To broaden the understanding of classical Cepheid structure, evolution and atmospheres, we have extended our continuing secret lives of Cepheids program by obtaining XMM/Chandra X-ray observations, and Hubble space telescope (HST) / cosmic origins spectrograph (COS) FUV-UV spectra of the bright, nearby Cepheids Polaris, ${\delta}$ Cep and ${\beta}$ Dor. Previous studies made with the international ultraviolet explorer (IUE) showed a limited number of UV emission lines in Cepheids. The well-known problem presented by scattered light contamination in IUE spectra for bright stars, along with the excellent sensitivity & resolution combination offered by HST/COS, motivated this study, and the spectra obtained were much more rich and complex than we had ever anticipated. Numerous emission lines, indicating $10^4$ K up to ${\sim}3{\times}10^5$ K plasmas, have been observed, showing Cepheids to have complex, dynamic outer atmospheres that also vary with the photospheric pulsation period. The FUV line emissions peak in the phase range ${\varphi}{\approx}0.8-1.0$ and vary by factors as large as $10{\times}$. A more complete picture of Cepheid outer atmospheres is accomplished when the HST/COS results are combined with X-ray observations that we have obtained of the same stars with XMM-Newton & Chandra. The Cepheids detected to date have X-ray luminosities of log $L_X{\approx}28.5-29.1$ ergs/sec, and plasma temperatures in the $2-8{\times}106$ K range. Given the phase-timing of the enhanced emissions, the most plausible explanation is the formation of a pulsation-induced shocks that excite (and heat) the atmospheric plasmas surrounding the photosphere. A pulsation-driven ${\alpha}^2$ equivalent dynamo mechanism is also a viable and interesting alternative. However, the tight phase-space of enhanced emission (peaking near 0.8-1.0 ${\varphi}$) favor the shock heating mechanism hypothesis.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.11a
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pp.234-234
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2008
Chemically homogeneous $Ba_{0.6}Sr_{0.4}TiO_3$ (BST) sols were synthesized using barium acetate, strontium acetate, and titanium isoproxide as starting materials. BST thin films of thickness 340 nm were deposited on Pt/$TiO_2/SiO_2$/Si and alumina substrates using spin coating method. The technique used for the processing of these films was Ultraviolet (UV) sol-gel photoannealing, using phto-sensitivity precursor solutions and UV-assisted rapid thermal processing(UV-RTP). The crystallization behaviour of the BST sols and thin films was studied by differential thermal analysis (DTA) and X-ray diffraction (XRD). Variation of permittivity and dielectric loss were measured in LCR-meter, model HP 4394A.
The purpose of this study was to analyze potential effects of Koreans' ultraviolet risk awareness and appearance management on their UV protective behaviors in daily life and outdoor activities, and was to investigate in their awareness of UV-protective clothing and their purchase attitudes toward anti-UV protective clothing. To meet the above goals, we have surveyed a total of 262 participants(male and female) residing in Chungcheong province. Findings were as following: As a part of ultraviolet-protective behaviors, it was found that the respondents often relied on applying sun-block cream or shady place before exposition to sunlight. Particularly, it was notable that 30's or older group was more proactive in UV protective behaviors than younger group below 30 years old. There were significant correlations among the respondents' UV protective behaviors, their awareness of anti-UV clothing and their purchase attitudes to anti-UV clothing. Also, there were also significant correlations among their UV-protective means for outdoor activities. That is, more favorable awareness about anti-UV clothing they have is associated with their more active attitudes to purchasing anti-UV clothing and taking anti-sunlight behaviors. It was found that the number of respondents who used cosmetics for outdoor activities was more than that of respondents who used clothing to protect their body from ultraviolet ray. Hence, it will be necessary for follow-up studies to focus on the development and promotion of anti-UV clothing.
