• 제목/요약/키워드: Thin film of electrode thickness

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PVdF-HFP/TiO2 나노복합체 보호층을 통한 리튬금속전지 음극의 전기화학적 성능 향상 (Nanostructured PVdF-HFP/TiO2 Composite as Protective Layer on Lithium Metal Battery Anode with Enhanced Electrochemical Performance)

  • 이상현;최상석;김동언;현준혁;박용욱;유진성;전소윤;박중원;신원호;손희상
    • 멤브레인
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    • 제31권6호
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    • pp.417-425
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    • 2021
  • 고용량 배터리에 대한 요구가 증가에 따라 기존 음극재보다 높은 용량(3,860 mAh/g)과 낮은 전기화학적 전위(-3.040 V)를 갖는 리튬 금속 기반 음극재에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있다. 본 연구에서는 수열 합성을 통해 제작된 아나타제(anatase) 타입의 TiO2 나노 입자 기반한 PVdF-HFP/TiO2 복합체를 리튬 금속 음극의 계면 보호층으로 적용하였다. 결정구조 및 형상 분석을 통해 유/무기-리튬 나노복합체 박막의 형성을 확인하였다. 또한, 전지화학 테스트(사이클 테스트 및 전압 프로파일)를 통해 리튬 금속 음극의 전기화학 성능 은 복합체 보호막이 TiO2 10 wt%, 코팅 두께 1.1 ㎛의 조건에서 가장 개선된 전기화학적 성능(콜롱 효율 유지: 77 사이클 동안 90% 이상) 발현을 확인하였다. 이를 통해, 처리하지 않은 리튬 전극 대비 본 보호층에 의한 리튬 금속 음극의 성능 안정화/개선 효과가 검증되었다.

Photovoltaic Efficiencies on Dye-Sensitized Solar Cells Assembled with Graphene-Linked TiO2 Anode Films

  • Kim, A-Young;Kim, Ji-Eun;Kim, Min-Young;Ha, Seung-Won;Tien, Ngyen Thi Thuy;Kang, Mi-Sook
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제33권10호
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    • pp.3355-3360
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    • 2012
  • To promote the photoelectric conversion efficiency of dye-sensitized solar cells (DSSCs), graphene is introduced as a working electrode with $TiO_2$ in this study, because it has great transparency and very good conductivity. XRD patterns indicate the presence of graphene and $TiO_2$ particles in graphene-linked $TiO_2$ samples. Moreover, TEM pictures also show that the nano-sized $TiO_2$ particles are highly dispersed and well-linked onto the thin layered graphene. On the basis of the UV-visible spectra, the band gaps of $TiO_2$, 1.0 wt % graphene-$TiO_2$, 5.0 wt % graphene-$TiO_2$, and 10.0 wt % graphene-$TiO_2$ are 3.16, 2.94, 2.25, and 2.11 eV, respectively. Compared to pure $TiO_2$, the energy conversion efficiency was enhanced considerably by the application of graphene-linked $TiO_2$ anode films in the DSSCs to approximately 6.05% for 0.1 wt % graphene-$TiO_2$ with N719 dye (10.0 mm film thickness and $5.0mm{\times}5.0mm$ cell area) under $100mW/cm^2$ of simulated sunlight. The quantum efficiency was the highest when 1.0 wt % of graphene was used. In impedance curves, the resistance was smallest for 1.0 wt % graphene-$TiO_2$-DSSC.

Gas sensing properties of polyacrylonitrile/metal oxide nanofibrous mat prepared by electrospinning

  • 이득용;조정은;김예나;오영제
    • 센서학회지
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    • 제17권4호
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    • pp.281-288
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    • 2008
  • Polyacrylonitrile(PAN)/metal oxide(MO) nanocomposite mats with a thickness of 0.12 mm were electrospun by adding 0 to 10 wt% of MO nanoparticles ($Fe_2O_3$, ZnO, $SnO_2$, $Sb_2O_3-SnO_2$) into PAN. Pt electrode was patterned on $Al_2O_3$ substrate by DC sputtering and then the PAN(/MO) mats on the Pt patterned $Al_2O_3$ were electrically wired to investigate the $CO_2$ gas sensing properties. As the MO content rose, the fiber diameter decreased due to the presence of lumps caused by the presence of MOs in the fiber. The PAN/2% ZnO mat revealed a faster response time of 93 s and a relatively short recovery of 54 s with a ${\Delta}R$ of 0.031 M${\Omega}$ at a $CO_2$ concentration of 200 ppm. The difference in sensitivity was not observed significantly for the PAN/MO fiber mats in the $CO_2$ concentration range of 100 to 500 ppm. It can be concluded that an appropriate amount of MO nanoparticles in the PAN backbone leads to improvement of the $CO_2$ gas sensing properties.

