Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.33
no.6
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pp.454-459
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2020
In this study, a TiO2/TiO2-x-based resistance variable memory was fabricated using a DC/RF magnetron sputtering system and ALD. In order to analyze the effect of oxygen plasma treatment on the performance of resistance random access memory (ReRAM), the TiO2/TiO2-x-based ReRAM was evaluated by applying RF power to the TiO2-x oxygen-holding layer at 30, 60, 90, 120, and 150 W, respectively. The ReRAM was fabricated, and the electrical and surface area performances were compared and analyzed. In the case of ReRAM without oxygen plasma treatment, the I-V curve had a hysteresis curve shape, but the width was very small, with a relatively high surface roughness of the oxygen-retaining layer. However, in the case of oxygen plasma treatment, the HRS/LRS ratio for the I-V curve improved as the applied RF power increased; stable improvement was also noted in the surface roughness of the oxygen-retaining layer. It was confirmed that the low voltage drive was not smooth due to charge trapping in the oxygen diffusion barrier layer owing to the high intensity ReRAM applied with an RF power of approximately 150 W.
Lee, Suyoun;Yonuk Chong;S. H. Moon;Lee, H. N.;Kim, H. G.
Progress in Superconductivity
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v.3
no.2
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pp.146-150
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2002
We performed the point contact spectroscopy on newly discovered superconductor $MgB_2$ thin films with Au tip. In the point contact spectroscopy of the metallic Sharvin limit, the differential conductance below the gap is twice as that above the gap by virtue of Andreev Reflection. After some surface cleaning processes of sample preparation such as ion-milling and wet etching, the obtained dI/dV versus voltage curves are relatively well fitted to the Blonder-Tinkham-Klapwijk (BTK) formalism. Gaps determined by this technique were distributed in the range of 3meV~ 8meV with the BCS value of 5.9meV in the weak coupling limit. We attribute these discrepancies to the symmetry of the gap parameter and the degradation of the surface of the sample. We also present the temperature dependence of the conductance vs voltage curve and thereby the temperature dependence of the gap.
This research investigates electron beam to specification energy to Module that was generalized and schematized difference of curved line after existing V-I efficiency characteristic curve and irradiation. And will analyze cause of Si crystal Solar cell's efficiency addition and subtraction by 80keV electron beam investigation.
Kim, J.U.;Yu, Y.H.;Jeong, I.S.;Park, B.K.;Gu, H.B.;Moon, S.I.
Proceedings of the KIEE Conference
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1996.07c
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pp.1414-1417
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1996
The purpose of this study Is to research and develop $V_{6}O_{13}$ composite cathode for lithium thin film battery. $V_{6}O_{13}$ represents a class of cathode active material used in Li rechargeable batteries. In this study, we investigated cyclic voltammetry and charge/discharge characteristics of $V_6O_{13}$/SPE/Li cells. Cyclic voltammogram of $V_{6}O_{13}$/SPE/Li cell at scan rate 1mV/sec showed reduction peaks of 2.25V and 2.4V and oxidation peaks of 2.4V and 2.2V. The discharge curve of $V_{6}O_{13}$/SPE/Li cell showed 4 potential plateaus. The discharge capacity was decreased in the beginning of charge/discharge cycling. After 8th cycling, the discharge capacity was stable. The discharge capacity of 1st cycle and 15th cycle was 290mAh/g and 147mAh/g at $25^{\circ}C$, respectively.
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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v.25
no.11
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pp.1329-1334
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1988
A new method was developed for growing oxidation film by thermal reaction of $NH_3$ and $O_2$. The growth rate increased with the increase of partial pressure of $NH_3$. Optical transparency of the growth film was 12% at the wave number 1100 $cm^{-1}$ compared with 17% by thermal dry oxidation method, and the quality was much better. In C-V characteristic curve, $Q_{OX}$ was almost equal to $Q_{SS}$ and no hysteresis phenomena was observed. n-MOS transistors fabricated with this new method showed $I_D$-$V_{DS}$ characteristics better than thermal dry oxidation method.
Using the plasma that we developed to generate a low-temperature plasma at atmospheric pressure, we have investigated the etching possibility of tin oxide $(SnO_2)$ thin films. Hydrogen and methane radicals generated from the plasma were observed and their intensity was found to be dependent on the cathode material by an analysis with optical emission spectroscopy as well as by the plasma impedance. The etching ability of this plasma was evaluated by an emission intensity as well as by the evaluation of impedance using a plasma I-V curve.
This study was attempted to investigate the pharmacokinetic interaction between sodium valproate (4, 8, 16 mg/kg, i.v.) and phenytoin (4 mg/kg, i.v.) in rabbits. The plasma concentration and area under the curve (AUC) of phenytoin were increased significantly (p<0.05, p<0.01) when coadministered with sodium valproate (4, 8, 16 mg/kg) in rabbits. The volume or distribution and total body clearance of phenytoin were decreased significantly (p<0.05, p<0.01) when coadministered with sodium valproate (8, 16 mg/kg) in rabbit. From the results of this experiment, it is desirable that dosage regimen of phenytoin should be adjusted and therapeutic drug monitoring should be performed for reduction of side or toxic effect when phenytoin will be coadministered with sodium valproate in clinical use.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1995.11a
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pp.63-66
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1995
The ohmic characterization of Au/Te/Au/n-GaAs structure is investigated by the application of x-ray diffraction, scanning electron microscopy, Auger electron spectroscopy, the specific contact resistance and I-V measurement. Increasing the annealing temperature, the results of XRD measurement show the sharpening of the Au-Ga peak and the increasing of the intensity of Au peak due to the crystallization. At 400$^{\circ}C$, which is the ohmic onset point, Ga$_2$Te$_3$peak gets evident and GaAs regrowth peak appears for the samples annealed at 500$^{\circ}C$. The variation of shottky contact to ohmic contact is confirmed by the I-V curve transition. The specific contact resistance of 3.8x10$\^$-5/$\Omega$-$\textrm{cm}^2$ is obtained for the sample annealed at 500$^{\circ}C$ and above 600$^{\circ}C$ the specific contact resistance increased due to the decomposition of GaAs substrate.
The spectral interferences of OH from aqueous solvents in ICP-AES have been studied and eliminated using a cryogenic argon trap. The prominent lines of Bi I 306.772 nm, Al I 309.271 nm, and V II 310.230 nm, which are very seriously overlapped with the OH band, were examined. With an extended torch and high tangential flow of 20 L/min, water vapor from air entrainment was prevented. The combination of a condenser and argon cryogenic trap was able to eliminated most of water vapor carried by the argon sample gas. Removal of OH spectral interference could extend the linearity of the calibration curve 5-10 times on the lower concentration for ICP-AES. Interference Equivalent Concentration (IEC) has been reduced to 5.6, 5.9, and 12.4 times for Bi, Al and V, respectively.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2003.07a
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pp.71-74
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2003
In this paper, electrical properties of photovoltaic module have been observed for 5 years and found to drop around 5 to 25 %. Element technologies which are critical to electrical loss were therefore examined and dark I-V curve were observed with different soldering conditions. From the results, series resistance decreased with the decrease of contact resistance regardless of temperature conditions.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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