반도체 소자가 고집적화 됨에 따라 단위공정의 수가 증가하게 되었고 동시에 실리콘 기판의 오염에 대한 문제가 증가하였다. 실리콘 기판의 주 오염물로는 유기물, 파티클, 금속분순물 등이 있으며 특히, Cu와 Fe과 같은 금속불순물은 이온주입 공정, reactive ion etching, photoresist ashing과 같은 실 공정 중에 1011-1013atoms/㎤정도로 오염이 되고 있다. 그러나 금속불순물 중 Cu와 같은 전기음성도가 실리콘 보다 큰 오염물질은 일반적인 습석세정방법으로는 제거하기 힘들다. 따라서 본 연구에서는 Cu와 Fe과 같은 금속불순물을 제거할 목적을 건식과 습식 세정방법을 혼합한 UV/ozone과 HF세정을 제안하여 실시하였다. CuCI2와 FeCI2 표준용액으로 실리콘 기판을 인위적 오염한 후 split 1(HF-only), split 2 (UV/ozone+HF), split 3 (UV/ozone + HF 2번 반복), split 4(UV/ozone-HF 3번 반복)를 실시하였고 TXRF(Total Reflection X-Ray Fluorescence)와 AFM(Atomic Force Microscope)으로 금속불순물 제거량과 표면거칠기를 각각 측정하였다. 또한 contact angle 측정으로 세정에 따른 표면상태도 측정하였다. TXRF 측정결과 split 4가 가장 적은 양의 금속불순물 잔류량을 보였으며 AFM 분석을 통한 표면거칠기도 가장 작은 RMS 값을 나타내었다. Contact angle 측정 결과 UV/ozone 처리는 친수성 표면을 형성하였고 HF처리는 소수성 표면을 형성하였다.
An asymmetric metal-semiconductor-metal Al0.24Ga0.76N ultraviolet (UV) sensor was fabricated, and the effects of local Joule heating were investigated. After dielectric breakdown, the current density under a reverse bias of 2.0 V was 1.1×10-9 A/cm2, significantly lower than 1.2×10-8 A/cm2 before dielectric breakdown; moreover, the Schottky behavior of the Ti/Al/Ni/Au electrode changed to ohmic behavior under forward bias. The UV-to-visible rejection ratio (UVRR) under a reverse bias of 7.0 V before dielectric breakdown was 87; however, this UVRR significantly increased to 578, in addition to providing highly reliable responsivity. Transmission electron microscopy revealed interdiffusion between adjacent layers, with nitrogen vacancies possibly formed owing to local Joule heating at the AlGaN/Ti/Al/Ni/Au interfaces. X-ray photoelectron microscopy results revealed decreases in the peak intensities of the O 1s binding energies associated with the Ga-O bond and OH-, which act as electron-trapping states on the AlGaN surface. The reduction in dark current owing to the proposed local heating method is expected to increase the sensing performance of UV optoelectronic integrated devices, such as active-pixel UV image sensors.
AC and ZnS modified $TiO_2$ composites (AC/ZnS/$TiO_2$) were prepared using a sol-gel method. The composite obtained was characterized by Brunauer-Emmett-Teller (BET) surface area measurements, X-ray diffraction (XRD), energy dispersive X-ray (EDX) analysis, scanning electron microscope (SEM) analysis, and according to the UV-vis absorption spectra (UV-vis). XRD patterns of the composites showed that the AC/ZnS/$TiO_2$ composites contain a typical single and clear anatase phase. The surface properties as observed by SEM present the characterization of the texture of the AC/ZnS/$TiO_2$ composites, showing a homogenous composition in the particles showing the micro-surface structures and morphology of the composites. The EDX spectra of the elemental identification showed the presence of C and Ti with Zn and S peaks for the AC/ZnS/$TiO_2$ composite. UV-vis patterns of the composites showed that these composites had greater photocatalytic activity under visible light irradiation. A rhodamine B (Rh.B) solution under visible light irradiation was used to determine the photocatalytic activity. The degradation of Rh.B was determined using UV/Vis spectrophotometry. An increase in the photocatalytic activity was observed. From the photocatalytic results, the excellent activity of the Y-fullerene/$TiO_2$ composites for the degradation of methylene blue under visible irradiation could be attributed to an increase in the photo-absorption effect caused by the ZnS and to the cooperative effect of the AC.
