In the two-band excitation (TBE) model, maximum voiced frequency (MVF) is the most important feature of the excitation parameter because the synthetic speech quality depends on MVF. Thus, this paper proposes an enhanced MVF estimation scheme based on the peak picking method. In the proposed scheme, the local peak and the peak lobe are picked from the spectrum of a linear predictive residual signal. The normalized distance between neighboring peak lobes is calculated and utilized as a feature to estimate MVF. Experimental results of both objective and subjective tests show that the proposed scheme improves synthetic speech quality compared with that of the conventional one.
탈염된 참치 자숙액 중에 함유되어 있는 정미성분 및 단백질등의 유용성분을 이용할 목적으로 막반응기 장치에서 자숙액을 효소로 가수분해하여 분자량별로 분획하였으며, 그 가수분해물의 정미성을 검색하여 천연 복합조미료 및 조미간장으로서 이용 가능성을 검토하였다. 참치 자숙액 및 그 가수분해물의 주요 분자량은 9,800Da (TBH-10K TBEH-10K), 3,000 Da (TBE-5K TBEH-5K 및 TBE-1K) 및 990Da (TBE-1K TBEH-1K)으로 나타났다. 핵산관련물질 중에서 ATP 및 ADP는 검출되지 않았으며, IMP의 함량이 23.75$\mu$mole/g 으로 가장 많았고, 다음으로 inosine이 9.07 $\mu$mole/g이 였다. 분자량별로 분획된 자숙액 분말엑기스 및 가수분해물의 구성아미노산조성은 차이가 없었으나 유리 아미노산 조성의 함량은 10K, 5K, 1K 순으로 증가하였다. 자숙액의 분말 엑기스중 TBEH-1K아미노산 함량은 glycine ($20.57\%$), glutamic acid ($13.26\%$), alanine ($9.38\%$), proline ($9.06\%$), aspartic acid ($7.35\%$)의 순으로 함량이 많았으며, 이들 아미노산 조성이 전체 아미노산의 약 $60\%$ 정도를 차지하고 있는 것으로 나타났다. 그리고 glycine, proline, alanine, serine의 함량은 약 $42\%$, 감칠맛과 신맛을 내는 아미노산 glutamic acid, aspartic acid의 함량은 $21\%$로 전체 아미노산의 $63\%$가 조미료 개발에 유용한 아미노산으로 이루어져 있었다. 자숙액 가수분해물 중 TBEH-1K는 양호한 맛과 관련된 아미노산들의 함량이 약 $62\%$ 였다. 여러 가지 시판효소로 참치 자숙액을 가수분해시킨 가수분해물들은 관능평가에서 큰 차이는 볼 수 없었지만 분자량별로 분획한것 중에서 TBEH-lK가 가장 높은 점수를 얻었다 복합조미료에 대한 관능평가에서 TBEH-1K는 SCS 및 BCS보다는 낮았지만 $5\%$ 유의수준내에서 관능적으로 유의차가 없었으며, ACS보다는 좋은 평가를 얻었다. 그리고 자숙액 및 그 가수분해물로 제조된 조미간장 원액의 관능평가에서 TBEH-1K가 가장 우수하였으며, TBEH-1K로 제조된 조미간장 원액과 양조간장을 50 : 50(v/v)로 혼합한 혼합간장은 현재 시판되고 있는 산분해 화학간장의 대체품으로 이용할 수 있을 것으로 판단되었다.
본 실험은 Staphylococcus aureus 로부터 생성되는 enterotoxi B 의 분리 및 정제를 위하여 각종 분리방법을 비교 조사하였다. 배지로부터 Entrotoxin B를 추출하는 방법중 Amberlite CG-50 수지가 가장 간편하고 빠른 방법이었고 CM 수지는 Amberlite 수지에 비해 용출력이 떨어졌으며 분리할 수 있는 toxin의 양은 적었으나 정제도에 있어서는 약 75%로 toxin을 분리하는 처음 단계로서는 높은 편이었다. CM column을 Gradient 용출법으로 사용했을 때에는 하나의 column을 사용해 분리한 분리물 중 정제도가 85%로 가장 높았고, 용출 buffer의 농도 폭을 넓히는 것이 정제도를 높이기 위한 바람직한 방법이었다. 이 실험에 사용한 Sephadex G-50 , 75, 100, Sephacryl, Ultro gel 등의 gel filtration 방법 중 Ultro gel 에 의한 분리방법이 정제도에 있어서는 가장 우수했으며, 이온 교환 수지를 먼저 사용한 분리물에서는 모두 90% 이상의 toxin을 얻을수 있었지만, 한번의 분리도 거치지 않은 배지는 분리도와 정제도에서 현저히 떨어졌고, Sephadex G-50 은 gel colunm중 정제도가 가장 낮았다. FPLC는 위의 분리 ·정제 방법중 가장 빠른 방법이며, 적은 양의 시료로도 측정이 가증하였고, 정제도는 95% 이상이었다.
