Transactions of the Korean hydrogen and new energy society
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v.13
no.3
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pp.181-189
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2002
A series of multicomponent $Zr_{0.8}Ti_{0.2}Mn_{0.4}V_{0.6}Ni_{1-x}Fe_{x}$ (x=0.00, 0.08, 0.15, 0.22, and 0.30) alloys are prepared and their oystal structure and P-C-T curves are examined. The electrochemical properties of these allqys such as activation conditions, discharge capacity, cycling performance are also investigated. $Zr_{0.8}Ti_{0.2}Mn_{0.4}V_{0.6}Ni_{1-x}Fe_{x}$ (x=0.00, 0.08, 0.15, 0.22 and 0.30) have the C14 Laves phase hexagonal structure. The electrode was activated by the hot-charging treatment. The best activation conditions were the current density 120 mA/g and the hot-charging time 12h at $80^{\circ}C$ in the case of the alloy with x=0.00. The discharge capacity increased rapidly until the fourth cycle and then decreased. The discharge capacity increased again from the 13th cycle, arriving at 234 mAh/g at the 50th cycle. The discharge capacily just after activation decreases with the increase in the amount of the substituted Fe but the cycling performance is improved. The discharge capacity after activation of the alloy with x=0.00 is 157 mAh/g at the current density 120 mA/g. $Zr_{0.8}Ti_{0.2}Mn_{0.4}V_{0.6}Ni_{0.85}Fe_{0.15}$ is a good composition with a medium quantity of discharge capacities and a good cycling performance. The ICP analysis of the electrolyte for these electrodes after 50 charge-discharge cycles shows that the concentrations of V and Zr are relatively high. Another series of multicomponent $Zr_{0.8}Ti_{0.2}Mn_{0.4}V_{0.6}Ni_{0.85}M_{0.15}$ (M = Fe, Co, Cu, Mo and Al) alloys are prepared. They also have the C14 Laves phase hexagonal structure. The alloys with M = Co and Fe have relatively larger hydrogen storage capacities. The discharge capacities just after activation are relatively large in the case of the alloys with M = Al and Cu. They are 212 and 170 mAh/g, respectivety, at the current density 120mA/g. The $Zr_{0.8}Ti_{0.2}Mn_{0.4}V_{0.6}Ni_{0.85}Co_{0.15}$ alloy is the best one with a relatively large discharge capacity and a good cycling performance.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.11a
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pp.171-172
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2007
We fabricated the metal-ferroelectric-insulator-semiconductor filed-effect transistors (MFIS-FETs) using the $(Bi,La)_4Ti_3O_{12}\;and\;LaZrO_x$ thin films. The $LaZrO_x$ thin film had a equivalent oxide thickness (EOT) value of 8.7 nm. From the capacitance-voltage (C-V) measurements for an Au/$(Bi,La)_4Ti_3O_{12}/LaZrO_x$/Si MFIS capacitor, a hysteric shift with a clockwise direction was observed and the memory window width was about 1.4 V for the bias voltage sweeping of ${\pm}9V$. From drain current-gate voltage $(I_D-V_G)$ characteristics of the fabricated Fe-FETs, the obtained threshold voltage shift (memory window) was about 1 V due to ferroelectric nature of BLT film. The drain current-drain voltage $(I_D-V_D)$ characteristics of the fabricated Fe-FETs showed typical n-channel FETs current-voltage characteristics.
In this study, the fabrication of PZT films was performed from a multilayer structure comprising $TiO_2$, $ZrO_2$ and PbO thin films prepared by rapid themal chemical vapor deposition(RTMOCVD). $TiO_2$, $ZrO_2$ and PbO are the component layers of oxide multilayer system for a single phase PZT thin film. The composition control of PZT thin film was done by the thickness control of individual component layer. The composition ratio of Pb:Ti:Zr with thickness were 1:0.94:0.55. Occurrence of a single-phase of PZT was initiated at around $550^{\circ}C$ and almost completed at $750^{\circ}C$ under the fixed time of 1hr. As the concentration of Pb increased, the roughness and crystallization in the film increased. From the as result of using XPS and TEM, the single phase formation through annealing is evident. The electrical properites of the prepared PZT thin film(Zr/Ti=40/60, 300 nm) on a Pt-coated substrate were as follow: dielectric constant ${\varepsilon}_r=475$, coercive field Ec=320 kV/cm, and remanant polarization $P_r=11{\mu}C/cm^2$ at an applied voltage of 18 V.
