• 제목/요약/키워드: Thin film patterning

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저 에너지 초소형 전자칼럼 리소그래피를 이용한 SiO2 박막의 Pattern 제작에 관한 연구 (Study of SiO2 Thin Film Patterning by Low Energy Electron Beam Lithography Using Microcolumns)

  • 요시모토 다카토시;김호섭;김대욱;안승준
    • 한국자기학회지
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    • 제17권4호
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    • pp.178-181
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    • 2007
  • 반도체의 고 집적회로를 형성하기 위하여 주로 이용하고 있는 광 리소그래피 기술을 대신하여 사용할 수 있는 차세대 리소그래피 기술로 전자빔 리소그래피 기술에 대한 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 초소형 전자칼럼을 이용하여 전자빔 에너지와 조사농도에 따른 pattern 두께의 의존성을 조사하였으며 두께가 100nm인 $SiO_2$ 박막의 patterning을 통하여 $SiO_2$ 박막에 대한 저 에너지 전자빔 리소그래피 공정의 가능성을 입증하였다.

유한요소법을 이용한 레이저 미세 패터닝 공정 해석 (Simulation of Laser Micro Patterning Process Using FEM)

  • 이진호;김병희;이종길
    • 한국소성가공학회:학술대회논문집
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    • 한국소성가공학회 2005년도 금형가공,미세가공,플라스틱가공 공동 심포지엄
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    • pp.54-58
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    • 2005
  • Femtosecond laser is the latest generation pulsed laser delivering shortest pulses. Any solid materials can be machined by it. Femtosecond laser micromachining allows highest precision and minimal heat influence within the workpiece. But due to the complex physical phenomena between the laser beam and the workpiece materials, it is very difficult to determine the optimal process conditions in the femtosecond laser micromachining. In this study, a method to simulate the femtosecond laser micromachining process was proposed. And femtosecond laser micro patterning processes of chromium thin film are simulated by the proposed method using a commercial FE code, LS-Dyna. Simulation results were compared with those of experiments.

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Membrane을 이용한 박막센서 특성 분석 (The Characteristic Analysis of Thin Film Sensor using The Membrane)

  • 이순우;김상훈;안진호
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제9권3호
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    • pp.37-41
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    • 2002
  • 본 연구에서는 자기 공명 특성을 이용한 박막 센서의 멤브레인 및 박막 센서의 특성을 알아보았다. 멤브레인으로 유망한 물질로 $Si_xN_y$과 SiC가 있으며, 최적의 멤브레인 형성 조건을 알고자 박막의 잔류 응력 및 물성을 비교 분석하였다. 그 중에서 박막 센서에 적용 가능한 멤브레인으로 SiC보다 적절한 인장응력과 낮은 열팽창 계수를 가지는 $Si_xN_y$이 센서의 구조층으로 우수하였으며, $Si_xN_y$위에 박막 센서 물질을 증착 및 패턴닝(patterning)을 함으로써 센서의 자기 이력 곡선 및 자기 공진 주파수를 분석하였다. 센서에 인가되는 외부 자기장을 제거하면 자장에 의해 형성된 자화(magnetization)가 탄성 모드로 바뀌면서 에너지 방출에 의해 센서에서 전압이 발생하는데 이때 전압 발생 구간이 길어지면 기계적 진동이 야기되어 신호가 발생한다. 그리고 센서의 길이 및 폭이 증가할수록 자기공명 주파수가 감소하는 것을 볼 수 있다.

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토출 및 흡입 Needle을 이용한 유기 박막 패터닝 공정 (A Patterning Process for Organic Thin Films Using Discharge and Suction Needles)

  • 김대엽;신동균;이진영;박종운
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제19권1호
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    • pp.79-84
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    • 2020
  • Unlike a printing process, it is difficult to pattern organic thin films in the longitudinal (coating) direction using a coating process. In this paper, we have investigated the feasibility of patterning organic thin films using needles. To this end, we have slot-coated an aqueous poly(3,4-ethylenedioxythiophene):poly(4-styrenesulfonate) (PEDOT:PSS) solution in the form of a fine stripe or large area and then applied the dual needle; one for discharging the main solvent of the underlying thin film and the other for sucking the dissolved thin film. We have found that the pattern width and depth increase as the moving speed of the plate decreases. However, it is observed that the sidewall slope is very gentle (the length of the slope is of the order of 200 ㎛) due to the fact that the discharged main solvent is widely spread and then isotropic etching occurs. With this scheme, we have also demonstrated that a fine stripe can be obtained by scanning the dual needle closely. To demonstrate its applicability to solution-processable organic light-emitting diodes (OLEDs), we have also fabricated OLED with the patterned PEDOT:PSS stripe and observed the insulation property in the strong light-emitting stripe.

