The Effect of Pressure Increase on the Deposition of Tungsten by CVD using SiH4
(SiH$_4$ 를 이용한 텅스텐의 화학증착시 압력증가가 증착에 미치는 영향)
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- Journal of the Korean institute of surface engineering
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- v.26 no.1
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- pp.3-9
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- 1993