Supported vanadium oxides are being used extensively as catalysts for a variety of reactions, including partial oxidations and ammoxidations. A series of vanadium oxide supported on TiO2-ZrO2 was obtained by impregnating ammonium metavanadate slowly into a mixed precipitateof Ti(OH)4-Zr(OH)4, followed by calcining in air at high temperatures. The prepared catalysts were characterized by 51V solid-state NMR. In the calcined catalysts 51V NMR studies indicated the peaks corresponding to distorted tetrahedral vanadia species at low V2O5 contents and octahedral vanadia species at high vanadia loadings. These results illustrate the suitability of 51V NMR as a unique quantitative spectroscopic tool in the structural analysis of vanadium(V) oxide catalytic materials.
Zr modified $(Ba_{1-x},Sr_x)TiO_3$ thin films as capacitor for high density DRAM were deposited by r.f. magnetron sputtering. The films deposited at various chamber pressure exhibited a polycrystalline structure. The Zr/Ti ratio of the films increased significantly with decreasing the chamber pressure and this variation affected the microstructure and surface roughness of films When chamber pressure increased dielectric constant of the films effected due to decrease of Zr. The thin films prepared in this study show dielectric constant of 380 to 525 at 100KHz. The variation of capacitance and polarization measured as a function of bias voltage suggested that all films were paraelectric phases. Leakage current exhibited smaller value as chamber pressure decrease and the leakage current density of the films deposited above 10mTorr was $10^{-7}~10^{-8}A/cm^2$ order at 200kV/cm. $(Ba_{1-x},Sr_x)(Ti_{1-y},Zr_y)O_3$ thin films in this study appeared to be potential thin film capacitor for high density DRAM.
Transactions of the Korean hydrogen and new energy society
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v.5
no.2
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pp.99-109
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1994
To develop high capacity hydrogen storage alloys for secondary Ni/MH batteries, electrochemical charge/discharge characteristics of $Zr_{1-x}Ti_xMn_{1-y}V_yNi_{1-z}M_z$ (M=Al,Co,Fe) alloys were investigated, in which $0.2{\leq}x{\leq}0.6$, $0.2{\leq}y{\leq}0.8$, $0.2{\leq}z{\leq}0.4$. With increasing Ti content(x) and/or decreasing V content(y), lattice constants and maximum theoretical capacities of the alloys were decreased and equilibrium pressure of hydrogen absorption were increased. Electrochemical discharge capacities were increased with increasing Ti content(x). Especially, the alloys of x= 0.4~0.6 showed better charge/discharge efficiencies than those of x<0.4. Discharge capacities of $Zr_{0.4}Ti_{0.6}Mn_{0.4}V_{0.6}Ni_{0.8}Fe_{0.2}$, $Zr_{0.4}Ti_{0.6}Mn_{0.4}V_{0.6}Ni_{0.8}Al_{0.2}$ and $Zr_{0.5}Ti_{0.5}Mn_{0.4}V_{0.6}Ni_{0.6}Co_{0.4}$ were 385, 328 and 333mAh/g, respectively. These alloys were fully activated within five charge/discharge cycles and had a good charge and discharge rate capabilities and temperature characteristics.
To investigate the corrosion behavior of tools steel surface in various coating film, the surface of hard coated Ti-Zr-N film on the tool steel by using magnetron-sputtering methods was researched using various experimental methods. STD 61 steels were manufactured by using vacuum furnace and solutionized for 1hr at $1050^{\circ}C$. Steel surface was coated with Ti-Zr-N film at $150^{\circ}C$ and 100W for 1h by using DC-sputtering equipment. Surface characteristics of Ti-Zr-N film coated specimens were investigated by OM, XRD, FE-SEM and nano-scratch tester. And corrosion behaviors of the coated specimen were investigated by polarization test and electrochemical impedance spectroscopy(EG&G Co, PARSTAT 2273. USA). It was found that Ti-Zr-N film coated sample had a thick coated layer and showed a good wear resistance and corrosion resistance of surface compared with ZrN and TiN coated sample. The corrosion resistance and mechanical property of Ti-Zr-N film coated STD 61 alloy increased as sputtering time increased.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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