NAND형 charge trap flash (CTF) non-volatile memory (NVM) 소자가 30nm node 이하로 고집적화 되면서, 기존의 SONOS형 CTF NVM의 tunnel barrier로 쓰이는 SiO2는 direct tunneling과 stress induced leakage current (SILC)등의 효과로 인해 data retention의 감소 등 물리적인 한계에 이르렀다. 이에 따라 개선된 retention과 빠른 쓰기/지우기 속도를 만족시키기 위해서 tunnel barrier engineering (TBE)가 제안되었다. TBE NVM은 tunnel layer의 전위장벽을 엔지니어드함으로써 낮은 전압에서 전계의 민감도를 향상 시켜 동일한 두께의 단일 SiO2 터널베리어 보다 빠른 쓰기/지우기 속도를 확보할 수 있다. 또한 최근에 각광받는 high-k 물질을 TBE NVM에 적용시키는 연구가 활발히 진행 중이다. 본 연구에서는 Si3N4와 HfAlO (HfO2 : Al2O3 = 1:3)을 적층시켜 staggered의 새로운 구조의 tunnel barrier Capacitor를 제작하여 전기적 특성을 후속 열처리 온도와 방법에 따라 평가하였다. 실험은 n-type Si (100) wafer를 RCA 클리닝 실시한 후 Low pressure chemical vapor deposition (LPCVD)를 이용하여 Si3N4 3 nm 증착 후, Atomic layer deposition (ALD)를 이용하여 HfAlO를 3 nm 증착하였다. 게이트 전극은 e-beam evaporation을 이용하여 Al를 150 nm 증착하였다. 후속 열처리는 수소가 2% 함유된 질소 분위기에서 $300^{\circ}C$와 $450^{\circ}C$에서 Forming gas annealing (FGA) 실시하였고 질소 분위기에서 $600^{\circ}C{\sim}1000^{\circ}C$까지 Rapid thermal annealing (RTA)을 각각 실시하였다. 전기적 특성 분석은 후속 열처리 공정의 온도와 열처리 방법에 따라 Current-voltage와 Capacitance-voltage 특성을 조사하였다.
순수 참기름을 판정하기 위한 기초자료를 얻고자 산지별에 따른 5종류의 참기름과 아마인유, 들깨기름 및 대두유를 시료로 하여 TLC에 의하여 triglyceride를 분획하고 HOLC에 의하여 PN별로 분획하였다. 이상의 결과를 요약하면 다음과 같다. 1. 산지별에 따른 5종류의 참기름의 PN별 획분은 42, 44, ,46, 48 및 50으로 그 조성이 동일하여 진위 판정의 자료로 이용가능하였다. 2. 아마인유 및 들깨기름은 PN 36, 38, 40, 42, 44, 46 및 48로서 PN 36, 38 및 40획분이 주요 획분으로 특징적이었다. 3. 대두유의 Pn별 획분은 PN36~50으로 8획분이었으며 참기름의 PN별 조성과 비교하여 PN38 및 40 획분이 특징적인 peak로 감지되었다. 4. 참기름과 4% 혼합한 경우 PN별 조성으로부터 순수 참기름의 판정이 가능하였다.
Bowl-feed식 연마공정에 의한 초연마 반사경 기판의 표면 거칠기 특성이 전통적인 fresh-feed식 연마공정의 경우와 비교하여 조사하였다. Bowl-feed식 연마기법에 의해 가공된 반사경 기판의 표면 거칠기는 fresh-feed식 연마공정에 비해 약 3배 개선되었으며, 표면 거칠기 RMS값의 경우 $0.5\AA$이하, 최고 $0.3\AA$의 양호한 결과를 얻었다. 또한, 연마된 반사경 기판의 1차원 표면 거칠기 분포도와 표면 거칠기 amplitude spectrum으로부터 fresh-feed 공정에 대한 bowl-feed 연마공정의 기판표면구조 변화상태가 분석되었다.
