• 제목/요약/키워드: UV and chemical resistance

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Synthesis and Characterization of Schiff Base Metal Complexes and Reactivity Studies with Malemide Epoxy Resin

  • Lakshmi, B.;Shivananda, K.N.;Prakash, Gouda Avaji;Isloor, Arun M.;Mahendra, K.N.
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제33권2호
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    • pp.473-482
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    • 2012
  • A novel malemide epoxy containing Co(II), Ni(II) and Cu(II) ions have been synthesized by curing malemide epoxy resin (MIEB-13) and Co(II), Ni(II) and Cu(II) complexes of macrocyclic bis-hydrazone Schiff base. The Schiff base was synthesized by reacting 1,4-dicarbnyl phenyl dihydrazide with 2,6-diformyl-4-methyl phenol. The Schiff base and its Co(II), Ni(II) and Cu(II) complexes have been characterized by elemental analyses, spectral (IR, $^1H$ NMR, UV-vis., FAB mass, ESR), thermal and magnetic data. The curing reaction of maleimide epoxy compound with metal complexes was studied as curing agents. The stability of cured samples was studied by thermo-gravimetric analyses and which have excellent chemical (acid/alkali/solvent) and water absorption resistance. Further, the scanning electron microscopy (SEM) and definitional scanning colorimetric (DSC) techniques were confirmed the phase homogeneity of the cured systems.

PVdF 나노섬유 나권형 정밀여과와 입상 활성탄의 혼성 수처리에서 활성탄 충진량의 영향 (Effect of GAC Packing Mass in Hybrid Water Treatment Process of PVdF Nanofibers Spiral Wound Microfiltration and Granular Activated Carbon)

  • 경규명;박진용
    • 멤브레인
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    • 제27권1호
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    • pp.68-76
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    • 2017
  • 고강도, 내약품성, 무독성, 내연소성의 장점을 가지고 있는 PVdF (polyvinylidene fluoride) 나노섬유로 기공이 $0.4{\mu}m$ 평막을 제조한 후, 부직포와 평막으로 나권형 모듈을 제작하였다. 용존유기물의 흡착 제거를 위한 입상 활성탄(GAC, granular activated carbon) 흡착 컬럼과 자체 제작한 나권형 모듈로 혼성 수처리 공정을 구성하였다. 카올린과 휴믹산으로 조제한 모사 용액을 대상으로, 처리수를 재순환하는 경우와 배출하는 경우 각각 GAC 충진량의 영향을 알아보았다. 여과실험 후 물 역세를 하여 회복률과 여과저항을 계산하였다. 또한, 탁도와 $UV_{254}$ 흡광도를 측정하여 GAC의 흡착 효과를 고찰하였다. 그 결과, 처리수를 재순환하는 경우와 배출하는 경우 모두 탁도 처리율에는 GAC 충진량의 영향이 없었다, 하지만 GAC의 $UV_{254}$ 흡광도 처리율이 처리수를 순환하는 경우 0.7~3.6%이었는데, 처리수를 배출하는 경우 3.2-5.7%로 증가하였다. 처리수를 순환하는 경우 GAC의 충진량이 증가함에 따라, 가역적 여과저항($R_r$)과 비가역적 여과저항($R_{ir}$)은 감소하는 경향을 보였다. 그러나 총여과저항($R_t$)은 거의 일정하였고, 물 역세 회복률($R_b$)은 다소 증가하는 경향을 보였다.

CVD법을 이용한 그래핀합성에 미치는 온도와 압력의 영향 (Influence of Temperature and Pressure on Graphene Synthesis by Chemical Vapor Deposition)

  • 이은영;김성진;전흥우
    • 열처리공학회지
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    • 제28권1호
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    • pp.7-16
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    • 2015
  • The fabrication of high quality graphene using chemical vapor deposition (CVD) method for application in semiconductor, display and transparent electrodes is investigated. Temperature and pressure have major impact on the growth of graphene. Graphene doping was obtained by deposition of $MoO_3$ thin films using thermal evaporator. Bilayer graphene and the metal layer graphene were obtained. According to the behavior of graphene growth P-type doping was confirmed. Graphene obtained through experiments was analyzed using optical microscopy, Raman spectroscopy, UV-visible light spectrophotometer, 4-point probe sheet resistance meter and atomic force microscopy.

Thermal Chemical Vapor Deposition of Graphene Layers

  • Kwon, Kyoeng-Woo;Do, Woo-Ri;Hwang, Jinha
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.644-644
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    • 2013
  • Graphene is a two-dimensional sp2 layer material. Despite the short history in the empirical synthesis of the graphene layers, the academic/industrial unique features have brought highly significant interest in research and development related to graphene-related materials. In particular, the electrical and optical performances have been targeted towards pre-existing microelectronicand emerging nanoelectronic applications. The graphene synthesis relies on a variety of processing factors, such as temperature, pressure, and gas ratios involving H2, CH4, and Ar, in addition to the inherent selection of copper substrates. The current work places its emphasis on the role of experimental factors in growing graphene thin films. The thermally-grown graphene layers are characterized using physical/chemical analyses, i.e., four point resistance measurements, Raman spectroscopy, and UV-Visible spectrophotometry. Ultimately, an optimization strategy is proposed in growing high-quality graphene layers well-controlled through empirical factors.

