompatibility and enhanced biocompatibility. Hence, recent works showed that the synthesis of new Ti-based alloys for implant application involves more biocompatible metallic alloying element, such as, Nb, Hf, Zr and Mo. In particular, Nb and Hf are one of the most effective Ti ${\beta}-stabilizer$ and reducing the elastic modulus. Plasma electrolyte oxidation (PEO) is known as excellent method in the biocompatibility of biomaterial due to quickly coating time and controlled coating condition. The anodized oxide layer and diameter modulation of Ti alloys can be obtained function of improvement of cell adhesion. Silicon (Si) and magnesium (Mg) has a beneficial effect on bone. Si in particular has been found to be essential for normal bone and cartilage growth and development. In vitro studies have shown that Mg plays very important roles in essential for normal growth and metabolism of skeletal tissue in vertebrates and can be detected as minor constituents in teeth and bone. The aim of this study is to research Si and Mg doped hydroxyapatite film formation by plasma electrolytic oxidation. Ti-29Nb-xHf (x= 0, 3, 7 and 15wt%, mass fraction) alloys were prepared Ti-29Nb-xHf alloys of containing Hf up from 0 wt% to 15 wt% were melted by using a vacuum furnace. Ti-29Nb-xHf alloys were homogenized for 2 hr at $1050^{\circ}C$. Each alloy was anodized in solution containing typically 0.15 M calcium acetate monohydrate + 0.02 M calcium glycerophosphate at room temperature. A direct current power source was used for the process of anodization. Anodized alloys was prepared using 270V~300V anodization voltage at room. A Si and Mg coating was produced by RF-magnetron sputtering system. RF power of 100W was applied to the target for 1h at room temperature. The microstructure, phase and composition of Si and Mg coated oxide surface of Ti-29Nb-xHf alloys were examined by FE-SEM, EDS, and XRD.
The purpose of this experiment was to determine the effects of etching with a Nd : YAG Laser on dentin, or porcelain surface on the bond strength with composite resin. The dentin specimens were devided into the following 4 groups. D1 : No treatment D2 : Etched with 10% phosphoric acid D3 : Laser etchded with 1W, 20PPs D4 : Laser etched with 2W, 20PPS The procelain specimens were devided into the following 4 groups. P1 : diamond roughened P2 : etched with HF acid P3 : Laser etched with 2W, 20PPS P4 : Laser etched with 3W, 20PPS All specimens were veneered with resin. One half of the specimens were stored in $37^{\circ}C$ water for one day and the other half were thermocycled 1000 times at temperature of $5^{\circ}C\;to\;55^{\circ}C$ at 20 seconds intervals. After that, the bonding strength of composite resin to the dentin and porcelain was measured. The surface treated state and fractured state were observed with SEM. The following results were obtained. 1. In the dentin specimens, the bond strength of group D2 was highter than that of groups D1 and D3 in the case of the specimens stored in $37^{\circ}C$ water for one day, there was a statistically significant difference between group D2 and D1, D3 (P<0.05). The bonding strength of the specimens that were thermocycled decreased in the following order : group D2,D4,D3 and then D1. 2. In the porcelain specimens, the bonding strength of groups P1,P2 were higher than that of group P3 in the case of the specimens stored in $37^{\circ}C$ water for one day (P<0.05). The bonding strength of the specimens of being thermocycled decreased in the following order : group P2,P1,P4 and then P3. 3. The groups of high bond strength had a rougher surface and a high level of microporosity with SEM findings.
