Electrical Properties of Al2O3 Films Grown by the Electron Cyclotron Resonance Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition (ECR-PEALD) and Thermal ALD Methods (전자 사이클로트론 공명 플라즈마와 열 원자층 증착법으로 제조된 Al2O3 박막의 물리적·전기적 특성 비교)
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- Korean Journal of Materials Research
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- v.27 no.6
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- pp.295-300
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- 2017