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Methyltrimethoxysilane을 이용한 반사방지 코팅막의 성능 향상 (Improvement of Performance of Anti-reflective Coating Film Using Methyltrimethoxysilane)

  • 금영섭;김효섭;박주식;김영호
    • 공업화학
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    • 제26권4호
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    • pp.400-405
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    • 2015
  • Tetraethylorthosilicate (TEOS)를 전구체로서 이용하여 제조된 기존의 반사방지(AR; anti-reflective) 코팅막은 대부분 수분을 쉽게 흡수할 뿐만 아니라 낮은 내마모성을 갖는다. 본 연구에서는 AR 코팅막의 투과율, 소수성 및 내마모성을 향상할 목적으로 전구체로서 methyltrimethoxysilane (MTMS)를 사용하고 불소 실란, 산 촉매, 염기 촉매 및 산-염기 2단계 촉매를 첨가하여 다양한 AR 코팅막을 제조하였다. 제조된 AR 코팅막은 UV-Vis, 접촉각 측정기, AFM, 연필경도 및 부착성 시험을 통해 특성을 분석하였다. 그 결과, 경화온도가 $300^{\circ}C$일 때 코팅되지 않은 유리 기판의 투과율은 90.5%인 반면, AR 코팅된 유리 기판의 투과율은 94.8%로 증가하였다. 불소 실란을 첨가한 경우, 소수성이 크게 향상되었음을 나타내듯이 AR 코팅막 표면에서의 접촉각은 $96.3^{\circ}$에서 $108^{\circ}$까지 증가하였다. AR 코팅막의 내마모성은 산 촉매에 의해 향상되었으며, 그것의 투과율은 염기 촉매에 의해 증가하였다. 산-염기 2단계 촉매 반응에 의해 제조한 AR 코팅막의 경우, 상승 효과에 의해 촉매의 도입 없이 제조된 AR 코팅막과 비교하여 투과율 및 내마모성이 향상되었다.

Synthesis and characterization of negative-type photosensitive polyimides for TFT-LCD array

  • Kim, Hyo-Jin;Kim, Hyun-Suk;Kim, Soon-Hak;Park, Lee-Soon;Hur, Young-Hune;Lee, Yoon-Soo;Song, Gab-Deuk;Kwon, Young-Hwan
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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    • pp.1625-1628
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    • 2006
  • Two different negative-type photosensitive polyimides were synthesized and characterized for an application as an interdielectric layer in TFTLCD array. In the case of photocurable polyimides, the photosensitive moiety, 2-HHSP, was synthesized through 3 step reaction, and then was incorporated into side chains of polyimide precursor by post reaction. Optimum compositions of negative-type photocurable polyimde were also formulated. For photopolymerizable polyimides, two novel UV monomers containing imide linkages were prepared. An aqueous alkaline developable polymer matrix was synthesized by free radical copolymerization. A negative photoresist formulation was developed utilizing synthesized UV monomers containing imide linkage, photoinitiator, UV oligomer, and alkali developable polymer matrix. It was found that viaholes with good resolution, high transmittance and thermal resistance could be obtained by photolithographic process utilizing the negative-type photoresist formulations.

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Pentaerytritol Triacrylate를 이용한 광경화용 6관능 우레탄 아크릴레이트 합성과 경화필름 물성에 관한 연구 (Synthesis of UV-Curable Six-Functional Urethane Acrylates Using Pentaerytritol Triacrylate and Their Cured Film Properties)

  • 문병준;황석호
    • 폴리머
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    • 제35권2호
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    • pp.183-188
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    • 2011
  • 수산기를 함유한 3관능 아크릴레이트(PETA; pentaerytritol triacrylate)를 pentaerytritol과 acrylic acid의 축합반응으로 합성하였다. 최적반응 조건이 용매로 heptane이 사용되고 pentaerytritol과 acrylic acid의 몰비가 1:4일때, 최고수율의 3관능 아크릴레이트를 얻을 수 있었다. 그 후, 다양한 디이소시아네이트와 PETA간 축합반응을 통해 여러가지 6관능 우레탄 아크릴레이트(UA)를 합성하였다. 합성된 우레탄 아크릴레이트는 반응형 희석제를 광개시제와 함께 자외선 광경화한 후, 형성된 경화필름의 물성을 측정하였다. 방향족 벤젠고리를 포함하고 있는 우레탄 아크릴레이트는 지방족 분자를 포함하고 있는 우레탄 아크릴레이트에 비해 내후성이 취약하였으며, UA-2의 경우 연필경도 및 내스크레치성이 가장 우수하였고 경화도가 가장 우수하였던 UA-l의 경우 내약품성이 가장 우수하였다. 밀착성의 경우 모든 조성에서 우수한 결과를 얻었으며, 경화도가 가장 낮은 UA-3의 경우 물리적 특성이 가장 낮았다.