This study aimed to determine the anti-obesity effect of adding Wolfiporia extensa Ginns (W) to fermented pollack skin products in an obesity-induced animal model. The experimental groups were the normal diet group (C), high-fat diet group (HF), dried pollack skin (H1), fermented pollack skin (H2), and W of 0.1 (F2-WL), 0.3 (F2-WM), and 0.5 (F2), respectively. It was confirmed that adding W to fermented pollack skin reduced blood triglycerides, total cholesterol, and LDL levels, while increasing HDL levels. Wolfiporia extensa Ginns was effective in controlling weight and improving blood lipids in a dose-dependent manner. In histological analysis, findings of fatty liver induced by a high-fat diet were improved by the addition of H2 and W. Size and density of fat globules in the epididymis were decreased. In addition, the concentration of TNF-α was increased in the high-fat diet group, but decreased by the addition of fermented pollack skin and W. In conclusion, adding fermented dried pollack skin and Wolfiporia extensa Ginns was effective for weight control and blood lipid improvement. Thus, the use of by-products in functional foods is expected to have a high value in the future.
Multiple regression analysis was used for the calculation of pKa values of 15 substituted benzaldoximes by using various types of descriptors as parameters. These descriptors are based on quantum mechanical treatments. They were derived by employing semi-empirical calculation represented by the PM3 model and an Abinitio method expressed by Hartree-Fock(HF) model performed at the 6-311 G(d, p) level of theory. The parameters tested for their ability to represent the variations observed in the experimental pKa(s) are atomic and structural properties including Muliken charges on the atoms of hydroxyl group and C=N bond, the angle $C_6-C_1-C_7$, and length of O-H bond. Molecular properties are also used like energies of HOMO and LUMO, hardness(${\eta}$), chemical potential(${\mu}$), total energy(TE), dipole of molecule(DM), and electrophilicity index(W). The relation between pKa values and each of these parameters of the studied compounds is investigated. Depending on these relations, two sets of parameters were constructed for comparison between the PM3 and HF methods. The results obtained favor the Abinitio method for such applications although both models proved to have high predictive power and have sufficient reliability to describe the effect of substituents on pKa values of benzaldoxime compounds under consideration which is clear from the values of correlation coefficient $R^2$ obtained and the consistency between the experimental and the calculated values.
In this study, the electrochemical properties of CP-Ti (commercially pure titanium) and Ti-64 (Ti-6Al-4V) were evaluated and the effect of hydrofluoric acid on corrosion resistance and electrochemical properties was elucidated. Additive manufactured materials were made by DMT (Directed Metal Tooling) method. Samples were heat-treated for 1 hour at $760^{\circ}C$ and then air cooled. Surface morphologies were studied by optical microscope and SEM. Electrochemical properties were evaluated by anodic polarization method and AC-impedance measurement. The oxide film formed on the surface was analyzed using an XPS. The addition of HF led to an increase in the passive current density and critical current density and decreased the polarization resistance regardless of the alloys employed. Based on the composition of the oxide film, the compositional difference observed by the addition of HF was little, regardless of the nature of alloys. The Warburg impedance obtained by AC-impedance measurement indicates the dissolution of the constituents of CP-Ti and Ti-64 through a porous oxide film.
과냉각액체구역(${\Delta}T_{x}=T_{x}-T_{g}$)을 갖는 $Fe_{80}P_{10}C_{6}B_{4}$ 조성에 천이금속(Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Co, Ni, Pd, Pt및 Cu)를 첨가하여 이들 원소가 유리화온도($T_{g}$), 결정화온도($T_{x}$) 및 과냉액체구역 (${\Delta}T_{x}$)에 미치는 영향에 \ulcorner여 조사하였다. $Fe_{80}P_{10}C_{6}B_{4}$ 합금의 ${\Delta}T_{x}$ 값은 27K였으나 이 합금에 Hf, Ta 및 Mo을 각각 4at%첨가하면 그 값이 40k 이상으로 증가하였다. 이같은 ${\Delta}T_{x}$ 값의 증가는 유리화온도($T_{g}$의 상승보다 결정화온도($T_{x}$)의 상승폭이 크기 때문이다. $T_{g}$ 및 $T_{x}$는 외각전자밀도(e/a)가 약 7.38에서 7.05로 감소할수록 상승하였다. e/a의 감소는 천이금속과 다른 구성원소(반금속)사이의 상호결합상태를 의미한다. 즉 $T_{g}$ 및 $T_{x}$의 상승은 강한 상호결합력에 기인하는 것으로 사료된다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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