컴포넌트의 런타임 갱신은 컴포넌트를 사용하는 프로그램을 종료하지 않고, 기존에 사용하는 컴포넌트를 그 내부가 새로 변경된 컴포넌트로 교환하는 기술이다. 최근 소프트웨어 개발에서는 기존 컴포넌트를 재활용하여 새로운 소프트웨어를 개발하는 추세이다. 그러나 컴포넌트가 시간 측면에서 연속적인 서비스를 제공해야하는 소프트웨어에 사용될 때 컴포넌트를 새롭게 기능이 바뀐 것으로 변경하려면 기존 소프트웨어를 종료해야한다. 이 경우 기존 소프트웨어의 서비스를 제공받는 사용자는 서비스를 다시 요구해야 되며 때로는 자신이 사용하는 정보를 손실하는 경우도 발생한다. 따라서, 본 논문에서는 기존 컴포넌트 갱신 방법의 문제점을 해결하기 위하여 소프트웨어를 종료하지 않고 그 소프트웨어를 구성하는 컴포넌트를 새로운 컴포넌트로 갱신하기 위한 방법을 제시한다.
대부분의 기술기반창업기업이 죽음의 계곡(VoD: valley of death)을 극복하지 못하고 쇠퇴하거나 소멸하는 과정을 겪게 된다. 본 연구는 기술기반창업기업의 성장차원을 구분하고, 기술기반창업기업의 기업활동이 기업성장에 미치는 영향력의 시간 흐름에 따른 변화를 확인할 목적으로 수행되었다. 본 연구는 다수의 성장지표에 대한 탐색적요인분석(EFA: exploratory factor analysis)을 통해 규모와 수익으로 구분된 2차원의 성장차원을 확인하였으며, 규모와 수익으로 구분된 4가지 상태와 폐업을 포함한 5가지 상태의 이산적 기업성장상태를 정의하였다. 기술기반창업기업의 기업활동이 기업성장에 미치는 영향은 고용활동, 마케팅활동, 연구개발활동, 재무활동, 일반관리활동 등 5가지 대표적인 기업활동을 독립변수로 하고, 이산적 기업성장상태(규모×수익, 폐업)를 종속변수로 한 다항로짓모형(MNL: multi-nomial logit model)을 이용하여 분석하였다. 시간 흐름에 따른 기술기반창업기업의 성장단계는 창업생존율이 급격하게 저하되는 주요 기간을 고려하여 창업초기, 창업중기, 창업후기 등의 3단계로 업력을 범주화하였다. 본 연구의 분석자료는 정부·공공기관의 창업지원기업에 대한 2차자료를 바탕으로 하였으며, 분석대상은 업력 10년 이내의 기술기반창업기업으로 하였다. 분석결과 기술기반창업기업의 고용활동과 마케팅활동은 창업초기와 중기의 활동이 기업성장상태에 영향을 미치는 것으로 나타났으며, 고용활동은 긍정적 영향과 부정적 영향을 함께 미치는 반면, 마케팅활동은 규모와 수익 성장에 긍정적 영향만을 미치는 것으로 나타났다. 그리고 연구개발활동, 재무활동, 일반관리활동은 기업성장 전 과정에서 기업성장상태에 긍정적 영향과 부정적 영향을 함께 미치는 기업활동으로 나타났다. 아울러 기업의 고유특성인 창업자 창업당시 연령, 기업의 업종 및 소재지역은 성장단계에 따라 기업성장상태에 차별적인 영향을 미치는 것으로 확인되었다.
The electrical characteristics of tunnel barrier engineered charge trap flash (TBE-CTF) memory with $SiO_2/Si_3N_4/SiO_2/Si$ engineered tunnel barrier, $HfO_2$ charge trap layer and $Al_2O_3$ blocking oxide layer (MAHONOS) were investigated. The energy bad diagram was designed by using the quantum-mechanical tunnel model (QM) and then the CTF memory devices were fabricated. As a result, the best thickness combination of MAHONOS is confirmed. Moreover, not enhanced P/E speed (Program: about $10^6$ times) (Erase: about $10^4$ times) but also enhanced retention and endurance characteristics are represented.
Tunneling barrier engineered charge trap flash (TBE-CTF) memory capacitor were fabricated using the tunneling barrier engineering technique. Variable oxide thickness (VARIOT) barrier and CRESTED barrier consisting of thin $SiO_2$ and $Si_3N_4$ dielectrics layers were used as engineered tunneling barrier. The charge trapping characteristic with different metal gates are also investigated. A larger memory window was achieved from the TBE-CTF memory with high workfunction metal gate.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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