Park, Jae-Hyeong;Han, Dong-Seok;Gang, Yu-Jin;Sin, So-Ra;Park, Jong-Wan
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.08a
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pp.214.2-214.2
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2013
Device performance for the 45 and 32 nm node CMOS technology requires the integration of ultralow-k materials. To lower the dielectric constant for PECVD and spin-on materials, partial replacement of the solid network with air (k=1.01) appears to be more intuitive and direct option. This can be achieved introducting of second "labile" phase during depositoin that is removed during a subsequent UV curing and annealing step. Besides, with shrinking line dimensions the resistivity of barrier films cannot meet the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) requirements. To solve this issue self-forming diffusion barriers have drawn attention for great potential technique in meeting all ITRS requirments. In this present work, we report a Cu-V alloy as a materials for the self-forming barrier process. And we investigated diffusion barrier properties of self-formed layer on low-k dielectrics with or without UV curing treatment. Cu alloy films were directly deposited onto low-k dielectrics by co-sputtering, followed by annealing at various temperatures. X-ray diffraction revealed Cu (111), Cu (200) and Cu (220) peaks for both of Cu alloys. The self-formed layers were investigated by transmission electron microscopy. In order to compare barrier properties between V-based interlayer on low-k dielectric with UV curing and interlayer on low-k dielectric without UV curing, thermal stability was measured with various heat treatment temperature. X-ray photoelectron spectroscopy analysis showed that chemical compositions of self-formed layer. The compositions of the V based self-formed barriers after annealing were strongly dominated by the O concentration in the dielectric layers.
An alternative molecular porphyrin-phthalocyanine aggregate was prepared and characterized with UV-visible and X-ray absorption spectroscopies. UV-visible experiments evidence 1-dimensional porphyrin-phthalo-cyanine array formed by mixing $SnTPPCl_2 ({\lambda}_{max}=429,\;{\varepsilon}=2.4{\times10^ 5 /M{\cdot}cm)\;and\;NiPc(OBu)_8({\lambda}_{max}=744 nm,\;{\varepsilon}= 2.0{\times}10^ 5 /M{\cdot}cm)$ in solution. In the UV-visible spectrum of the porphyrin-phthalocyanine array, $(SnPNiPc)_n$, a new Q-band appeared at 844 nm with decrease of the Q-band peak of $NiPc(OBu)_8$ at 744 nm. The red-shift of Q-band evidences an alternative porphyrin-phthalocyanine array formed in solution through metal-halide interaction rather than ${\pi}-{\pi}$ facial interaction, in which nickel of $NiPc(OBu)_8$ coordinates with chloride of $SnTPPCl_2$ through self assembly. Ni K-edge XANES (X-ray absorption near edge structure) spectra also support the axial ligation of nickel to chloride. The square planar structure of $NiPc(OBu)_8$ turns to an octahedral structure in (SnPNiPcSnP) by axial ligation. A higher energy-shift (0.2 eV) of the preedge peak of (SnPNiPcSnP) indicaties partial oxidation of nickel by charge transfer from NiPc$(OBu)_8$ to SnTPPCl$_2$.
Expanded graphite (EG) is synthesized by chemical intercalation of natural graphite (NG) and rapid expansion at high temperature, with titanium n-butoxide (TNB) used as titanium source by a sol-gel method to prepare EG-TiO$_2$ composite. The performances of the prepared EG-TiO$_2$ composite are characterized by BET surface area measurement, scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffraction patterns (XRD) and energy dispersive X-ray analysis (EDX). To compare the photocatalytic activities of the EG-TiO$_2$ composite, three kinds of dye solutions, methylene blue (MB), methylene orange (MO) and rhodamine B (RhB), and two kinds of light source, UV light and visible light (VL), are used. Comparing the results, it can be clearly seen that the degradation of all of the dye solutions under irradiation by UV light is much better than that under irradiation by visible light, and the decomposition of MB solution was better than that of both of MO and RhB solution.
This paper aimed at the development of face covers which is face protection articles for blocking UV rays and yellow sands, with a view to assist the further activation of outdoor life. The four-stage design process of field study, design, design evaluation, final selection of designs was set up for the effective product development. Field study included on-line and off-line market survey on the products for sale in market and observation on those wearing face covers. Depth interviews were done to know consumer understandings and satisfaction levels for current face covers. The results of market survey showed that most of the face covers currently in the market were mask types, which were produced for the blocking of dust and yellow sands rather than UV ray protection. The major clients of the mask were the women in their 30's-50's and the designs for these clients were very limited. Since the number of younger women and men enjoy the outdoor sports has increased, the face covers for these people should be developed. For this purpose, the direction of new face cover design had 2 points: diversification of design in terms of color, material, shape and giving seasonal differences. 12 designs were designed on the first design stage, but after both wearing test by 16 testees and UV ray blocking test to evaluate these designs, 6 face cover designs were finally selected.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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