Preparation of ZnO Thin Film by Electrophoretic Deposition(EPD)

  • Jun, Byung-Sei
    • 한국세라믹학회지
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    • 제49권1호
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    • pp.78-83
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    • 2012
  • The electrophoretic deposition(EPD) of ZnO nano-sized colloids is investigated by changing the colloid number concentration, applied force, and deposition time. The change of the colloid size in a suspension was examined by the different colloid number concentrations (N = $3.98{\times}10^{15}$, N = $3.98{\times}10^{14}$, and N = $3.98{\times}10^{13}$) with an increase of the deposition time and applied forces. Deposition behavior was investigated by changing the applied fields (from DC 5 V to 50 V) and the deposition time (5 min to 25 min). The surface microstructures of the as-deposited films were investigated by SEM. The dried films were sintered from $850^{\circ}C$ to $1,050^{\circ}C$ for 2 h and then the microstructures were also explored by SEM. The agglomeration rate was enhanced by increasing the colloid number concentration of colloids. Colloid number concentration in a suspension must be rapidly decreased at higher values of the electric field. ZnO nano-sized colloids had the highest zeta potential value of over -28 mV in methanol. A homogeneous microstructure was obtained at colloid number concentration of N = $3.98{\times}10^{13}$, applied DC field of 5 V/cm and 15 min of deposition time at an electrode distance of 1.5 cm. Under these conditions, the deposited films were sintered at $850^{\circ}C$ and $1,050^{\circ}C$ for 2 h. The results show a typical pore-free surface morphology of a uniform thickness of 400 nm under these experimental conditions.

Preparationand Characterization of Rutile-anatase Hybrid TiO2 Thin Film by Hydrothermal Synthesis

  • Kwon, Soon Jin;Song, Hoon Sub;Im, Hyo Been;Nam, Jung Eun;Kang, Jin Kyu;Hwang, Taek Sung;Yi, Kwang Bok
    • 청정기술
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    • 제20권3호
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    • pp.306-313
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    • 2014
  • 나노다공성 $TiO_2$ 필름은 주로 염료감응형 태양전지의 작동전극으로 사용된다. 지금까지 염료감응형 태양전지의 광전환효율을 높이기 위해 $TiO_2$ 나노구조체에 대한 다양한 연구가 시도되어왔다. 본 연구에서는 수열합성법을 이용하여 FTO glass 위에 루타일 $TiO_2$ 나노로드를 수직적으로 성장시켰고 그 위에 아나타제 $TiO_2$ 필름을 재 합성하였다. 이 새로운 방법은 아나타제 $TiO_2$ 합성시 요구되는 시드층 합성단계를 피할 수 있었다. 밀집한 아나타제 $TiO_2$ 층은 전자생성층으로써 고안되었고 시드층 대신 합성된 루타일 $TiO_2$ 나노로드는 생성된 전자들이 FTO glass로 이동하는 통로역할을 하게 되었다. 전자이동률을 증진시키기 위해 루타일 나노로드에 $TiCl_4$ 수용액을 이용하여 표면 처리하였고 열처리 후 표면 위에 얇은 아나타제 $TiO_2$ 필름을 형성시켰다. 합성된 루타일-아나타제 $TiO_2$ 구조체의 두께는 $4.5-5.0{\mu}m$이고 셀 테스트 결과 3.94%의 광전환효율을 얻게 되었다. 이는 루타일 $TiO_2$ 나노로드 전극과 비교했을 때 광전환효율이 상당히 향상되는 것을 확인할 수 있었다.

산화티타늄 피막의 광 전기분해 특성에 관한 연구 (A Study of Photoelectrolysis of Water by Use of Titanium Oxide Films)

  • 박성용;조병원;주재백;윤경석;이응조
    • 공업화학
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    • 제3권1호
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    • pp.88-99
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    • 1992
  • 광 전기분해시 양극으로 사용되는 산화티타늄 반도체 전극의 안정성을 증대시키고 효율향상을 위해서 순수한 티타늄 전극을 양극 산화법, 전기로 산화법, 불꽃 산화법으로 산화 피막을 제조하였으며 In을 Ti와 $TiO_2$소지에 전기도금을 한 후 전기로 산화법으로 혼합 산화물을 제조하였다. 또한 $Al_2O_3$ 와 NiO는 진공증착 방법을 이용하여 Ti 소지위에 증착시킨 후 전기로 산화법을 이용하여 혼합 산화물을 제조하였다. 에너지변환 효율(${\eta}$)은 인가전위에 따라서 다른 값을 갖는데 0.6V로 계산하여 보면 $1200^{\circ}C$의 불꽃으로 2분간 산화시킨 전극이 0.98%로 가장 큰 값을 가졌으며 양극 산화법으로 제조한 전극의 ${\eta}$는 0.14%로 작은 값을 보여 주었다. 한편 $800^{\circ}C$ 전기로에서 10분간 산화시킨 전극의 ${\eta}$는 0.57%로 띠간 에너지는 2.9eV로 나타났다. 한편 In을 Ti 및 $TiO_2$ 소지위에 전기도금시킨 전극의 ${\eta}$는 0.8%였으며 인가전위가 증가함에 따라서 ${\eta}$는 증가하였다. 그러나 $Al_2O_3$와 NiO를 Ti소지위에 진공증착시킨 전극의 ${\eta}$는 다른 전극들에 비해서 가장 낮은 값을 나타내었다.