포토리소그래피를 이용한 P3HT 활성층의 패터닝에 대한 연구 (Study on Photolithographic Patterning for P3HT Active Layer)

  • 박경동;남동현;박정환;한교용
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제20권4호
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    • pp.294-302
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    • 2007
  • We studied on possibility of the application of photolithography technique to patterning the organic active layer poly(3-hexylthiophene) (P3HT). In the case of selective etching method, we made thin oxide film on P3HT thin film using $O_2$ treatment. We achieved the field-effect mobilities in the saturation regime ${\sim}1.2{\times}10^{-3}\;cm^2/V{\cdot}s$, $I_{on/off}$ ratios ${\sim}10^5$ in the selective etching method, ${\sim}7.4{\times}10^{-4}cm^2/V{\cdot}s$, $I_{on/off}$ ratios ${\sim}5{\times}10^3$ in the lift-off one. These values are higher than ones of the unpatterned P3HT-based OTFTs. On the basis of the above results, we demonstrate the photolithographic patterning for P3HT active layer is successfully carried out without degradation of P3HT.

Nanopatterning of Self-assembled Transition Metal Nanostructures on Oxide Support for Nanocatalysts

  • Van, Trong Nghia;Park, Jeong-Young
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제41회 하계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.211-211
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    • 2011
  • Nanostructures, with a diversity of shapes, built on substrates have been developed within many research areas. Lithography is one powerful, but complex, technique to make structures at the nanometer scale, such as platinum nanowires for studying CO catalytic reactions [1], or aluminum nanodisks for studying the plasmon effect [2]. In this work, we approach a facile method to construct nanostructures using noble metals on a titania thin film by using self-assembled structures as a pattern. Here, a large-scale silica monolayer is transferred to the titania thin film substrates using a Langmuir-Blodgett trough, followed by the deposition of a thin transition metal layer. Owing to the hexagonal close-packed structure of the silica monolayer, we would obtain a metal nanostructure that includes separated metallic triangles (islands) after removing the patterning silica beads. This nanostructure can be employed to investigate the role of metal-oxide interfaces in CO catalytic reactions by changing the patterning silica particles with different sizes or by replacing the oxide support. The morphology and chemical composition of the structure can be characterized by scanning electron microscopy, atomic force microscopy and X-ray photoelectron spectroscopy. In addition, we modify these islands to a connected island structure by reducing the silica size of the patterning monolayer, which is utilized to generating hot electron flow based on the localized surface plasmon resonance effect of the metal nanostructures.

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Transparent Conductive Oxides for Display Applications

  • Szyszka, B.;Ruske, F.;Sittinger, V.;Pflug, A.;Werner, W.;Jacobs, C.;Kaiser, A.;Ulrich, S.
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권1호
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    • pp.181-185
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    • 2007
  • We report on our material and process research on ZnO:Al films and on our investigations on wet chemical etching using a variety of etching solutions. We achieve resistivity as low as $750{\mu}{\Omega}cm$ for ZnO:Al films with film thickness of 140 nm. Etching with phosphorous acid allows for accurate fine patterning of the ZnO:Al films on glass substrates.

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주기적인 패턴 유리 기판을 사용한 비정질 실리콘 박막 태양전지의 효율 향상에 관한 연구 (Conversion Efficiency Enhancement of a-Si:H Thin-Film Solar Cell Using Periodic Patterned Substrate)

  • 손찬희;김경민;김재호;홍진;권기청
    • 한국진공학회지
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    • 제21권1호
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    • pp.55-61
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    • 2012
  • 본 연구에서는 주기적인 3차원 패턴이 형성된 유리기판을 사용하여 비정질 실리콘 박막 태양전지를 제작하였다. 주기적인 패턴은 일반적인 전도성 투명 산화막(TCO: Trasparent Conductive Oxide) 표면의 불규칙 패턴과 비교하여 더 효율적인 광포획을 가능하게 한다. 태양전지 제작 전 광특성 전산모사를 통하여 주기적인 패턴 유리 기판의 광학적 특성을 알아보았다. 비정질 실리콘 박막 태양전지의 제작은 PECVD를 이용하여 구면 패턴이 형성된 유리기판을 이용하여 제작되었으며, 인공 태양광 조사장치를 이용하여 제작된 태양전지의 성능 평가를 진행하였다. 태양전지 전산모사 결과와 실험 결과들을 비교 분석하여 주기적인 패턴 유리 기판을 이용한 비정질 실리콘 박막 태양전지의 효율향상 가능성을 확인하였다.

Laser Assisted Lift-Off Process as a Organic Patterning Methodology for Organic Thin-Film Transistors Fabrication

  • Kim, Sung-Jin;Ahn, Taek;Suh, Min-Chul;Mo, Yeon-Gon;Chung, Ho-Kyoon;Bae, Jin-Hyuk;Lee, Sin-Doo
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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    • pp.1154-1157
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    • 2006
  • Organic thin-film transistors (OTFTs) based on a semiconducting polymer have been fabricated using an organic patterning methodology. Laser assisted lift-off (LALO) technique, ablating selectively the hydrophobic layer by an excimer laser, was used for producing a semiconducting polymer channel in the OTFT with high resolution. The selective wettability of a semiconducting polymer, poly (9-9-dioctylfluorene-co-bithiophene) (F8T2), dissolved in a polar solvent was found to define precisely the pattering resolution of the active channel. It is demonstrated that in the F8T2 TFTs fabricated using the LALO technique and is applicable for the larger area display.

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