PVC 바닥상재용 광경화형 내오염 코팅액의 제조 및 응용에 관한 연구 (A study on the Manufacture and Application of UV-Cured Anti-stain Coating Compounds for PVC Tile)

  • 윤현정;하진욱
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제11권5호
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    • pp.1741-1746
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    • 2010
  • 본 연구는 건축자재로 널리 사용되는 PVC 바닥상재 표면을 오염성 및 정전기로부터 보호하기 위하여 기존에 사용하는 광경화형 우레탄-아크릴 수지에 내오염/대전성을 향상시킨 광경화형 내오염 코팅액 개발에 관한 것이다. PVC 바닥상재용으로 사용되는 내오염성이 없는 우레탄-아크릴 수지에 4가 암모늄을 사용한 수용성 대전방지제와 아크릴용 대전방지제, 폴리우리탄용 대전방지제를 수지의 양 대비 함량(wt%) 5~20%로 변화하여 첨가한 후 배합하여 수지의 내오염/대전성을 향상시킨 내오염 코팅액을 제조하였다. 제조한 내오염 코팅액은 코팅 층의 두께조절이 가능한 코팅(Bar-coating)을 사용하여 PVC 바닥상재에 코팅 한 후 내오염성, 대전성, 부착력, 코팅두께 등의 코팅 층 표면물성을 평가하였다. 연구결과, 수지에 수용성대전방지제 15%를 혼합하여 제조한 코팅액을 Bar-coater No.12로 코팅한 코팅표면이 전기저항($3.24{\times}10^9{\Omega}/cm^2$), 내오염도(매직 Test, 먼지부착 Test) 및 부착력(100%) 모두 가장 좋은 물성을 보였다. 전반적으로 함량이 많을수록 전기저항과 오염도에서 우수한 것으로 나타났다. 그러나 대전방지제가 과량으로 들어간 경우 migration 현상이 보이는 것을 알 수 있었다.

Layer Controlled Synthesis of Graphene using Two-Step Growth Process

  • Han, Jaehyun;Yeo, Jong-Souk
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2015년도 제49회 하계 정기학술대회 초록집
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    • pp.221.2-221.2
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    • 2015
  • Graphene is very interesting 2 dimensional material providing unique properties. Especially, graphene has been investigated as a stretchable and transparent conductor due to its high mobility, high optical transmittance, and outstanding mechanical properties. On the contrary, high sheet resistance of extremely thin monolayer graphene limits its application. Artificially stacked multilayer graphene is used to decrease its sheet resistance and has shown improved results. However, stacked multilayer graphene requires repetitive and unnecessary transfer processes. Recently, growth of multilayer graphene has been investigated using a chemical vapor deposition (CVD) method but the layer controlled synthesis of multilayer graphene has shown challenges. In this paper, we demonstrate controlled growth of multilayer graphene using a two-step process with multi heating zone low pressure CVD. The produced graphene samples are characterized by optical microscope (OM) and scanning electron microscopy (SEM). Raman spectroscopy is used to distinguish a number of layers in the multilayer graphene. Its optical and electrical properties are also analyzed by UV-Vis spectrophotometer and probe station, respectively. Atomic resolution images of graphene layers are observed by high resolution transmission electron microscopy (HRTEM).

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Thiol-ene 반응을 이용한 UV경화형 SIS/SBS계 점착제의 점착물성 (Pressure Sensitive Adhesion Performances of SIS/SBS based UV-curable Pressure Sensitive Adhesives using Thiol-ene Reaction)

  • 임동혁;도현성;김현중;윤관희;방정석
    • 접착 및 계면
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    • 제6권3호
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    • pp.19-25
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    • 2005
  • 합성 고무계 점착제는 일반적으로 SIS나 SBS 블록 공중합체와 점착부여수지, 가소제, 기타 첨가제를 함유한다. SIS/SBS 계 점착제는 우수한 접착력에도 불구하고 내용제성이나 내열성이 낮아서 그 사용에 한계가 있다. 이에 이러한 단점을 보완하고자 SIS/SBS 점착제에 가교제, 광개시제를 주성분으로 하는 자외선 경화 시스템을 도입하였다. 제조된 점착제는 thiol-ene 광중합 반응에 의해 가교하였으며 점착제의 프로브 택(probe tack), 박리강도(peel strength) 전단접착파괴온도(shear adhsion failure temperature, SAFT)를 측정하여 UV 경화형 점착특성을 고찰하였다. 또한 UV 경화형 점착제의 택 성질을 프로브 택을 이용하여 프로브 재료별, 점착제의 두께별의 영향을 살펴보았고 접촉각 측정을 통해 점착제 표면 변화를 살펴보았다.

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