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코어/쉘 구조의 나노입자 제조 및 증착 공정을 활용한 염료감응 태양전지 (Dye-sensitized Solar Cells Utilizing Core/Shell Structure Nanoparticle Fabrication and Deposition Process)

  • 정홍인;유종렬;박성호
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • 제57권1호
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    • pp.111-117
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    • 2019
  • 기상으로 전달된 Ti 전구체가 열 플라즈마에서 고순도의 결정질 코어-$TiO_2$로 합성됨과 동시에 기판에 바로 증착시킬 수 있는 공정을 제시한다. 제조된 코어-$TiO_2$는 외부에 노출되지 않는 상태에서 원자층증착법(Atomic Layer Deposition, ALD)에 의하여 $Al_2O_3$로 코팅된다. 코어-$TiO_2$와 코팅된 쉘-$Al_2O_3$의 형태학적 특징은 transmission electron microscope (TEM) 및 transmission electron microscope - energy dispersive spectroscopy (TEM-EDS)를 통해 분석하였다. 제조된 코어-$TiO_2$/쉘-$Al_2O_3$ 나노입자의 전기적 특성은 염료감응 태양전지(dye-sensitized solar cell, DSSC)의 작동전극에 적용하여 평가하였다. Dynamic light scattering system (DLS), scanning electron microscope (SEM), X-ray Diffraction (XRD)을 통하여 코어-$TiO_2$의 평균입도, 성장속도 및 결정구조의 무게분율을 분석한 결과, 평균입도는 17.1 nm, 코어박막의 두께는 $20.1{\mu}m$이고 주 결정구조가 Anatase로 증착된 코어-$TiO_2$/쉘-$Al_2O_3$ 나노입자를 적용한 DSSC가 기존의 페이스트 방식으로 제작한 DSSC보다 더 높은 광효율을 보여준다. 기존의 페이스트방식을 활용한 DSSC의 에너지변환효율 4.99%에 비하여 선택적으로 조절된 코어-$TiO_2$/쉘-$Al_2O_3$ 나노입자를 작동전극으로 사용한 경우가 6.28%로 26.1% 더 높은 광효율을 보여준다.

Electrical and Chemical Properties of ultra thin RT-MOCVD Deposited Ti-doped $Ta_2O_5$

  • Lee, S. J.;H. F. Luan;A. Mao;T. S. Jeon;Lee, C. h.;Y. Senzaki;D. Roberts;D. L. Kwong
    • JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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    • 제1권4호
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    • pp.202-208
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    • 2001
  • In Recent results suggested that doping $Ta_2O_5$ with a small amount of $TiO_2$ using standard ceramic processing techniques can increase the dielectric constant of $Ta_2O_5$ significantly. In this paper, this concept is studied using RTCVD (Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition). Ti-doped $Ta_2O_5$ films are deposited using $TaC_{12}H_{30}O_5N$, $C_8H_{24}N_4Ti$, and $O_2$ on both Si and $NH_3$-nitrided Si substrates. An $NH_3$-based interface layer at the Si surface is used to prevent interfacial oxidation during the CVD process and post deposition annealing is performed in $H_2/O_2$ ambient to improve film quality and reduce leakage current. A sputtered TiN layer is used as a diffusion barrier between the Al gate electrode and the $TaTi_xO_y$ dielectric. XPS analyses confirm the formation of a ($Ta_2O_5)_{1-x}(TiO_2)_x$ composite oxide. A high quality $TaTi_xO_y$ gate stack with EOT (Equivalent Oxide Thickness) of $7{\AA}$ and leakage current $Jg=O.5A/textrm{cm}^2$ @ Vg=-1.0V has been achieved. We have also succeeded in forming a $TaTi_x/O_y$ composite oxide by rapid thermal oxidation of the as-deposited CVD TaTi films. The electrical properties and Jg-EOT characteristics of these composite oxides are remarkably similar to that of RTCVD $Ta_2O_5, suggesting that the dielectric constant of $Ta_2O_5$ is not affected by the addition of $TiO_2$.

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